深圳市天星达真空镀膜设备有限公司专利技术

深圳市天星达真空镀膜设备有限公司共有6项专利

  • 本实用新型公开了一种磁控溅射纳米疏水膜制备装置,包括真空室、蒸发室、真空获得系统、真空计、充气系统、磁控溅射系统、转架和加热丝,所述磁控溅射系统包括偏压电源和磁控溅射阴极,所述偏压电源分别与转架和磁控溅射阴极电连接,所述磁控溅射阴极和真...
  • 柔性薄膜间隙卷绕磁控溅射真空镀膜机
    本新型公开了柔性薄膜间隙卷绕磁控溅射真空镀膜机,包括:真空室;镀膜辊,设于真空室内,其侧壁设有可容纳镀膜基材的开口;收卷辊和放卷辊,设于镀膜辊内,并分别位于镀膜辊的开口两侧;当镀膜时,收卷辊和放卷辊能相对于镀膜辊静止并随镀膜棍转动;当收...
  • 显示屏保护面板
    本实用新型提供的显示屏保护板,包括基片、设于基片上的膜层,膜层包括依次设置的耐冲击加硬强化膜层、非导电半透明光透过率调节膜层、颜色调节膜层、金属保护膜层、防油污防指纹膜层、包装保护膜。本实用新型提供的显示屏保护板,重量轻、硬度高、半透明...
  • 本实用新型提供了一种鼠笼型摆线式工件架,它包括前导轨、鼠笼型工件篮、后导轨、传动座、电动机、齿轮、支撑架和光电开关,前导轨和后导轨设置在支撑架上,支撑架连接传动座,传动座连接电动机和光电开关,鼠笼型工件篮设置在前导轨和后导轨上,齿轮安装...
  • 本实用新型提供了一种真空镀膜弧光辉光协同放电物理气相沉积装置,采用离子镀磁控溅射弧光辉光协同放电气相沉积混合薄膜,它包括磁铁、圆柱靶、靶面,磁铁设置在圆柱靶上,靶面设置在圆柱靶外围。采用一改常用的平面靶及垂直放置的方式,采用多弧圆柱靶水...
  • 本实用新型提供了一种低温沉积大面积类金刚石薄膜的装置。它包括上电极、下电极、匀气装置、抽气调节阀、分子泵、直联机械泵、净化阀、充气罐、气瓶和负偏压监测仪,上电极、下电极放在真空室中,通过抽气调节阀同分子泵和直联机械泵相连接,分子泵连接净...
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