本发明公开了一种软膜替换及纳米压印一体设备，包括软膜复制工位；压印工位，若干个独立的压印工位用于进行纳米压印，压印工位与软膜复制工位之间设有载盘存放区、软膜存放区；层叠架，压印工位设为两排，层叠架与其中一排压印工位齐平，层叠架上具备晶圆...

本发明公开了一种混胶机构，包括混合机构，具备混胶缸和位于混胶缸上方的第一点胶阀、第二点胶阀，第一点胶阀、第二点胶阀分别向混胶缸的上开口注入不同的胶水，混胶缸的内部还设有搅动机构；抽真空机构，具备真空发生器和密封盖，密封盖对混胶缸的上开口...

本实用新型公开了一种全自动量产型纳米压印装置，包括：底座，底座上设有导轨；多个纳米压印机构，纳米压印机构设置于底座上且分布于导轨长度方向的两侧；供料机构，包括料片供料机构和软膜板供料机构，料片供料机构和软膜板供料机构设置于底座上且位于导...

本实用新型公开一种用于压印模板的真空沉积装置，其包括：壳体，在壳体上设有一密封空腔，压印模板放置于该密封空腔内，在壳体上设有与密封空腔连通的药品接口，气态的FDTS从该药品接口进入密封空腔内；抽真空组件，包括：与密封空腔连通的真空接口以...

本发明公开一种过滤膜的制备方法，其包括以下步骤：1)涂胶，在基膜的表面涂覆一层均匀的压印胶，在基膜表面形成压印胶层；2)压印，压印模板下压，使得压印模板上凸出的纳米结构与压印胶层表面接触，在压印胶层表面形成相应的图形化纳米结构；3)刻蚀...

本发明公开了一种全自动量产型纳米压印装置，包括：底座，底座上设有导轨；多个纳米压印机构，纳米压印机构设置于底座上且分布于导轨长度方向的两侧；供料机构，包括料片供料机构和软膜板供料机构，料片供料机构和软膜板供料机构设置于底座上且位于导轨长...

本发明公开一种用于压印模板的真空沉积装置，其包括：壳体，在壳体上设有一密封空腔，压印模板放置于该密封空腔内，在壳体上设有与密封空腔连通的药品接口，气态的FDTS从该药品接口进入密封空腔内；抽真空组件，包括：与密封空腔连通的真空接口以及与...

本发明公开了一种纳米压印复合模板的制备方法，包括以下步骤：1)母板的制备；2)溶液的准备；3)纳米压印复合模板的制备。本发明的纳米压印复合模板的制备方法，将硫一烯点击化学和POSS氟化物的优势结合起来，与传统的PDMS软模板相比，该软模...

本实用新型公开一种大滚轮紫外线软压印装置，用于对衬底表面的压印胶进行压印，其包括：滚轮，在滚轮内部设有紫外线光源，且紫外线光源发出的紫外光能从滚轮射出；软膜模板，其设置于滚轮的外表面，且在软膜模板上设有压印图形，用于对衬底表面的压印胶进...

本实用新型公开了一种具有水冷机构的纳米热压印装置，其包括：加热机构，其内设置有加热腔；水冷机构，其设置于加热机构的底部，水冷机构具有腔体，腔体内充有冷却液体，腔体的底部设置有制冷片，且腔体的内部还设置有将冷却液体抽到加热腔处的驱动单元。...