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舜宇奥来微纳光学上海有限公司专利技术
舜宇奥来微纳光学上海有限公司共有6项专利
眼动追踪发光组件和AR设备制造技术
本技术提供了一种眼动追踪发光组件和AR设备。眼动追踪发光组件包括:光源;反光元件,反光元件位于光源的出光侧,反光元件包括透明基底层和透明介质层,透明介质层为一层或多层,至少一层透明介质层位于透明基底层远离光源的一侧表面上,至少一层透明介...
光栅制备方法、光栅结构以及光波导技术
本披露公开了一种光栅制备方法、光栅结构以及光波导,所述光栅制备方法包括:在衬底表面镀光学膜层,并对所述光学膜层进行刻蚀,以使所述光学膜层形成光栅齿;向所述光栅齿的间隙填充材料,以形成填充层,其中所述填充材料和所述光栅齿为不同的材料;以及...
改善衍射光学元件的零级衍射效应的加工方法技术
本发明提供了一种改善衍射光学元件的零级衍射效应的加工方法。改善衍射光学元件的零级衍射效应的加工方法,包括:加工步骤:加工生成衍射光学元件;检测步骤:检测衍射光学元件的零级亮斑能量分布,根据零级亮斑能量分布确定衍射光学元件的零级能量突出区...
衍射光波导及其的加工方法技术
本发明提供了一种衍射光波导及其的加工方法。衍射光波导包括:基底;耦出刻蚀光栅区,耦出刻蚀光栅区设置在基底上;压印层,压印层和耦出刻蚀光栅区位于基底的同一侧表面上,且耦出刻蚀光栅区被压印层填充包覆,压印层远离基底的一侧表面具有耦入压印光栅...
眼动追踪发光组件和AR设备制造技术
本发明提供了一种眼动追踪发光组件和AR设备。眼动追踪发光组件包括:光源;反光元件,反光元件位于光源的出光侧,反光元件包括透明基底层和透明介质层,透明介质层为一层或多层,至少一层透明介质层位于透明基底层远离光源的一侧表面上,至少一层透明介...
纳米压印对位方法、装置、计算机设备和存储介质制造方法及图纸
本申请涉及一种纳米压印对位方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括:实时获取所述相机采集的实时图像;所述实时图像中包括所述第一透明板和所述第二透明板;基于实时图像,对所述第一透明板和第二透明板进行位置调整;所述基于实时图像,对所述...
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