本发明涉及光刻辅助化学品技术领域，公开了一种双色光刻底部抗反射涂层，所述双色光刻底部抗反射涂层由下述有机涂层溶液制备而成，所述有机涂层溶液包括至少一种包含双色紫外吸收染料结构的成膜物质、助剂和有机溶剂；所述双色紫外吸收染料结构如式(Ⅰ)...

本发明提供了一种双色紫外吸收染料结构，具有苯酰或苯酰氧结构，且在羰基对位连接具有非键p电子对的取代基。所述双色紫外吸收染料结构对波长为193nm和248nm的电磁波均具有强吸收作用。本发明还提供了利用在分子结构中包含所述双色紫外吸收染料...