本技术提供了一种涂胶显影机及其废液排放装置，包括外接端、废液处理设备，外接端设于废液处理设备顶部中间位置，并且外接端与废液处理设备内部结构连接，通过滤网对废液进行初步的过滤处理，残渣滞留在滤网上，通过主轴管在穿过滤网的位置上的吸入端，可...

本技术提供了一种涂胶显影机及其涂胶机构，包括涂胶仓、工作台，所述涂胶仓呈圆台状设立于工作台上，所述涂胶仓包含进胶管道、涂胶头、作业腔，所述进胶管道设有两个，并且呈对称结构分布在涂胶头的两侧，所述涂胶头悬空于作业腔底部中央位置，所述作业腔...

本发明公开了一种涂胶显影机用晶圆缓冲式定位托架，包括托板、气动吸盘组件和限位机构，在气动吸盘组件的支撑盘主体顶端中部设置了一个活动支盘，活动支盘的底部通过支盘升降控制组件进行升降控制，且在限位机构的环形齿盘上设置了多组限位装置，通过活动...

本技术公开了一种涂胶显影机纯水过滤管路调节装置，装置包括用于对纯水进行输送的输送管路，输送管路上设有用于对纯水进行过滤的过滤调节的过滤器，输送管路分别嵌设在过滤器两侧，过滤器内部设有用于对纯水进行双重过滤的过滤调节组件，过滤调节组件包括...

本技术公开了一种涂胶显影机晶圆检测定位装置，装置包括用于晶圆进行连续传输的传输架和用于对晶圆进行瑕疵检测的检测台，传输架由若干支脚支撑，检测台设置在传输架底部，检测台上设有用于对待产出的晶圆进行升降检测的升降承载机构和用于对晶圆表面瑕疵...

本技术公开了一种用于涂胶显影机的传送手臂，旨在提供一种便于转运的用于涂胶显影机的传送手臂，其技术方案要点是，包括底座，所述底座上还设有转动装置，所述转动装置出口还设有夹持装置，所述夹持装置包括与转动装置连接的连接块，所述连接块顶端还设有...

本技术公开了一种涂胶显影机用晶圆吸盘，旨在提供一种有效减少工件掉落情况的涂胶显影机用晶圆吸盘，其技术方案要点是，包括中空形状的底座，所述底座两侧设有推动装置，所述推动装置出口设有承托装置，所述承托装置包括位于推动装置出口设有的连接块、位...

本发明属于半导体光刻技术领域，公开了一种涂胶显影机的加热装置及其加热方法，包括防护壳

本实用新型公开了一种用于芯片制造相关设备的自动供液柜，涉及芯片制造技术领域，包括柜体和柜门，柜体的两侧通过合页对称转动连接有柜门，柜体内安装有支撑晃动机构；本实用新型是通过电机转动带动整个转轴转动，使得整个转轴上的转柱带动转动齿杆左右晃...

本实用新型涉及芯片制造技术，用于解决加热板散热块，耗能高且容易影响其他相邻步骤的问题，具体为一种用于芯片制造的加热装置；本实用新型中通过第一保温盖与第二保温盖合并来起到保温作用，降低加热板周围的热量散失，从而使得加热板无需持续快速加热，...

本发明公开了一种双轨道式匀胶机及其工作方法，涉及匀胶机技术领域，本发明通过设置发片结构、纠偏悬浮结构、收片结构、输送结构、电动托柱和电动升降三角杆，在圆片在均匀喷涂和均匀烘干过程中，使圆片在工序传送过程中，使其悬浮，从而更好地将其运输，...