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青岛佳恩半导体科技有限公司专利技术
青岛佳恩半导体科技有限公司共有34项专利
一种用于GaO二极管制备的籽晶装置制造方法及图纸
本技术提供了一种用于GaO二极管制备的籽晶装置,属于GaO二极管制备技术领域,该用于GaO二极管制备的籽晶装置包括籽晶生长室、籽晶支架、籽晶生长源以及气体供用机构,所述籽晶生长室为圆柱形容器,所述籽晶支架设置在所述籽晶生长室的内部,所述...
一种单管IGBT的安装固定结构制造技术
本技术公开了一种单管IGBT的安装固定结构,包括散热器,所述散热器一侧通过螺栓固定有固定板,所述固定板上设置有单管IGBT和固定机构,还包括:固定于固定板上的固定件,且固定板通过固定件固定单管IGBT,所述固定件内固定连接有第一伸缩弹簧...
一种IGBT模块封装参数确定方法、介质及系统技术方案
本发明提供了一种IGBT模块封装参数确定方法、介质及系统,属于芯片封装技术领域,包括:构建热机械耦合模型并多个目标函数以及约束条件;采用遗传算法求解热机械耦合模型,得到解集合以及最优解;根据最优解,建立IGBT模块对应的拓扑图,其中,拓...
一种带有保护装置的IGBT模块制造方法及图纸
本技术提供了一种带有保护装置的IGBT模块,属于IGBT技术领域,包括IGBT模块本体、支架组件和弹力柱组件,弹力柱组件贯穿通孔与导向板的后侧固定连接,导向板的前侧轴心处开设有电线孔,导向板的前侧开设有导向孔,导向杆固定设置在IGBT模...
一种双面散热结构的IGBT结构及设计方法技术
本发明提供了一种双面散热结构的IGBT结构及设计方法,属于IGBT技术领域,IGBT芯片、绝缘壳和基板,绝缘壳设置在IGBT芯片的外侧,IGBT芯片的上方设置有陶瓷覆铜板a,IGBT芯片的下方设置有陶瓷覆铜板b,IGBT芯片与陶瓷覆铜板...
一种FRD器件及其制备方法技术
本发明提供了一种FRD器件及其制备方法,属于半导体功率器件技术领域,该一种FRD器件具有正面金属区和背面金属区,包括衬底,所述背面金属区位于所述衬底的下表面,所述衬底上依次设有外延层和漂移区,所述漂移区内设有P型区,并沿所述P型区形成对...
一种异型槽分离栅IGBT结构制造技术
本实用新型提供了一种异型槽分离栅IGBT结构,涉及IGBT结构技术领域。集电极的上方设置有n型衬底,n型衬底的内部设置有规律排布的竖向沟槽,竖向沟槽包括相连的上沟槽和下沟槽,上沟槽和下沟槽内部分别有氧化层和多晶层,在相邻的沟槽间设有p型...
一种沟槽式分离栅IGBT结构制造技术
本实用新型涉及IGBT技术领域,且公开了一种沟槽式分离栅IGBT结构,包括集电极金属和p+集电极:集电极金属的上方设有n型衬底,n型衬底的内部设有有规律排布的沟槽体,沟槽体的底部设有下沟槽发射极栅氧化层与下沟槽发射极多晶层,下沟槽发射极...
一种低应力碳化硅单晶的生长装置制造方法及图纸
本实用新型提供了一种低应力碳化硅单晶的生长装置,包括生长组件、反应组件、温度调节组件、降温组件和控制组件,籽晶直接放置在籽晶托上不需要进行固定,将原料升华后通过温度梯度向下方运行与籽晶接触,减小了碳化硅晶体生成过程中产生的应力,在碳化硅...
一种带载流子存储层的沟槽式分离栅IGBT结构制造技术
本实用新型涉及IGBT技术领域,且公开了一种带载流子存储层的沟槽式分离栅IGBT结构,包括集电极金属,所述集电极金属的内部设有P+集电极,所述P+集电极的上方设置有n型衬底,所述n型衬底的内部设置有规律排布的下沟槽和上沟槽,所述下沟槽的...
一种沟槽式IGBT结构制造技术
本实用新型提供了一种沟槽式IGBT结构,涉及IGBT结构技术领域。集电极的上方设置有n型衬底,n型衬底的内部设置规律排布的纵向的沟槽,沟槽底部形貌呈半圆柱形,沟槽底部置于深p型阱中,沟槽的内侧壁及底壁上形成有栅极氧化层和栅极多晶层,在相...
一种双控制极模块封装结构制造技术
本实用新型提供了一种双控制极模块封装结构,属于封装技术领域。该封装结构,包括散热板,散热板的一侧设置有铜基岛,铜基岛的表面一侧设置有芯片,芯片的一侧设置有导热片,散热板、铜基岛、芯片和导热片上设置有塑封壳体,塑封壳体的内部设置有引脚,引...
一种带外延层的沟槽式分离栅IGBT结构制造技术
本实用新型涉及IGBT技术领域,且公开了一种带外延层的沟槽式分离栅IGBT结构,包括集电极金属,所述集电极金属的上方设置有n型衬底,n型衬底的内部设置有规律排布的下沟槽和上沟槽,下沟槽内部设有发射极栅氧化层和下沟槽发射极多晶层,所述下沟...
一种带载流子存储层的沟槽式IGBT结构制造技术
本实用新型涉及IGBT技术领域,且公开了一种带载流子存储层的沟槽式IGBT结构,包括集电极金属和p+集电极:集电极金属的上方设有n型衬底,n型衬底的内部设有有规律排布的沟槽,沟槽的侧边设有深p型阱以及n型载流子存储层,沟槽的中上位置附近...
一种高可靠性的终端结构制造技术
本实用新型提供了一种高可靠性的终端结构,涉及终端结构技术领域。衬底下方设置有漏极、上方设置有n型缓冲区,n型缓冲区内部设置有规律排布的p型阱,p型阱上方设置有栅氧氧化层和多晶层,BODY I区P阱和BODY II区P阱内置n+型源级和p...
一种带有保护装置的IGBT模块制造方法及图纸
本实用新型涉及电子设备技术领域,且公开了一种带有保护装置的IGBT模块,包括:IGBT模块本体,所述IGBT模块本体的表面固定安装有放置盒,所述放置盒的内壁设有圆形铁块,所述圆形铁块的表面活动连接有线圈。该带有保护装置的IGBT模块,通...
一种封装结构的IGBT功率模块制造技术
本实用新型提供了一种封装结构的IGBT功率模块,包括散热组件和温度监测组件,在IGBT模块工作过程中产生的热量通过IGBT模块上设置的散热基板进行散热,同时散热组件增强IGBT模块的散热能力,在IGBT模块芯片的温度超过105℃时,散热...
一种半导体智能功率模块制造技术
本实用新型提供了一种半导体智能功率模块,属于智能功率模块技术领域,该一种半导体智能功率模块包括封装体,所述封装体的底部呈对称设置有两个加强层,两个加强层之间形成填充区,并在两个所述加强层与所述封装体相对的一侧形成散热区,在所述填充区内依...
用于功率器件改善Mark点形貌的制备方法技术
本发明提供了用于功率器件改善Mark点形貌的制备方法,属于功率半导体器件技术领域,该用于功率器件改善Mark点形貌的制备方法包括步骤S1,提供一晶圆硅片,该晶圆硅片具有第一表面和第二表面,对晶圆硅片进行抛光处理;步骤S2,接着将晶圆硅片...
一种降低MOS电容的结构及其制造方法技术
本发明提供了一种降低MOS电容的结构及其制造方法,属于半导体器件的制造技术领域,该一种降低MOS电容的制造方法包括步骤S1,提供一半导体衬底,利用外延生长法在所述半导体衬底的上表面形成一外延层;步骤S2,对所述外延层的上表面有源区进行选...
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