本技术公开了输送稳定的晶片清洗用输送装置，涉及晶片输送技术领域，为解决现有晶片输送多数都是放在输送带上输送，容易相互碰撞，并且也容易因为有杂物造成滑动现象，导致移动稳定性差的问题。所述传送带一端设置有主动辊，所述传送带的另一端设置有从动...

本技术公开了用于晶片贴蜡的蜡液加热装置，涉及晶片贴蜡技术领域，为解决现有蜡液加热多数都是通过底部加热，通过热传递的方式对陶瓷盘进行加热，从而使表面的蜡融化，多重传递，费时费资源，并且陶瓷盘热量高，取下的时候容易对人造成伤害的问题。所述底...

本发明公开了一种磷化铟单晶生长炉以及生长方法，属于一般的控制系统领域，本发明获取生长过程中的生长气氛和生长环境数据导入生长环境分析策略中进行生长环境数据分析，将获取的生长特征数据分析结果和生长环境数据分析结果导入生长过程分析策略中进行生...

本发明公开了基于图像处理的半导体自动清洗监测系统及方法，属于图像处理领域，本发明获取清洗子区域表面晶体管的数量导入清洗子区域重要度评估策略中进行清洗子区域重要度评估，获取图像异常评估结果和清洗子区域重要度评估结果进行半导体污浊程度的评估...

本技术涉及晶体加工夹具技术领域，公开了一种晶体偏角度加工的定向夹具，所述水平旋转机构包括旋转筒座，所述上下旋转机构包括安装在两组旋转支臂其中一组臂杆顶端的第一支撑座以及另一组臂杆顶端的第二支撑座，所述左右旋转机构包括安装在旋转框架支架中...

本技术涉及半导体晶片检测设备技术领域，公开了一种半导体晶片厚度检测工装，所述轨道架的支架内部安装有循环传输组件，且循环传送组件中传送带的传输带面排布设置有多组模具机构，所述轨道架的支架中部安装有正对于模具机构上方的扫描检测机构。本技术通...

本技术涉及芯片检测工装技术领域，公开了一种半导体晶片生产用夹紧定位工装，所述对夹架的上部板面开设有对夹轨道，且对夹架的支架内部转动连接有传动丝杆，所述传动丝杆的轴杆端呈对称形式套设有贯穿对夹轨道且与两组夹具机构固定连接的两组传动滑台。本...

本技术涉及半导体芯片加工技术领域，公开了一种半导体芯片清洗用承载装置，所述工装筒架的筒座上端位于边缘位置处呈星三角形式对称开设有三组置料开口，且工装筒架的筒座内部正对于置料开口的正下方开设有三组堆叠腔，所述堆叠腔的内部堆放有多组芯片，且...

本技术涉及晶片加工技术领域，公开了一种晶片转移装置，所述支撑立架的支架前侧安装有第二升降机构，且第二升降机构中第二升降滑台的台架前侧安装有置料箱架，每组置料腔的腔室内部均贯通插合有升降推柄，所述升降推柄的臂杆底端安装有升降底板，所述置料...

本技术涉及晶片加工保存技术领域，公开了一种晶片加工用存取装置，所述封闭箱的箱体底部安装有支撑底座，所述支撑底座的支座一侧安装有升降推送机构，所述升降推送机构中升降滑台的台架上方安装有推柄机构，所述支撑底座的支座另一侧安装有贯通推柄机构的...

本技术涉及晶片切割设备技术领域，公开了一种晶片切割装置，所述切割箱架的箱体内部沿切割线槽的滑槽方向安装有切割机构，所述切割箱架的箱体上方沿切割线槽的一侧安装有对夹上料机构，且切割箱架的箱体上方沿切割线槽的另一侧安装有紧压机构。本技术通过...

本技术涉及晶片加工技术领域，公开了一种晶片下蜡装置，所述吸盘的芯体内部开设有负压腔，且吸盘的底部板面沿其周向排布开设有与负压腔相导通的多组负压吸嘴，所述吸盘的上方呈对称形式安装有两组支撑座，且两组支撑座之间安装有把手，所述把手的臂杆中部...

本技术涉及半导体芯片加工技术领域，公开了一种便于半导体芯片加工的烘干装置，所述烘干机构安装于链板传输机构的轨道架上，多组烘干工位排布安装于链板传输机构的传送链板上，两组旋转轴的轴杆两端均套设有同步带轮，相连的两组所述同步带轮之间啮合连接...

本技术涉及晶片加工技术领域，公开了一种晶片打磨设备，所述打磨工位的支架上方安装有旋转工位机构，且旋转工位机构中旋转盘的盘体上方沿其周向排布设置有多组夹具机构，所述打磨工位的支架上方正对于夹具机构的夹具工位处设置有打磨机构。本技术通过利用...

本发明涉及半导体领域，本发明公开了基于模型预测控制的磷化铟晶片智能清洗过程控制方法，包括：基于污染信息将待清洗晶片划分入N个待清洗晶片批次中；根据污染物集合与清洗液成分配比的预设关系，确定清洗液成分配比；获取晶片尺寸规格，基于晶片尺寸规...

本发明公开了用于磷化铟晶片自动清洗的包括流量控制的定量供给装置，涉及磷化铟晶片技术领域，包括清洗机构，其内部设有氮气处理室

本实用新型涉及磷化铟加工技术领域，公开了一种磷化铟晶体生长除杂装置，所述第一传动轴的轴杆外侧套设有第一搅拌扇叶，所述第二传动轴的轴杆外侧套设有第二搅拌扇叶，所述积水槽的腔体内部沿其周向排布设置有包裹于第二搅拌扇叶外侧且正对于拨水槽槽口处...

本实用新型涉及磷化铟加工技术领域，公开了一种磷化铟加工用烘烤装置，所述烘烤罐的内壁盘绕设置有加热盘管，且烘烤罐的内部设置有旋转烘烤机构，所述烘烤罐的罐体后侧设置有端盖启闭机构，所述支撑底板的板架上方堆叠放置有多组烘烤料箱。本实用新型通过...

本实用新型涉及磷化铟加工技术领域，公开了一种用于磷化铟加工用的清洗装置，所述储水箱的箱口端安装有传输网带，且传输网带的带面上方正对于清洗箱的腔体内部呈等间距形式排布设置有多组喷淋架，所述储水箱的底部排水端连接有抽水泵，且抽水泵与喷淋架之...

本发明提供了一种晶片检测台及检测方法，涉及晶片检测台技术领域。包括：底盒和用于承载待检晶片的检测盘，检测盘位于底盒的上方，对正机构安装在底盒上，用于将检测盘上的待检晶片对正放置，驱动机构安装在底盒上并与检测盘传动连接，驱动机构能够使检测...