深圳市乐工新技术有限公司专利技术

深圳市乐工新技术有限公司共有17项专利

  • 本实用新型公开一种异性导体屏蔽线材及电子产品,其中,异性导体屏蔽线材包括:导体线芯,所述导体线芯的横截面呈方形,所述导体线芯的最大边长尺寸为1.5μm~3cm;柔性隔离套,所述柔性隔离套套设在导体线芯上,所述柔性隔离套为绝缘隔离套,所述...
  • 本实用新型公开一种屏蔽线材及电子产品,其中,屏蔽线材包括屏蔽单元,所述屏蔽单元呈柔性的长条状,所述屏蔽单元包括:柔性非金属线芯,所述柔性非金属线芯的横截面呈方形,所述柔性非金属线芯的最大边长尺寸为1.5μm~3cm;屏蔽镀层,屏蔽镀层覆...
  • 本发明公开一种屏蔽线材、模具及电子产品,其中,所述屏蔽线材包括屏蔽单元,所述屏蔽单元呈柔性的长条状,所述屏蔽单元包括:柔性非金属线芯,所述柔性非金属线芯的横截面呈方形,所述柔性非金属线芯的最大边长尺寸为1.5μm~3cm;屏蔽镀层,屏蔽...
  • 本发明公开一种电磁屏蔽材料、溅射镀膜装置及电磁屏蔽材料的制作方法,其中,所述电磁屏蔽材料包括:基材,所述基材具有面向外部的镀膜面;金属镀膜层,所述金属镀膜层覆盖于所述镀膜面;氧化保护体,所述氧化保护体数量为多个,多个所述氧化保护体分散的...
  • 本实用新型公开一种屏蔽线材和电子产品,其中,所述屏蔽线材包括:导电芯,所述导电芯的直径不小于0.1um,且不大于10um;绝缘层,所述绝缘层覆盖于所述导电芯的表面;金属镀膜层,所述金属镀膜层是通过真空镀膜的方式电镀到所述绝缘层远离所述导...
  • 本发明公开一种屏蔽线材和制作该屏蔽线材的制作方法,以及应用该屏蔽线材的电子产品,其中,所述屏蔽线材包括导电芯,所述导电芯的直径不小于0.1um,且不大于10um;绝缘层,所述绝缘层覆盖于所述导电芯的表面;金属镀膜层,所述金属镀膜层是通过...
  • 本实用新型公开一种柔性超薄导电材料及应用该柔性超薄导电材料的电子产品,其中,柔性超薄导电材料包括:双面非导通的薄膜层,该薄膜层的厚度大于或者等于1.5微米小于或者等于8微米;在所述薄膜层两个表面上分别设置有至少一金属屏蔽层,两个表面的金...
  • 本发明公开一种电磁屏蔽材料的制作方法、由该制作方法制得的电磁屏蔽材料、及应用该电磁屏蔽材料的电子产品。该电磁屏蔽材料的制作方法包括以下步骤:提供一聚合物薄膜层,该聚合物薄膜层的厚度大于等于1.5微米小于等于6微米;对聚合物薄膜的至少一表...
  • 本实用新型公开一种电磁屏蔽结构及应用该电磁屏蔽结构的电子产品,电磁屏蔽结构包括:聚合物薄膜层,该聚合物薄膜层的厚度大于或者等于1.5微米小于或者等于6微米;对聚合物薄膜层进行打孔处理,使聚合物薄膜层形成若干通孔,通孔的孔径范围为0.1微...
  • 本实用新型公开一种电磁屏蔽结构及应用该电磁屏蔽结构的电子产品,其中,电磁屏蔽结构包括:双面导通的聚合物薄膜层,该聚合物薄膜层的厚度大于或者等于1.5微米小于或者等于6微米;双面导通的聚合物薄膜层具有供电离子通过的微孔通道,所述微孔通道的...
  • 本实用新型公开一种纳米合金材料及应用该纳米合金材料的电子产品。纳米合金材料包括:铝箔薄膜层,该铝箔薄膜层的厚度大于或者等于1微米,且小于或者等于100微米,该铝箔薄膜层具有焊接面;可焊接金属层,该可焊接金属层通过气相沉积形成于铝箔薄膜层...
  • 本发明公开一种柔性超薄导电材料的制作方法、由该制作方法制得的柔性超薄导电材料、及应用该柔性超薄导电材料的电子产品,其中,柔性超薄导电材料的制作方法包括:提供一双面非导通的薄膜层,该薄膜层的厚度大于或者等于1.0微米小于或者等于6微米;对...
  • 本实用新型公开一种真空镀膜装置,包括:壳体,壳体具有真空腔;第一收放辊和第二收放辊,设置于真空腔内,其中一个用于放出未镀膜的基膜,另一个用于收绕已镀膜的基膜;第一收放辊的直径为a1;超导主动辊设置于真空腔内;超导主动辊的直径为D;靶材,...
  • 本发明公开一种电磁屏蔽材料的制作方法、由该制作方法制得的电磁屏蔽材料、及应用该电磁屏蔽材料的电子产品,其中,电磁屏蔽材料的制作方法包括:提供一聚合物薄膜层,该聚合物薄膜层的厚度大于或者等于1.5微米小于或者等于6微米;对聚合物薄膜层进行...
  • 本发明公开一种纳米合金材料的制作方法、由该制作方法制得的纳米合金材料、及应用该纳米合金材料的电子产品,纳米合金材料的制作方法包括:提供一铝箔薄膜层,该铝箔薄膜层的厚度大于或者等于10微米,且小于或者等于100微米;在铝箔薄膜层表面上进行...
  • 本发明公开一种电磁屏蔽材料的制作方法、由该制作方法制得的电磁屏蔽材料、及应用该电磁屏蔽材料的电子产品,其中,电磁屏蔽材料的制作方法包括:提供一双面导通的聚合物薄膜层,该聚合物薄膜层的厚度大于或者等于0.8微米小于或者等于12微米;对聚合...
  • 本发明公开一种真空镀膜装置,包括:壳体,壳体具有真空腔;第一收放辊和第二收放辊,设置于真空腔内,其中一个用于放出未镀膜的基膜,另一个用于收绕已镀膜的基膜;第一收放辊的直径为a1;超导主动辊设置于真空腔内;超导主动辊的直径为D;靶材,靶材...
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