一种使用各向同性蚀刻来形成精细图案的方法包括以下步骤：在 半导体基片上形成蚀刻层，并且在所述蚀刻层上涂覆光致抗蚀剂层； 对涂覆有所述光致抗蚀剂层的所述蚀刻层进行光刻工艺，并且对包括 通过所述光刻工艺形成饿光致抗蚀剂图案的所述蚀刻层进行第...

本发明公开一种有多个半透射部分的半色调掩膜及其制造方法，使该掩膜具有至少两个或更多个其光透射互不相同的半透射部分，利用该一个掩膜可以对多个层进行图案化。所述有多个半透射部分的半色调掩膜包括：透明基板，在透明基板上形成的以透射预定波段的辐...

具有透明基板、半透光层和光屏蔽层的半色调掩模，用于制造它的方法，以及利用它的平板显示器。该半色调掩模被应用到多个光刻工艺循环中，由此缩短用以制造掩模所占用的时间和减少掩模生产成本。由于所需图案根据氧化铬（Ｃｒ↓［ｘ］Ｏ↓［ｙ］）膜的均匀...

本发明公开了一种等离子体显示板的后板。在该后板中，通过形成生坯片形状的浆料，然后将该生坯片粘合到电极和玻璃基板的上表面上形成绝缘层或间隔壁层。因此使用本发明后板的ＰＤＰ具有优异的电学和光学特性。