深圳市新凯来工业机器有限公司专利技术

深圳市新凯来工业机器有限公司共有39项专利

  • 本申请涉及分流板、分流组件、分流装置及电子设备。分流板包括进口、N个出口及第一流道至第N流道,进口位于分流板的一侧,N个出口位于分流板的另一侧,第一流道至第N流道的一端均连通进口,第一流道至第N流道的另一端一一对应地连通N个出口,第一流...
  • 本申请提供一种等离子体处理设备,涉及半导体设备技术领域,用于解决介电窗向设备本体漏热的技术问题,该等离子体处理设备包括设备本体,具有反应腔,设备本体的顶部具有与反应腔连通的开口;介电窗支撑件控温装置,被配置为向介电窗提供高温气流,以使介...
  • 本申请提供一种换针装置及显微镜。显微镜包括换针装置、压电扫描器以及探针;换针装置包括外壳、磁流体、磁性件以及气路系统;磁流体安装于外壳,磁流体与外壳围出容置空间;磁性件活动设置在容置空间内,磁性件将容置空间分隔为第一空间和第二空间,相对...
  • 一种光学器件和半导体设备,涉及光学仪器技术领域,本申请提供的光学器件包括套筒、波片、导向圈和压圈,套筒设置有支撑部,压圈、导向圈、波片和支撑部沿轴向依次设置,导向圈上设有第一限位结构,套筒内设有第二限位结构,第一限位结构和第二限位结构配...
  • 本公开实施例提供一种探针检测方法、结构、装置及电子设备,该方法包括:在待检测对象的检测过程中,响应于探针的扫描距离满足预设条件,根据第一预设指令控制探针移动至预设样本所在位置;预设样本用于构建探针的针尖形貌;根据第二预设指令控制探针扫描...
  • 本申请提供一种可升降磁悬浮装置及热处理设备,磁悬浮装置包括腔室、磁悬浮定子、磁悬浮转子、升降装置和多个传感器,腔室用于容纳磁悬浮转子,磁悬浮定子环绕于腔室外周。其中,至少一个传感器与磁悬浮定子相对固定,至少一个传感器用于检测磁悬浮转子的...
  • 本申请提供一种具有磁性组件的半导体设备,属于半导体工艺技术领域,该半导体设备包括腔室、准直器以及磁性组件。准直器位于腔室中,磁性组件呈环状位于腔室的外周侧。磁性组件包括第一电磁线圈、第二电磁线圈以及第三电磁线圈,第一电磁线圈位于腔室的外...
  • 一种镜筒和半导体设备,涉及光学元件技术领域,镜筒包括镜组、套筒和壳体,镜组容置于套筒内,套筒上设置有第一进气孔和第一出气孔,镜组分隔通道为至少一个子通道,第一进气孔和第一出气孔位于镜组的相对两侧,第一进气孔、子通道和第一出气孔依次连通;...
  • 本申请实施例公开了一种晶圆图像扫描方法、装置、终端设备和可读存储介质,上述方法包括:获取前馈参数;获取反馈参数;基于前馈参数和反馈参数获得晶圆扫描的控制参数;基于控制参数控制晶圆图像扫描设备对晶圆进行扫描以获取第一晶圆图像,第一晶圆图像...
  • 本公开实施例提供一种晶圆检测方法及晶圆检测系统,该方法包括:根据接收到的检测指令,控制运动台上的水平横移台以及转台进行加速运动,其中,在加速运动过程中,任一时刻水平横移台的移动速度和转台的转速的矢量和等于第一恒线速度,其中,所述运动台上...
  • 一种工艺组件和半导体设备,涉及半导体相关技术领域,工艺组件包括加热件、固定件和反射件,加热件用于加热晶圆;固定件具有固定面,固定面用于固定晶圆;反射件位于固定件背离加热件的一侧,反射件具有反射面,反射面为反射件朝向固定面一侧的外侧面,反...
  • 本申请提供一种具有加热结构的半导体设备,涉及半导体制造工艺技术领域,包括粒子准直器、第一加热结构和第一适配器,其中粒子准直器内部设有可供粒子束穿过的准直孔。第一加热结构位于粒子准直器的外周侧,第一加热结构用于对粒子准直器进行加热释气。第...
  • 本申请涉及工艺处理设备技术领域,尤其涉及到一种进气分流器、进气结构、半导体工艺腔室及半导体设备。该进气分流器包括分流器本体,该分流器本体具有进气端和出气端;分流器本体设置有进气通道,进气通道具有进气口和至少两个出气口。其中,进气口位于分...
  • 一种静电卡盘和半导体设备,涉及半导体技术领域,静电卡盘包括主盘体、连接杆、基座和限位组件,连接杆一端与主盘体连接,连接杆的另一端具有第一凹陷部,第一凹陷部内设置有第一限位座;基座与连接杆的另一端连接,基座具有第二凹陷部,第二凹陷部内设置...
  • 本申请提供一种盖板及热处理装置,属于热处理技术领域,盖板包括基底和依次层叠在基底一面上的低辐射层、传热层和吸收层。吸收层能够吸收红外光并转化为热能,传热层将热能传递至基底,使基底温度升高,低辐射层能够减小基底温度升高而因热辐射损失的能力...
  • 本申请提供一种对准装置及对准方法,涉及加工设备技术领域。对准装置可包括工作台、第一图像采集器和信息处理模块;工作台具有用于承载工件的承载面,工件上具有标记图案,第一图像采集器的中心线与承载面垂直,第一图像采集器用于采集设置在工件上标记图...
  • 一种具有升降结构的工艺处理设备,涉及半导体工艺处理技术领域,该工艺处理设备包括框架结构、升降结构以及工艺腔室。升降结构包括驱动组件和移动框架,驱动组件安装于框架结构。驱动组件传动连接移动框架以驱动移动框架沿设定方向往复移动,设定方向平行...
  • 一种调节组件和半导体设备,涉及半导体技术领域,调节组件包括第一固定板、第二固定板、调节板、第一调节件和第二调节件,第一固定板用于连接支撑架,第二固定板用于连接晶圆托盘,调节板分别与第一固定板和第二固定板连接,调节板和第一固定板绕第一轴向...
  • 本申请实施例公开了一种上电极、等离子体刻蚀设备及温度控制方法,其中,上电极包括:喷淋头结构、冷却结构、至少一个第一加热结构以及至少一个第二加热结构,通过设置第一加热结构和第二加热结构,第一加热结构和第二加热结构能够分别为喷淋头结构加热,...
  • 本申请实施例提供一种单色仪及光学设备,该单色仪包括光输入组件、第一光输出组件、第一滤光组件以及第二滤光组件;光输入组件和第一光输出组件间隔设置;第一滤光组件和第二滤光组件间隔设置在光输入组件与第一光输出组件之间;第一滤光组件包括第一滤光...