本发明涉及无机材料制备技术领域，具体公开一种二氧化硅胶粒及包含其的分散液和制备方法。所述二氧化硅胶粒是由真实密度为1.60～2.20g/cm

本发明涉及半导体抛光技术领域，具体公开一种硅溶胶及其制备方法。该硅溶胶具备如下特征：按质量含量算，当硅溶胶中的固含量为20％时，硅溶胶中胶状低聚物的质量含量<200ppm；胶粒表面的硅烷醇基密度为2.0‑6.0个/nm

本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，具体公开一种胶体表面呈凸起状的硅溶胶及其制备方法和应用。所述胶体表面呈凸起状的硅溶胶，包括液体介质和胶体粒子，所述胶体粒子为狼牙棒状、且表面带凸起的二氧化硅胶体粒子，所述凸起的高度H为1～8nm；所...

本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，具体公开一种颗粒形态可控的硅溶胶及其制备方法。所述制备方法，包括如下步骤：配制若干组烷氧基硅烷质量含量≥95％的酸性组合液和含有碱催化剂、高纯水及有机溶剂的母液；将一组所述酸性组合液加入到所述母液中...

本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，具体公开一种结构致密的硅溶胶及其制备方法。所述制备方法，包括如下步骤：将烷氧基硅烷滴加到含有碱催化剂、水及有机溶剂的混合液中，得到第一硅溶胶；用纯水稀释，加热至沸腾，回流反应，溶剂置换得到第二硅溶胶...

本实用新型涉及半导体制品附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体材料研磨液生产用反应釜；方便放出工作腔内的全部物料，给使用者带来便利；并且，其工作模式较为多样，从而提高其使用可靠性；包括机箱、挡板、减速机、电加热棒和驱动电机，机箱内设置...

本实用新型涉及半成品补液附属装置的技术领域，特别是涉及一种高纯硅溶胶生产用补液釜，其主体原材能够方便进行补充；并且其工作箱可以方便进行拆卸单独使用；而且各半成品原材混合方式较为省力；包括底板、工作箱、卸料管和四组支架，工作箱内部设置有工...

本实用新型涉及半成品补液附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体材料研磨液生产用补液釜，其卸料管卸料时能够方便卸干净；并且可以增加其整体安装固定方式；而且能够方便对工作箱内部进行观察；包括底板和工作箱，工作箱内部设置有工作腔，工作箱顶端...

本实用新型涉及溶胶成核附属装置的技术领域，特别是涉及一种高纯硅溶胶生产用成核反应釜，其搅拌方式较为省力，提高其实用性；而且工作箱内部可以方便进行观察，从而提高其适应能力；包括工作箱，工作箱内部设置有工作腔，工作箱顶端连通设置有取放口，并...

本实用新型涉及过滤净化附属装置的技术领域，特别是涉及一种精细化抛光溶液用超滤膜装置，可便于过滤网的安装和拆卸；可对通过超滤膜的液体原料施加稳定而持续的压力；包括箱体、过滤网和超滤膜本体，箱体右侧壁下半区域连通设置有连接管；还包括左固定板...

本实用新型涉及抛光打磨附属装置的技术领域，特别是涉及一种精细化抛光溶液用陶瓷超滤膜浓缩设备，包括加工箱、进液管、出液管、左陶瓷膜、右陶瓷膜、盖板、左出水管、右出水管、左水泵和右水泵；还包括左支柱、右支柱、左支撑板、右支撑板、一组左挡板、...

本实用新型涉及研磨液生产附属装置的技术领域，特别是涉及一种半导体材料研磨液生产用精馏釜，其可以回收溶液中蒸发的水分，方便对其进行回收再利用，减少对水资源的浪费；并且可以提高对研磨液的加热均匀性，提高其精馏效果；包括工作箱和加热装置；还包...

本实用新型涉及分离设备附属装置的技术领域，特别是涉及一种高纯硅溶胶生产用精馏釜，其可以通过增设压力报警装置来降低工作人员第一时间发现精馏釜内压力增大的难度，因而降低了精馏釜发生爆炸的概率；并且将搅拌轴下侧的三组搅拌叶在高纯硅溶胶内倾斜搅...

本发明涉及无机纳米材料合成技术领域，具体公开一种高固含高纯硅溶胶及其制备方法。所述高固含高纯硅溶胶，包括摩尔数如下的原料组分：低分子醇31‑160 mol；pH调节剂0.05‑0.5 mol；硅酸酯25‑95 mol；去离子水120‑2...

本发明涉及粘结剂技术领域，具体公开一种多晶硅铸锭石英坩埚高纯石英砂涂层粘结剂及其制备方法。所述多晶硅铸锭石英坩埚高纯石英砂涂层粘结剂，包括质量百分比如下的原料组分：水溶性硅氧烷或羧基改性聚合物10%‑20%；硅溶胶10%‑20%；增塑剂...

本发明涉及粘结剂技术领域，具体公开一种多晶硅铸锭石英坩埚氮化硅涂层用粘结剂及其制备方法。所述多晶硅铸锭石英坩埚氮化硅涂层用粘结剂，包括质量百分比如下的原料组分：水溶性聚合物10%‑20%；水溶性硅氧烷或羧基改性聚合物1%‑10%；硅酸酯...