本申请涉及工艺处理设备技术领域，尤其涉及到一种进气分流器、吹扫结构及工艺腔室。该进气分流器包括分流器本体；分流器本体具有第一端面、第二端面以及位于第一端面和第二端面之间的侧面；分流器本体设置有换向通道和导流通道，换向通道连通于侧面与第一...

本申请涉及工艺处理技术领域，特别涉及一种工艺腔室及工艺处理设备。该工艺腔室包括腔体和载盘，腔体具有沿第一方向分布的反应腔和支撑腔，载盘可转动地设置于腔体内，载盘的转动中心平行于第一方向。腔体设置有基板装载通道、气体导入通道以及气体导出通...

本申请实施例提供了一种物镜镜头和光学设备。光学设备包括光源和物镜镜头。物镜镜头包括前镜组和后镜组，从物侧到像侧，前镜组与后镜组依次排布；前镜组具有正光焦度，后镜组具有负光焦度；前镜组包括多个第一透镜，多个第一透镜中的至少一个第一透镜具有...

本申请涉及热处理技术领域，尤其涉及到一种加热装置及工艺处理设备。加热装置可用于对待加热器件进行加热，待加热器件放置在可绕中心轴旋转的支撑部件上，加热装置包括多组周向热辐射单元，多组周向热辐射单元由中心轴向所述中心轴外周扩散，每组周向热辐...

成像装置及成像系统，成像装置包括：照明模块、成像模块、光路切换模块和多个物镜均收容在外壳所封闭包围的内腔中，多个物镜分别嵌设在外壳上并穿设外壳，多个物镜的倍率均不同；照明模块用于发射照明光束，光路切换模块用于将照明光束切换到不同的物镜上...

本申请提供了一种半导体工艺腔室和半导体工艺设备，半导体工艺腔室包括腔室和气体注射器；腔室的腔壁围成内腔，腔壁设有第一通道，第一通道具有第一开口，第一通道通过第一开口与内腔连通，第一通道的表面包括第一表面，第一表面朝向第一开口；气体注射器...

本申请实施例公开了一种射频功率合成器、射频电源及电子设备，该射频功率合成器包括：多个输入端口、多个传输通道、输出端口以及隔离电路。多个传输通道的第一端口与多个输入端口一一对应连接，多个传输通道的第二端口与输出端口连接，多个传输通道中相邻...

本申请涉及分流板、分流组件、分流装置及电子设备。分流板包括进口、N个出口及第一流道至第N流道，进口位于分流板的一侧，N个出口位于分流板的另一侧，第一流道至第N流道的一端均连通进口，第一流道至第N流道的另一端一一对应地连通N个出口，第一流...

本申请提供一种等离子体处理设备，涉及半导体设备技术领域，用于解决介电窗向设备本体漏热的技术问题，该等离子体处理设备包括设备本体，具有反应腔，设备本体的顶部具有与反应腔连通的开口；介电窗支撑件控温装置，被配置为向介电窗提供高温气流，以使介...

本申请提供一种换针装置及显微镜。显微镜包括换针装置、压电扫描器以及探针；换针装置包括外壳、磁流体、磁性件以及气路系统；磁流体安装于外壳，磁流体与外壳围出容置空间；磁性件活动设置在容置空间内，磁性件将容置空间分隔为第一空间和第二空间，相对...

一种光学器件和半导体设备，涉及光学仪器技术领域，本申请提供的光学器件包括套筒、波片、导向圈和压圈，套筒设置有支撑部，压圈、导向圈、波片和支撑部沿轴向依次设置，导向圈上设有第一限位结构，套筒内设有第二限位结构，第一限位结构和第二限位结构配...

本公开实施例提供一种探针检测方法、结构、装置及电子设备，该方法包括：在待检测对象的检测过程中，响应于探针的扫描距离满足预设条件，根据第一预设指令控制探针移动至预设样本所在位置；预设样本用于构建探针的针尖形貌；根据第二预设指令控制探针扫描...

本申请提供一种可升降磁悬浮装置及热处理设备，磁悬浮装置包括腔室、磁悬浮定子、磁悬浮转子、升降装置和多个传感器，腔室用于容纳磁悬浮转子，磁悬浮定子环绕于腔室外周。其中，至少一个传感器与磁悬浮定子相对固定，至少一个传感器用于检测磁悬浮转子的...

本申请提供一种具有磁性组件的半导体设备，属于半导体工艺技术领域，该半导体设备包括腔室、准直器以及磁性组件。准直器位于腔室中，磁性组件呈环状位于腔室的外周侧。磁性组件包括第一电磁线圈、第二电磁线圈以及第三电磁线圈，第一电磁线圈位于腔室的外...

一种镜筒和半导体设备，涉及光学元件技术领域，镜筒包括镜组、套筒和壳体，镜组容置于套筒内，套筒上设置有第一进气孔和第一出气孔，镜组分隔通道为至少一个子通道，第一进气孔和第一出气孔位于镜组的相对两侧，第一进气孔、子通道和第一出气孔依次连通；...

本申请实施例公开了一种晶圆图像扫描方法、装置、终端设备和可读存储介质，上述方法包括：获取前馈参数；获取反馈参数；基于前馈参数和反馈参数获得晶圆扫描的控制参数；基于控制参数控制晶圆图像扫描设备对晶圆进行扫描以获取第一晶圆图像，第一晶圆图像...

本公开实施例提供一种晶圆检测方法及晶圆检测系统，该方法包括：根据接收到的检测指令，控制运动台上的水平横移台以及转台进行加速运动，其中，在加速运动过程中，任一时刻水平横移台的移动速度和转台的转速的矢量和等于第一恒线速度，其中，所述运动台上...

一种工艺组件和半导体设备，涉及半导体相关技术领域，工艺组件包括加热件、固定件和反射件，加热件用于加热晶圆；固定件具有固定面，固定面用于固定晶圆；反射件位于固定件背离加热件的一侧，反射件具有反射面，反射面为反射件朝向固定面一侧的外侧面，反...

本申请提供一种具有加热结构的半导体设备，涉及半导体制造工艺技术领域，包括粒子准直器、第一加热结构和第一适配器，其中粒子准直器内部设有可供粒子束穿过的准直孔。第一加热结构位于粒子准直器的外周侧，第一加热结构用于对粒子准直器进行加热释气。第...

本申请涉及工艺处理设备技术领域，尤其涉及到一种进气分流器、进气结构、半导体工艺腔室及半导体设备。该进气分流器包括分流器本体，该分流器本体具有进气端和出气端；分流器本体设置有进气通道，进气通道具有进气口和至少两个出气口。其中，进气口位于分...