本申请提供一种用于白光干涉聚焦的信号同步采集处理系统及方法，应用于半导体量测技术领域，该信号采集处理系统用于半导体量测技术中的套刻误差测量，采用CMOS传感器和雪崩击穿二极管传感器，通过分束镜、管镜、卤素光源、快门、显微物镜、参考镜和压...

本申请提供一种套刻标记不对称程度计量方法、装置、系统及存储介质，其中基于光学成像系统采集待测目标结构的图像，得到离散采样信号；通过预设算法处理，确定套刻标记的初步中心位置，进而建立分析函数，并对分析函数进行泰勒展开得到各分析项；分析项用...

本申请提供一种套刻标记不对称导致的测量误差校正方法、装置及系统，基于I BO技术采用光学成像设备获取待测量结构信息，并采用预设算法计算得到产品分析项及每个产品分析项的不对称值；根据每个产品分析项的不对称值得到初始不对称评价值，通过调整硬...

本申请提供一种半导体量测干涉测距系统及方法、可调节光源、光路，应用于半导体量检测技术领域，利用光源、准直透镜、聚焦透镜、多模光纤和吸光变光模组的协同作用，实现了对光源光谱特性、亮度和偏振状态的精确调控；此外，加入了色轮和阶梯衰减偏片，能...

本公开提供一种量子化数据处理方法、架构、系统及芯片，其中，所述方法包括：将输入变量值转换成目标运算区间内的相对量子值，所述相对量子值是离散整数值；获取并根据所述输入变量值的目标函数，在存储的目标函数值集合中获取所述相对量子值对应的目标函...

本发明公开了一种用于双面光刻机套刻偏差验证降低掩膜版数量的方法，通过在掩膜版上形成至少一组套刻图形，套刻图形包括第一子图形和与第一子图形呈轴对称的第二子图形；将晶圆放置到与所述掩膜版对应的位置，并使得套刻图形关于晶圆圆心直线呈轴对称；对...

本申请提供一种半导体量测聚焦及焦面位置搜索方法、装置、设备及介质，应用于自动化半导体量检测设备技术领域，焦面位置搜索方法包括对聚焦潜在区间采用三分法获取聚焦位置，使用m,n两个点将聚焦潜在区间划分为三个子区间，再控制聚焦机构移动到m,n...

本申请提供一种晶圆预对准方法及系统，应用于晶圆预对准技术领域，其中，将载台移动到测量位置；将待对准晶圆放置在位于测量位置的载台上；旋转待对准晶圆，通过传感器采集待对准晶圆的边缘坐标数据；对采集到的边缘坐标数据进行处理，得到待对准晶圆的圆...

本申请提供一种半导体器件材料缺陷检测方法及系统，应用于半导体技术领域，其中，包括如下步骤：待检测图像获取步骤：通过光学成像物体表面，对半导体器件材料表面进行光学成像处理，获取待检测图像；局部滑块处理步骤：对待检测图像进行局部滑块处理，得...

本申请提供一种光学模组成像性能评估方法及系统，应用于晶圆检测技术领域，其中，获取标准测试靶；基于标准测试靶实测待评估光学模组的性能值；通过实测的性能值对待评估光学模组的成像性能进行评估。本申请对光学模组的成像性能进行评估，对晶圆检测物镜...

本技术公开了一种光纤微调结构和半导体检测设备，所述光纤微调结构包括安装单元、第一微调单元和第二微调单元。其中，安装单元上开设有第一光纤安装孔；第一微调单元可移动设置于安装单元上，第一微调单元上开设有第二光纤安装孔，且第二光纤安装孔与第一...

本申请提供一种基于光流法的套刻误差量测方法、装置、系统及存储介质，其中方法包括：获取套刻标识对应的前层图像和当层图像；并将其一图像作为参考信号压缩为第一一维信号，将另一图像作为特征信号压缩为第二一维信号；基于光流法估计第二一维信号相对于...

本发明公开了一种提高套刻量测精度的方法，包括调整镜头的位置，以将套刻标记分为内标记聚焦区域和外标记聚焦区域；分别对内标记聚焦区域和外标记聚焦区域进行图像清晰度评价，以获取第一清晰焦面位置和第二清晰焦面位置；获取第一清晰焦面位置和第二清晰...

本发明提供一种自聚焦系统、检测系统、自聚焦方法以及检测方法，自聚焦系统包括：宽谱光源，提供自聚焦光；第一起偏器，将自聚焦光转换成线偏振光；衍射调频模块，将线偏振光衍射为零级和一级衍射光，并使一级衍射光包含若干光路方向相同、调制频率不同的...

本发明提供一种高精度双光路对准装置、方法及晶圆检测系统，应用于自动光学晶圆检测技术领域，其中高精度双光路对准装置通过图像视觉和拍频信号幅值进行焦平面判断和光路对准；高精度双光路对准方法为使自聚焦光束和检测光束均通过孔径光阑且使探测器幅值...

本申请提供一种晶圆铁环规整对齐装置，应用于半导体生产设备技术领域，所述晶圆铁环规整对齐装置包括：第一安装板、至少三个支撑块、固定组件和规整组件；支撑块、固定组件和规整组件设置在第一安装板上；至少三个支撑块用于支撑待规整的晶圆铁环；固定组...

本申请提供一种晶圆检测光源，所述晶圆检测光源包括：滤光片、透镜、白光光源及光纤；光纤与白光光源之间设置滤光片及透镜；其中，光纤出射的光束通过滤光片与透镜形成三色光源，结合白光光源最终形成四色光源，其中滤光片与透镜采用不同位置、不同角度的...

本申请提供一种晶圆缺陷检测系统及照明系统，其中晶圆缺陷检测照明系统在第一光路上依次设置第一透镜、分束镜、物镜、样品及反射镜；在第二光路上依次设置分束镜、第二透镜及探测器；其中在第一光路上第一平行光束经过第一透镜汇聚至物镜焦平面处形成汇聚...

本技术提供一种兼容多尺寸平边晶圆定位的晶圆吸盘，包括吸盘本体，所述吸盘本体包括用于吸附平边晶圆的吸附区域；所述吸附区域的外围设有朝向所述吸附区域、并用于限制所述平边晶圆的弧形边缘位置的第一定位凸点；所述吸附区域的外围还设有卡槽，所述卡槽...

本申请提供一种晶圆检测系统及方法、宽谱相干光干涉自聚焦光路，应用于晶圆检测技术领域，采用宽谱相干光的干涉信号的强度作为自聚焦信号，检测光源根据实际需求灵活选取，自聚焦光与检测光通过二向色镜组合或者分束，具有光机结构简单、调试简单、聚焦速...