本发明提供一种可延展连续镀膜流水线及镀膜方法，涉及镀膜设备技术领域，以在一定程度上优化镀膜流水线中镀膜单元结构，提高镀膜效率。本发明提供的可延展连续镀膜流水线,包括上料装置、清洗装置、加热装置、多个镀膜装置、冷却装置、下料装置以及料架，...

本实用新型提供一种镀膜系统，涉及镀膜技术领域，镀膜系统包括作业室、转架以及举升机构；作业室内形成有作业腔和运输腔，举升机构设置于运输腔内，且转架与举升机构的举升端相接触，举升机构能够将转架由运输腔送入或运出作业腔。通过本申请提供的镀膜系...

本实用新型提供一种分体式镀膜设备及镀膜系统，涉及镀膜设备技术领域，分体式镀膜设备包括传动腔体、工作腔体和锁定件；传动腔体的边缘形成有对位件，工作腔体对应对位件的位置形成有对位部，对位件进入对位部以使工作腔体与传动腔体对位连接；锁定件的一...

本实用新型提供一种承载机构及镀膜装置，涉及镀膜设备技术领域，包括承托组件、承装组件以及驱动组件；承装组件用于承载工件，承托组件上形成有第一支撑部和第二支撑部，承装组件的两端分别与第一支撑部和第二支撑部转动连接；驱动组件的输出端与承装组件...

本实用新型提供的一种连续镀膜生产线，涉及镀膜技术领域，连续镀膜生产线包括上料装置、工作装置、下料装置以及密封装置；所述工作装置包括预处理机构、清洗机构、镀膜机构以及冷却机构，工作装置包括顺次排布的预处理机构、清洗机构、镀膜机构以及冷却机...

本申请涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种弧源水冷座，包括：冷却主体，冷却主体形成有冷却面，冷却面与弧源的靶材接触或贴合；冷却主体设置有冷却流道，冷却流道内流动有冷却介质，冷却流道限定冷却介质的流动方向，冷却流道设置有出液口；冷却主...

本实用新型提供一种多盘带锯条同步镀膜装置，用于多盘的带锯条的镀膜，所述多盘带锯条同步镀膜装置包括工作腔体，所述工作腔体倾斜地设置；运输部和设置于所述运输部的挂载门，所述挂载门与所述工作腔体相对应地设置，所述挂载门通过所述运输部与所述工作...

本实用新型提供一种带锯条镀膜装置，用于带锯条的镀膜，所述带锯条镀膜装置包括镀膜室，所述镀膜室倾斜地设置；传动机构和设置于所述传动机构的挂载门体，所述带锯条设置于所述挂载门体，所述挂载门体与所述镀膜室相对应地设置，所述挂载门体通过所述传动...

本实用新型提供一种转架移动系统，属于镀膜设备技术领域。转架移动系统包括移动装置和转架装置；移动装置包括车体、举升机构和承载台，转架装置设置于承载台上，举升机构的一端与车体相连接，另一端与承载台相连接，承载台沿水平方向设置，举升机构能够在...

本申请涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种弧源及镀膜机，弧源包括：防护罩、固定件、磁体组件和驱动装置，其中防护罩设置有靶材；固定件设置在防护罩内；磁体组件设置于固定件；驱动装置包括固定部以及设置于固定部的驱动部，驱动部能够相对固定部运动以靠...

本发明提供一种多盘带锯条同步镀膜装置，用于多盘的带锯条的镀膜，所述多盘带锯条同步镀膜装置包括工作腔体，所述工作腔体倾斜地设置；运输部和设置于所述运输部的挂载门，所述挂载门与所述工作腔体相对应地设置，所述挂载门通过所述运输部与所述工作腔体...

本实用新型提供的一种插板阀装置及连续式真空镀膜系统，其中插板阀装置包括升降机构、压紧机构、阀体机构及阀板组件；升降机构设置于阀体机构的外部，且升降机构的伸缩端位于阀体机构内，并与阀板组件相连接；压紧机构包括驱动组件和压紧件，驱动组件相对...

本实用新型提供的一种靶材升降装置及真空镀膜设备，其中靶材升降装置包括驱动机构、移动板以及靶材机构；驱动机构的一端与真空镀膜设备中的真空镀膜室相连接，另一端为伸缩端，且伸缩端与移动板相连接；靶材机构的一端与移动板相连接，另一端穿过真空镀膜...

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种多弧离子镀膜装置。该多弧离子镀膜装置包括镀膜模组，镀膜模组包括真空室、镀膜弧源和刻蚀弧源，镀膜弧源和刻蚀弧源均与真空室相连接，真空室的内部用于通入反应气体。该多弧离子镀膜装置采用刻蚀弧源和阳极组...

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种渗镀一体镀膜装置。该渗镀一体镀膜装置包括渗镀模组，渗镀模组包括镀膜室、镀膜弧源、阳极构件、第一引弧机构和离子枪；镀膜弧源、第一引弧机构和离子枪均与镀膜室相连接，镀膜室的内部设置有用于放置工件的容...

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种渗镀一体镀膜装置。该渗镀一体镀膜装置包括渗镀模组，渗镀模组包括镀膜室、镀膜弧源、阳极构件、第一引弧机构和离子枪；镀膜弧源、第一引弧机构和离子枪均与镀膜室相连接，镀膜室的内部设置有用于放置工件的容...

本实用新型提供一种磁控溅射装置，属于镀膜设备技术领域。磁控溅射装置包括靶座机构和磁场机构；靶座机构包括靶座，磁场机构设置于靶座内，磁场机构包括多个极性交替排布的磁体，且相邻的两个磁控溅射装置之间相邻近的两个磁体的极性相反，以在多个磁控溅...

本实用新型提供一种真空镀膜系统，属于镀膜设备技术领域。真空镀膜系统，包括真空镀膜室和刻蚀装置；刻蚀装置包括相对设置于真空镀膜室内的第一刻蚀机构和第二刻蚀机构，第一刻蚀机构包括第一刻蚀组件和第一阳极，第二刻蚀机构包括第二刻蚀组件和第二阳极...

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种弧源磁场机构，弧源磁场机构包括：固定主体；第一磁构件，设置于固定主体并形成沿第一方向分布的第一磁场；第二磁构件，设置于固定主体并形成沿与第一方向不同的第二方向分布的第二磁场；第三磁构件，设置于固...

本申请涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种引弧装置，引弧装置包括：引弧机构，引弧机构包括引弧针；传动机构，传动机构包括适配连接的第一传动连接件和第二传动连接件，引弧针设置于第二传动连接件；驱动装置，驱动装置与第一传动连接件连接；驱动...