本技术公开了一种抗氧化高透明低电阻导电膜，其包括有基材，所述基材的表面设有第一硅镀层，所述硅镀层的表面设有银镀层，所述银镀层的表面设有第二硅镀层，所述第二硅镀层的表面设有ITO层。上述导电膜中，其结合了银导电膜与ITO膜特性，采用ITO...

本发明公开了一种双面导通的柔性电路板的制造方法，属于柔性电路板技术领域，所述双面导通的柔性电路板的制造方法如下：S1、基材打孔：根据设计好的电路连接要求，通过激光打孔设备在柔性树脂基板上打通孔；S2、基材清洗：通过薄膜材料表面清洗设备对...

本实用新型公开了一种柔性基底

本发明公开了一种磁控反应溅射工艺气体布气装置及布气方法，其包括有腔室，待溅射的基板位于腔室的顶部开口处，腔室内气体导流罩，气体导流罩内设有阴极靶，气体导流罩的上方开口处设有上布气管和下布气管，上布气管和下布气管分别用于向腔室内注入反应气...

本实用新型涉及镀膜结构技术领域，尤其是一种卷绕式双面镀膜机结构，包括外壳、薄膜以及多块分离隔板，所述放卷室、第一镀膜室、第二镀膜室以及收卷室的连接处安装有薄膜传送量与速度控制室，所述薄膜传送量与速度控制室的内部安装有张力控制器，所述第二...

本实用新型公开了一种卷绕式镀膜设备用隔离阀，属于镀膜设备技术领域，本实用新型包括下闸板，固定安装在真空腔室内部，用于承载镀膜，包括上闸板，转动连接在所述下闸板上，用于活动封闭与所述下闸板之间的间隙，包括橡胶膜组件，布设在所述下闸板和所述...

本实用新型适用于镀膜机设备技术领域，提供了一种卷绕式镀膜机，所述镀膜机包括：放卷室，其内设有放卷辊；收卷室，其内设有收卷辊；以及镀膜室，安装于放卷室与收卷室之间，用于对镀膜基材进行镀膜；所述镀膜机还包括：第一前处理室，安装于放卷室与镀膜...

本发明公开了一种分光薄膜真空磁控镀膜方法，属于真空镀膜领域。本发明的一种分光薄膜真空磁控镀膜方法，采用真空磁控溅射卷绕式镀膜机，以金属铌靶(NbO

本发明公开了一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺，属于真空镀膜领域。本发明的一种高亮银色多介质薄膜真空磁控溅射制备工艺，采用真空磁控溅射卷绕式镀膜机，以金属铌靶(NbO

本发明公开了一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法，属于真空镀膜领域。本发明的一种真空溅射连续沉积镀铜膜方法，将Cu沉积和Ar离子轰击作为一个沉积单元，重复3～5次即可完成超过600nm厚度铜膜的镀层，Ar离子轰击可以有效促进铜离子(粒子(原子...