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上海普达特半导体设备有限公司专利技术
上海普达特半导体设备有限公司共有47项专利
慢提拉清洗设备制造技术
本技术提供一种慢提拉清洗设备包括花篮支架、底板、升降支撑结构及驱动机构,通过驱动机构的运行调节升降支撑结构中的第一支撑件与第二支撑件之间的夹角,以带动花篮支架上升或下降,由于慢提拉清洗设备中各部件均采用耐腐蚀和耐高温的材质,从而在对花篮...
用于传输晶圆的机械手以及半导体处理设备制造技术
本公开内容公开了一种用于传输晶圆的机械手,包括:第一手指,其第一端上设置有第一挡块和第二挡块;至少两个第二手指,其被设置在所述第一手指的两侧,所述至少两个第二手指分别包括设置在与所述第一端相对的第二端上的第三挡块和第四挡块;以及驱动装置...
半导体工艺设备开门机构制造技术
本发明提供一种半导体工艺设备开门机构,包括驱动件、旋转件、支撑连接件、阻尼缓冲件及位置检测结构,通过驱动件提供运行动力,带动旋转件进行周向往复转动以调节门板的开关状态;通过与旋转件对应设置的阻尼缓冲件可减少刚性碰撞,降低噪音,同时提高机...
具有夹块的机械手及设备制造技术
本公开内容公开了一种具有夹块的机械手及设备,所述机械手包括:第一手指,所述第一手指的第一端上设置有第一挡块
电镀装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本公开内容涉及电镀装置和半导体处理设备,其中,所述电镀装置包括:包括电镀槽和解镀槽的槽体,电镀槽被构造用于容纳与第一电极组件电连接的电镀液并且解镀槽被构造用于容纳与第二电极组件电连接的解镀液;至少两个滚轮,其中的至少一个传输滚轮被设置在...
电镀装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本公开内容涉及电镀装置和半导体处理设备,其中,所述电镀装置包括:槽体,所述槽体包括电镀槽和导电槽,其中,所述电镀槽被构造用于容纳与阳极组件电连接的电镀液并且所述导电槽被构造用于容纳与阴极组件电连接的导电液;滚轮,所述滚轮被设置在所述电镀...
风车式阴极导电传动装置及水平电镀设备制造方法及图纸
本发明提供一种风车式阴极导电传动装置及水平电镀设备,通过在旋转式阴极导电棒的外围设置绝缘棒,可避免旋转式阴极导电棒与电镀液的接触,以及通过设置与绝缘棒连接的绝缘风车片,可避免导电线与电镀液的接触,从而使得仅与待电镀的太阳能光伏产品相接触...
调节式晶圆搬运机构制造技术
本发明提供一种调节式晶圆搬运机构,通过连接板、调整板、支撑板、调节螺栓的设置,可实现对晶圆提篮在六个自由度上的调节,且结构简单稳定,便于操作,能够很好的实现晶圆提篮与生产设备的对准。生产设备的对准。生产设备的对准。
半导体工艺设备及其升降密封门机构制造技术
本发明提供一种半导体工艺设备及其升降密封门机构,通过固定板、门板、密封件及驱动件的设置,在进行开关门操作时,通过倾斜沟道及与密封件接触的引流沟槽,可有效防止工艺腔体内的液体和/或气体的流出;与工艺腔体接触的固定板及门板在选择如PVC材质...
用于晶圆的清洗装置以及半导体设备制造方法及图纸
本实用新型公开了用于晶圆的清洗装置以及半导体设备。其中,清洗装置具有晶圆传输区和晶圆清洗区,包括:晶圆存取装置,晶圆存取装置被构造用于将晶圆移入与所述晶圆清洗区相邻的晶圆传输区或者将晶圆移出所述晶圆传输区,其中,晶圆存取装置用于移入晶圆...
用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本实用新型公开了用于半导体处理设备的传输装置,所述半导体处理设备包括至少两层处于不同高度的工艺腔体,所述传输装置包括:主体;至少一个第一机械臂,所述第一机械臂被构造在所述主体上并且用于存取未经处理的晶圆;至少一个第二机械臂,所述第二机械...
慢提拉清洗设备制造技术
本实用新型提供一种慢提拉清洗设备包括花篮支架及驱动机构,由于驱动机构设置于清洗槽的外部,花篮支架采用耐腐蚀和耐高温的材质,从而在对花篮进行升降调节的同时,可避免同步带断裂的现象,以降低产品损伤概率、提高生产效率;由于花篮支架具有运输开口...
一种用于湿法处理工艺的除湿干燥装置、隧道式烘干机制造方法及图纸
本实用新型提供一种用于湿法处理工艺的除湿干燥装置、隧道式烘干机,通过在风机与第一加热器之间增加冷凝设备以及除湿设备,对空气中的水气提前去除,大大降低进入第一加热器的空气含水率,从而使得加热后的空气能够带走更多的水气,大大提升了干燥效率,...
用于晶圆的清洗装置以及半导体设备制造方法及图纸
本公开内容公开了一种用于晶圆的清洗装置,所述清洗装置具有晶圆传输区和晶圆清洗区,包括:晶圆存取装置,所述晶圆存取装置被构造用于将晶圆移入与所述晶圆清洗区相邻的晶圆传输区或者将晶圆移出所述晶圆传输区,其中,晶圆存取装置用于移入晶圆的第一接...
用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本公开内容公开了用于半导体处理设备的传输装置,所述半导体处理设备包括至少两层处于不同高度的工艺腔体,所述传输装置包括:主体;至少一个第一机械臂,所述第一机械臂被构造在所述主体上并且用于存取未经处理的晶圆;至少一个第二机械臂,所述第二机械...
用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备制造方法及图纸
本公开内容公开了用于半导体处理设备的传输装置以及半导体处理设备,其中,传输装置包括:第一传输装置,其包括至少两个第一机械臂,至少两个第一机械臂布置在所述第一传输装置的第一主体周围并且能够围绕第一主体旋转,并且其中,至少两个第一机械臂被构...
一种用于链式水平电镀设备的清洗装置制造方法及图纸
本实用新型提供一种用于链式水平电镀设备的清洗装置,其中,清洗装置包括电镀槽、镀液配置系统以及水洗槽,在水洗槽内设置有多级清洗子槽,由于镀件会在多级清洗子槽内被清洗从而使得多级清洗子槽内的水中含有一定量的金属离子,通过镀液配置系统接受电镀...
一种多层式湿化学处理设备制造技术
本公开内容公开了一种多层式湿化学处理设备,所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元,其中,所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上,并且其中,所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。由于依据本公开内...
转移太阳能板的组合装配型导轨制造技术
本实用新型提供一种组合装配型导轨,在待装配的导轨中设置凹槽,使得对接后的导轨构成具有连通开口的连通槽,并结合与连通槽对应设置的连接块实现卯榫连接以构成组合装配型导轨,且由于连接块具有限位凸起部,可对组合装配型导轨的组合延伸方向及对接方向...
一种多层式湿化学处理设备制造技术
本实用新型公开了一种多层式湿化学处理设备,所述多层式湿化学处理设备至少包括第一清洗单元和第二清洗单元,其中,所述第一清洗单元通过上下叠置的方式布置在所述第二清洗单元之上,并且其中,所述第二清洗单元的顶部盖板被构造为平面。由于依据本实用新...
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