本技术公开了一种抛光设备，抛光设备包括：基板，基板上设置有相互间隔的抛光盘和储液件；抛光液臂，抛光液臂设置于基板，抛光液臂设置有气液混合阀，气液混合阀内设置有气体进口、液体进口和出口，气体进口用于与高压气体选择性地相连通，液体进口与储液...

本技术公开了一种抛光设备的检测装置和抛光设备，抛光设备的检测装置包括：主框架；水槽件，水槽件内设置有多个片盒；相机组件，相机组件间隔设置于水槽件上方；模块匹配器，模块匹配器与相机组件电连接。由此，通过相机组件直接对水槽件内进行拍摄，并且...

本技术公开了一种抛光设备的清洁装置和抛光设备，抛光设备的清洁装置包括：主框架；抛头，橡胶膜设置于凹槽内，橡胶膜与凹槽的周向内壁间隔设置；清洁组件，清洁件与抛头主体的侧壁相对应；且清洁件与橡胶膜的底面相对应；且清洁件与橡胶膜和凹槽的周向内...

本发明公开了一种抛光设备的控制方法，抛光设备的控制方法包括：自学习抛光过程中抛光垫的温度变化曲线，根据抛光垫温度变化曲线，预设控制冷风机吹向抛光垫的温度；接收温度传感器发出的温度信号，其中，温度信号为温度传感器检测抛光垫表面的温度后发出...

本发明公开了一种抛光设备的检测方法，抛光设备的检测方法包括：实时采集抛光盘电机的力矩，以及实时采集抛光头电机的力矩；计算出抛光盘电机的力矩变化率；计算出抛光盘电机的力矩变化率的滑动平均值；计算出抛光头电机的力矩变化率；计算出抛光头电机的...

本发明公开了一种抛光设备的控制方法，抛光设备的控制方法包括：接收称重装置的重量信号；根据重量信号计算得到完成抛光后料片的实际厚度；根据抛光后的料片实际厚度计算得到料片的实际抛光去除厚度；根据抛光后的料片的目标厚度计算得到料片的目标抛光去...

本实用新型公开了一种抛光设备的上下料装置和抛光设备，抛光设备的上下料装置包括：主框架；片盒；加工料台；机械手，机械手可选择性地吸附料片的第一加工面，以使加工料台加工第二加工面，机械手可选择性地吸附料片的第二加工面，以使加工料台加工第一加...

本实用新型公开了一种抛光设备，抛光设备包括：基板；抛光盘；液体供给装置，液体供给装置选择性地向抛光盘上表面供给液体；回收环，回收环可活动地环绕设置于抛光盘外周，回收环内设置有回收槽，回收槽与抛光盘的上表面相连通，液体供给装置与回收槽相连...

本实用新型公开了一种抛光设备，抛光设备包括：主框架；片盒；清洁单元；抛光单元，抛光单元设置于主框架且位于清洁单元的纵向后方，清洁单元和抛光单元均为至少一个，以根据不同的抛光和清洗产能，组合清洁单元和抛光单元的数量；检测单元，检测单元设置...

本实用新型公开了一种抛光设备的抛头和抛光设备，抛光设备的抛头包括：安装板；抛头总成；气动控制组件，气动控制组件包括进气口、吸真空口、通大气口和出气口，进气口，吸真空口和通大气口中的一个选择性地与出气口选择性地相连通，出气口与抛头总成相连...