本发明公开了一种薄膜太阳电池电极的湿法掩膜图案化方法及薄膜太阳电池。区别于激光划线、真空图案化沉积、机械划线等电极图案化的干法掩膜方法，本发明采用一类可被溶剂选择性移除的聚合物作为掩膜材料，首先在预沉积基底表面画出掩膜的电极图案，真空溅...