本实用新型涉及一种喷雾器，包括：储存有待雾化的液体的储液腔体，内部设置有储液腔体加热管；通过输液组件与储液腔体连通的雾化腔体，具有底壁，输液组件包括吸液管和调节杆，调节杆固定于底壁，其顶部具有中空的混合区域，待雾化的液体通过吸液管进入混...

本实用新型提供一种高效声波硅材料湿处理设备，包括依次设置的至少一个混酸槽、至少一个水封槽、至少一个溢流槽和至少一个除水槽，以及用于容纳硅材料并通过传输机构在所述混酸槽、水封槽、溢流槽和除水槽之间传输的花篮；所述水封槽的槽体中部上方设有隔...

本发明提供一种硅材料的压差湿处理装置，包括：压差容器；在压差容器的内部，通过支架设置有用于安放硅材料的载料构件；在压差容器的顶部设有密封盖；压差容器的壁面上设有超纯水入口，液位接口，排液接口，压缩气体接口和真空接口。另外，本发明还提供一...

本实用新型提供一种硅材料的压差湿处理装置，包括：压差容器；在压差容器的内部，通过支架设置有用于安放硅材料的载料构件；在压差容器的顶部设有密封盖；压差容器的壁面上设有超纯水入口，液位接口，排液接口，压缩气体接口和真空接口。本实用新型提供的...

本发明涉及一种对基片进行湿法化学磷扩散制ＰＮ结和制绒的方法，主要包括（１）采用磷酸对基片进行湿处理；（２）将基片送至加热炉中进行磷扩散，其中加热炉内的温度为８００－９００℃，加热时间为２０－３０分钟；（３）采用一种酸溶液对所述基片进行制...

本实用新型涉及一种化学湿处理设备抽风机构，包括化学液槽体以及排风夹层、与化学液槽体以及排风夹层一体的至少一个抽风通道，所述的化学液槽体通过抽风通道与排风夹层相通。与现有技术相比，本实用新型的优点在于把化学液槽体和排风夹层通过一个抽风通道...

本实用新型涉及一种聚四氟乙烯ＰＦＡ化学液加热器，包括四根氟塑料螺杆、四个连接柱、加热丝以及超高温保护传感器，所述的四根氟塑料螺杆通过四个连接柱连接成加热框架，所述的加热丝均匀等间隙盘绕于加热框架的氟塑料螺杆上，所述的超高温保护传感器与加...

本实用新型涉及一种超声波功率输出控制电路，包括５５５集成电路模块、定时电阻Ｒ１、定时电阻Ｒ２、定时电容Ｃ１、电压输入端Ｖｃｃ以及接地端ＧＮＤ，所述的电压输入端Ｖｃｃ经依次串联的定时电阻Ｒ１、定时电阻Ｒ２、定时电容Ｃ１与接地端ＧＮＤ连接，...

本实用新型涉及一种硅材料无盲点化学清洗机构，包括至少一对静横梁和动横梁、至少一对可交替接触硅材料的静支架和动支架以及位于动横梁两侧的驱动装置，所述的静支架、动支架分别固定于静横梁、动横梁上，所述的静支架、动支架上均设有数个用于支撑硅材料...

本实用新型涉及一种硅材料自动清洗机的步进进出料装置，包括进料机构以及出料机构，所述的进料机构以及出料机构均设有五个工位，进料机构的第一到第四工位为上料工位，进料机构的第五工位为机械手抓取工位，出料机构的第一工位为机械手放篮工位，出料机构...

本实用新型涉及一种无噪声化学液冷热交换精密温度控制器，包括冷却水热交换器、半导体制冷片、多组制冷加热热交换组件以及多组化学液塑料管，所述的冷却水热交换器上设有热交换回路以及与该回路连通的冷却水进口和冷却水出口，所述的冷却水热交换器的两面...

本发明是通过使用加热化学气体而生成的雾状化学剂来进行基片清洗的一个系统，尤其适用于半导体硅片与平板显示器的清洗，而这种雾状化学剂则是由加热化学气体而产生的。这种不同的被加热的雾状化学剂，依不同的工艺程序经加压后，连续地进入处理容器内，这...