本发明涉及式(I)的化合物，涉及式(I)的化合物在电子器件中的用途，涉及含有至少一种式(I)的化合物的电子器件，并且涉及用于制造式(I)的化合物的方法。

提供了作为有效的HPK1抑制剂的四氢吡啶并[3,4‑d]嘧啶化合物。所述化合物可用于治疗或预防哺乳动物、特别是人类的癌症和/或炎性和/或自身免疫性疾病或其症状。所述化合物具有通式(I)、(II)、(III)、(IV)或(V)的化学结构或...

提供了作为有效的HPK1抑制剂的吡啶并[3,2‑d]嘧啶化合物，其可用于治疗或预防哺乳动物、特别是人类的癌症和/或炎性和/或自身免疫性疾病或其症状。本文公开的化合物具有通式(I)和(II)的化学结构或者前述任一种的前药或药学上可接受的盐...

本发明涉及式(I)的化合物，涉及该化合物在电子器件中的用途，涉及用于制造所述化合物的方法，并且涉及含有该化合物的电子器件。

本发明涉及一种包含聚硅氧烷的组合物。

本发明涉及适合用于电子器件中的化合物，并且涉及含有这些化合物的电子器件、更特别是有机电致发光器件。

[问题]本发明提供可低温固化且保存稳定性优异的聚硅氧烷组合物。[解决方案]本发明的聚硅氧烷组合物包含(I)具有特定结构的聚硅氧烷、(II)离子液体、(III)酸及(IV)溶剂。

含有碱可溶性材料的组合物、固化膜及其制造方法。

本发明涉及式(I)的化合物，涉及用于制造式(I)的化合物的方法，涉及式(I)的化合物在电子器件中的用途，并且涉及含有式(I)的化合物的电子器件。

本发明涉及：适合用于电子器件中的有机杂环化合物；并且涉及含有这些化合物的电子器件、特别是光电器件。

本发明涉及：适合用于电子器件中的杂环化合物；以及含有这些化合物的电子器件、特别是光电器件。

本发明提供一种可显影的抗蚀剂上层膜组合物、以及制造抗蚀剂上层膜图案及抗蚀剂图案的方法。

本发明涉及一种印刷含有至少两种不同的有机功能材料A和有机功能材料B的功能层的方法，所述方法包括以下步骤：(a)提供基底，所述基底具有至少第一像素类型A，(b)将第一油墨A印刷到所述第一像素类型A中，所述第一油墨A含有至少一种有机功能材料...

本发明提供了一种基板被覆抗蚀剂组合物，其包含具有特定结构的聚合物(A)和具有特定结构的光酸产生剂(B)。

公开了聚阳离子聚合物或共聚物的合成。该聚阳离子聚合物或共聚物由至少一种第一阳离子单体和至少一种第二阳离子单体形成，其中第一阳离子单体和第二阳离子单体具有不同的阳离子基团；如咪唑鎓基团和非咪唑鎓基团。还公开了化学机械平面化(CMP)浆料，...

本发明涉及一种用于氘化的有机化合物的制备方法，所述方法包括以下步骤：液体组合物的制备，所述液体组合物包含所述有机化合物、至少一种非均相金属催化剂、至少一种氘源、以及作为溶剂的至少一种脂族杂化合物和任选的至少一种脂族烃。

本发明涉及适合用于电子器件中的环状化合物，并且涉及含有所述化合物的电子器件、特别是有机电致发光器件。

本发明涉及含有特定取代的三芳基胺重复单元的聚合物，涉及用于制造其的方法，并且涉及其在电子器件中、尤其是在所谓OLED(OLED＝有机发光二极管)的有机电致发光器件中的用途。本发明还涉及含有所述聚合物的有机电致发光器件。

本发明涉及能够制备具有优异质量的含硅薄膜的新型硅前体化合物及其制备方法，以及使用所述硅前体化合物的含硅薄膜制备方法。

一种在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法，其包括以下工序：(a)在具有沟的基板上施用氮化硅质组合物，以形成组合物层；(b)对该组合物层照射波长200～229nm的光；以及(c)在非氧化气氛中加热该基板；其中该氮化硅质膜对波长633nm的...