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上海普达特半导体设备有限公司专利技术
上海普达特半导体设备有限公司共有37项专利
用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本实用新型公开了用于半导体处理设备的传输装置,所述半导体处理设备包括至少两层处于不同高度的工艺腔体,所述传输装置包括:主体;至少一个第一机械臂,所述第一机械臂被构造在所述主体上并且用于存取未经处理的晶圆;至少一个第二机械臂,所述第二机械...
慢提拉清洗设备制造技术
本实用新型提供一种慢提拉清洗设备包括花篮支架及驱动机构,由于驱动机构设置于清洗槽的外部,花篮支架采用耐腐蚀和耐高温的材质,从而在对花篮进行升降调节的同时,可避免同步带断裂的现象,以降低产品损伤概率、提高生产效率;由于花篮支架具有运输开口...
一种用于湿法处理工艺的除湿干燥装置、隧道式烘干机制造方法及图纸
本实用新型提供一种用于湿法处理工艺的除湿干燥装置、隧道式烘干机,通过在风机与第一加热器之间增加冷凝设备以及除湿设备,对空气中的水气提前去除,大大降低进入第一加热器的空气含水率,从而使得加热后的空气能够带走更多的水气,大大提升了干燥效率,...
用于晶圆的清洗装置以及半导体设备制造方法及图纸
本公开内容公开了一种用于晶圆的清洗装置,所述清洗装置具有晶圆传输区和晶圆清洗区,包括:晶圆存取装置,所述晶圆存取装置被构造用于将晶圆移入与所述晶圆清洗区相邻的晶圆传输区或者将晶圆移出所述晶圆传输区,其中,晶圆存取装置用于移入晶圆的第一接...
用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本公开内容公开了用于半导体处理设备的传输装置,所述半导体处理设备包括至少两层处于不同高度的工艺腔体,所述传输装置包括:主体;至少一个第一机械臂,所述第一机械臂被构造在所述主体上并且用于存取未经处理的晶圆;至少一个第二机械臂,所述第二机械...
用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本公开内容公开了用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备,其中,传输装置包括:第一传输装置,其包括至少两个第一机械臂,至少两个第一机械臂布置在所述第一传输装置的第一主体周围并且能够围绕第一主体旋转,并且其中,至少两个第一机械臂被构...
一种用于链式水平电镀设备的清洗装置制造方法及图纸
本实用新型提供一种用于链式水平电镀设备的清洗装置,其中,清洗装置包括电镀槽、镀液配置系统以及水洗槽,在水洗槽内设置有多级清洗子槽,由于镀件会在多级清洗子槽内被清洗从而使得多级清洗子槽内的水中含有一定量的金属离子,通过镀液配置系统接受电镀...
一种多层式湿化学处理设备制造技术
本公开内容公开了一种多层式湿化学处理设备,所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元,其中,所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上,并且其中,所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。由于依据本公开内...
转移太阳能板的组合装配型导轨制造技术
本实用新型提供一种组合装配型导轨,在待装配的导轨中设置凹槽,使得对接后的导轨构成具有连通开口的连通槽,并结合与连通槽对应设置的连接块实现卯榫连接以构成组合装配型导轨,且由于连接块具有限位凸起部,可对组合装配型导轨的组合延伸方向及对接方向...
一种多层式湿化学处理设备制造技术
本实用新型公开了一种多层式湿化学处理设备,所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元,其中,所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上,并且其中,所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。由于依据本实用新...
一种晶圆传输装置制造方法及图纸
本发明提供一种晶圆传输装置,包括传输单元、晶圆承载台及晶圆传送单元,传输单元包括传输轨道及驱动部件,传输轨道的表面具有第一排气喷口,通过第一排气喷口喷射气体以在晶圆与传输轨道之间形成气垫,通过驱动部件带动传输轨道运行;晶圆承载台的表面具...
一种晶圆传输装置制造方法及图纸
本发明提供一种晶圆传输装置,包括支撑轴、连接件及机械手组,其中,连接件与支撑轴活动连接,且连接件沿支撑轴进行旋转及升降;机械手组中包括2个机械手,2个机械手均分别与连接件相连接,且2个机械手分别位于支撑轴的上下端并呈镜像分布,机械手组中...
一种机械手及半导体设备制造技术
本发明提供一种机械手及半导体设备,包括机械手臂、托板及凸块,所述凸块位于所述托板上,具有高度差的所述凸块组合构成凸块组,所述凸块组至少包括2个,其中,所述凸块组交错排布,且位于外侧的所述凸块的高度大于位于内侧的所述凸块的高度,以提供承载...
一种单片式晶圆清洗装置制造方法及图纸
本发明提供一种单片式晶圆清洗装置,包括防护罩及驱动单元,防护罩至少包括第一防护罩及第二防护罩,且第一防护罩位于第二防护罩的外围;驱动单元包括连接件、旋转件及驱动件,其中,连接件与防护罩对应设置,且连接件的第一端与防护罩相连接,旋转件设置...
一种多腔体集成式半导体设备制造技术
本发明提供一种多腔体集成式半导体设备,包括多个晶圆腔体及机械手,临近的两个晶圆腔体在竖直方向上具有高度差,以及临近的两个晶圆腔体在水平面上的投影具有夹角,且多个晶圆腔体在水平面上的投影呈环状排布;机械手包括机械手主体部及与机械手主体部连...
一种单片式晶圆清洗装置制造方法及图纸
本发明提供一种单片式晶圆清洗装置,包括承载台及喷头,喷头位于承载台上方,包括清洗液供给单元、清洗液回收单元及收容腔,清洗液供给孔位于收容腔的底面,多个清洗液回收孔位于收容腔的边缘且位于清洗液供给孔的外侧,承载台的表面宽度小于收容腔的开口...
一种环形分布式半导体设备制造技术
本发明提供一种环形分布式半导体设备,包括具有中转台的前端模块,具有多个反应腔且与中转台呈环形分布的反应腔模块,以及位于环形分布的内部的传输模块,且传输模块包括旋转件,旋转件上安装有机械手臂,通过旋转件的旋转运行,将晶圆在中转台及反应腔内...
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