本实用新型提供一种纳米级气相二氧化硅合成装置，包括由带有进料口的蜗壳旋转混合器及与此连接的高速射流混合器组成的混合器，与高速射流混合器连接并设置有点火器的合成室，与合成室下端连接的扁形冷却器。该设备合成效率高，合成时间不超过３秒，且能连...