上海埃原半导体设备有限公司专利技术

上海埃原半导体设备有限公司共有4项专利

  • 本实用新型公开了化学气相沉积反应腔的基座及非金属反应腔,所述化学气相沉积反应腔的基座将反应腔分成上腔体和下腔体,包括:可旋转基座;外盒,所述外盒设置在可旋转基座的外围,所示外盒的正面面向上腔体,所示外盒的背面面向下腔体,外盒的背面有凸起...
  • 本发明公开了一种化学气相沉积用的非金属反应腔,包括:中空的壳体,所述反应腔的主体形状为具有中心轴的镜向对称体;所述中空的壳体的两侧具有有进气口、排气口和/或操作口;所述中空的壳体的顶面和/或底面为向外凸起的拱形。
  • 本发明公开了一种化学气相沉积系统,包括:反应腔,所述反应腔包括中空的壳体,所述壳体水平放置,所述中空的壳体的两侧具有进气口、排气口和/或操作口,气体从进气口沿水平方向进入反应腔;水平放置在所述反应腔内第一基座和第二基座,第一基座和第二基...
  • 本发明公开了一种化学气相沉积用的非金属反应腔,包括:中空的壳体;所述中空的壳体的两侧具有有进气口、排气口和/或操作口;所述中空的壳体的顶部或底部具有开口;以及盖子,所述盖子覆盖所述开口,所述盖子的边缘与中空的壳体的开口边缘重叠,重叠的部...
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