本发明提供一种具有自适应控制功能的光刻机电机系统，控制模块、传感器，其中：所述传感器实时采集电机的运行数据，将采集到的电机运行参数传输给控制模块；所述控制模块接收传感器采集的电机运行参数，并通过自适应控制算法能够根据历史数据和实时反馈，...

本发明公开一种用于浸没式光刻机的浸没头检测装置及方法，涉及浸没头检测技术领域；包括外箱，外箱内部一端设置有检测维护机构，在外箱内部滑动设置有检测执行机构，检测执行机构包括作业台，在作业台的两个端面上，其中一个端面设置有超声清洁机构，另一...

本发明提供一种高精度电子束偏转补偿方法，包括以下步骤：S1、实时监测电子束的偏转状态；S2、将获取的偏转状态作为输入值，计算补偿量；S3、将补偿量转化为控制信号，驱动补偿装置对电子束进行补偿；S4、对补偿后的电子束进行质量评估，以确保补...

本发明提供一种多波长相位调制扫描量测系统及方法，其中，系统通过辐射源产生的多波长光束，经过第一光学系统的分束和相位调制后，分别照射到目标结构上。由于不同波长的光束对目标结构的响应不同，因此可以通过调整相位差来优化测量效果。散射光束在成像...

本申请涉及半导体制造技术领域，公开了一种光刻曝光方法及设备，包括以下步骤：S1、预准备：初始化掩模、光源发射器及PLC模块参数；S2、路径规划：根据曝光图案优化路径布局；S3、平台定位：利用磁环与电磁线圈实现纳米级定位和姿态调整；S4、...

本发明提供一种光刻硅片表面压力测量方法，包括：S1、制备测压硅片：所述测压硅片内嵌入有多个测压芯片；所述测压芯片通过微小通道与外部数据采集系统相连接，以实时采集并传输压力数据；S2、预处理：S3、安装测压硅片；S5、数据采集：通过数据采...

本发明提供一种光刻用涂胶显影系统，该光刻用涂胶显影系统包括涂布系统、泵送系统、智能调整模块，其中：所述涂布系统用于将光刻胶涂布在基材上；所述泵送系统用于向涂布系统提供稳定、连续的光刻胶供应，所述泵送系统能够根据不同光刻胶的光敏特性自动调...

本发明提供一种多波段多光源的混合照明系统，包括光源组、光束合成模块、控制系统：所述光源组包括多种不用波长的光源；所述光束合成模块包括光束整形机构、光束合束机构和功率均衡机构；所述控制系统用于调节光源的输出功率、曝光时间和光束形状参数。本...

本技术涉及光刻机设备技术领域，尤其涉及一种光刻机设备移载机构。其包括升降机构、设置在所述升降机构上的安装定位板、以及用于承载光刻机设备的支撑平台，所述支撑平台包括上支撑平台和下承重平台，在所述上支撑平台底部四周均设置有下安装块，在所述下...

本发明涉及光束测量技术领域，尤其涉及一种平行光束质量检测装置及其检测方法。其包括缩束透镜组、设置在所述缩束透镜组旁侧的剪切干涉仪、设置在所述剪切干涉仪一面的哈特曼‑夏克波前传感器、设置在所述剪切干涉仪另一面的相机、以及用来聚焦且置于所述...

本实用新型涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种光刻机快门的漏光检测系统

本发明涉及铣削刀具技术领域，尤其涉及一种激光器光束自校准的检测装置。其包括可调节的调节支架、连接座、设置在所述连接座前端的参考安装架、设置在所述参考安装架上的检测单元，所述检测单元包括由前向后依次设置的聚焦透镜、用来测量激光光束Rz位置...

本实用新型涉及水处理技术领域，尤其涉及一种光刻机高纯水恒温恒压供水系统。其包括其包括高纯水粗调单元，与所述高纯水粗调单元相接通的高纯水精调单元且所述高纯水粗调单元一端接有进水端，所述高纯水精调单元包括增压泵、减压恒压阀、精控温度系统、以...

本实用新型涉及集装箱技术领域，尤其涉及一种高端光刻机航空运输专用集装箱。包括集装箱，所述集装箱上接通有梯形的集装箱上部，所述集装箱包括集装箱框架、配合集装箱框架安装的封板，所述集装箱框架包括底架、置于底架前端两侧的前角柱、用于连接底架与...