清纯半导体上海有限公司专利技术

清纯半导体上海有限公司共有2项专利

  • 一种半导体结构及其制备方法,半导体结构包括:半导体衬底层;位于所述半导体衬底层上的第一漂移层;位于所述第一漂移层背离所述半导体衬底层一侧表面的第二漂移层,所述第二漂移层的导电类型与所述第一漂移层的导电类型相同,所述第二漂移层的掺杂浓度大...
  • 一种半导体结构及其制备方法,半导体结构包括:半导体衬底层;位于所述半导体衬底层上的漂移层;位于所述漂移层中的横向电流扩展层,所述横向电流扩展层的导电类型与所述漂移层的导电类型相同,所述横向电流扩展层的掺杂浓度大于所述漂移层的掺杂浓度;位...
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