本申请涉及感光干膜及含其的传感器与制备传感器的UV装置，该感光干膜，包括以下重量份组分：固化树脂单体0.1‑10份、显影树脂0.1‑10份、光引发剂0.001‑0.1份、稀释剂90‑95份；其中，所述固化树脂单体的结构式：本申请提供的感...

本发明涉及分子筛技术领域，公开了ZSM‑5分子筛微球及其制备方法和应用。该ZSM‑5分子筛微球具有由分子筛晶粒堆积形成的球形结构；球形结构中包括由分子筛晶粒堆积而成的大孔和分子筛晶粒内的微孔，大孔与微孔的体积比为(1‑2.5)∶1；大孔...

本发明涉及玻璃化学强化领域，公开了一种熔盐净化剂及其制备方法和应用，以质量百分含量计，该熔盐净化剂中含有：35‑65％的SiO2，5‑40％的Al2O3，0‑5％的MgO，20‑45％的Na2O，0.01‑2％的CeO2；其中，(MgO...

本技术公开一种撕膜设备，撕膜设备包括传送装置、起膜装置、膜带收卷装置和第一夹膜装置，传送装置设有待撕膜产品的输入端与输出端，起膜装置可升降设置，膜带收卷装置包括收卷安装架、第一收卷机构和第一压膜件，收卷安装架位于起膜装置和输出端之间，第...

本申请涉及一种喷涂防护机构及喷涂设备，该喷涂防护机构用于对待加工件的非加工面进行防护，包括供膜模组和压膜模组，供膜模组的数量为多个，每个供膜模组上设有防护膜，防护膜上具有防护段；多个压膜模组与多个防护段一一对应设置，压膜模组具有活动设置...

本发明提供一种抛光设备，所述抛光设备包括：底座、围水槽、抛光轮，所述底座设置在所述围水槽内，所述抛光轮可活动地设置在所述底座上方，其中，所述抛光轮包括与待加工件上的待加工凹槽轮廓匹配的仿形抛光件。本发明通过仿形设计的仿形抛光件对凹槽进行...

本技术提供一种抬升机构及加工装置，涉及数控机床领域。抬升机构包括固定座、抬升座、驱动组件和止退组件；抬升座滑动设置于固定座，抬升座上设置有多个齿槽，且多个齿槽沿抬升座的滑动方向排列；驱动组件包括抬升驱动件、第一卡持件和第一复位件，抬升驱...

本发明涉及陶瓷制备领域，公开了冰裂纹釉料、冰裂纹釉及其制备方法和冰裂纹陶瓷。该冰裂纹釉料包括55‑72wt％的SiO<subgt;2</subgt;、8.0‑23wt％的Al<subgt;2</subgt;O&l...

本发明涉及陶瓷制备领域，公开了平面冰裂纹陶瓷及其制备方法。所述平面冰裂纹陶瓷包括平面陶瓷胚体和依次层叠设置在所述平面陶瓷胚体表面的至少2层冰裂纹釉，且冰裂纹釉层的总厚度≤3mm。本发明提供的所述平面冰裂纹陶瓷的冰裂效果好，强度高，尺寸精...

本发明涉及陶瓷制备领域，公开了平面陶瓷胚体及其制备方法和冰裂纹陶瓷。该平面陶瓷胚体中，氧化铝的含量≥85wt％；该平面陶瓷胚体的烧成收缩率＜1.2％，弯曲强度不小于240MPa。本发明提供的平面陶瓷胚体的氧化铝含量较高，烧成收缩率低，弯...

本申请涉及一种物料添加机构及加工设备，该物料添加机构包括底板、上料机构和驱动机构，底板上设置有第一升降件和称重组件，第一升降件的升降端连接有升降平台；上料机构包括支撑件，支撑件上在升降平台的移动行程范围内作用于称重组件，支撑件上设置有料...

本申请提供一种化抛篮及化抛设备，涉及抛光技术领域。化抛篮包括驱动件和装载件，所述驱动件与所述装载件传动连接，所述装载件内设置有至少一个容纳腔，且所述装载件上开设有至少一个镂空部，所述镂空部与所述容纳腔相连通，所述容纳腔用于放置待抛光工件...

本技术提供一种移印设备，包括：底座、第一胶头组件以及第二胶头组件。底座的同一侧上设置有第二胶头组件与第一胶头组件，第一胶头组件与第二胶头组件沿预设方向靠近或远离。本申请的移印设备，能够具有较好的移印效果。

本申请提供一种喷盘结构及喷砂设备，涉及喷砂技术领域。喷盘结构，包括至少一个盘体和喷嘴，所述盘体设有作业面，所述作业面覆盖于待加工件上，所述喷嘴安装于所述作业面，所述喷嘴设有多个并以阵列分布形成喷嘴矩阵，所述喷嘴矩阵包括沿第一方向分布的至...

本申请涉及一种抛光装置及具有其的抛光机，该抛光装置包括抛光盘和支撑组件，抛光盘包括盘体以及设置于盘体上的抛光件，抛光件上形成有镂空部；支撑组件与抛光盘对位设置，且位于抛光件远离盘体的一侧，支撑组件包括转动设置的底盘，底盘朝向抛光件的一侧...

本申请提供一种低反射

本申请提供了一种加工组件和加工设备，涉及抛光装置领域；其中加工组件，包括：连接件和加工件；所述连接件适于绕第一轴转动；所述加工件与所述连接件固接，且所述加工件沿第一轴的轴线至少设有第一抛光部和第二抛光部；所述第一抛光部用于抛光第一孔；所...

本申请涉及一种反应设备，所述反应设备包括：机架，机架限定出反应腔，反应腔内设置有支撑架，支撑架上设有至少一个放置部，放置部的底部具有避让口；调整机构，调整机构包括至少一个推动部，推动部用于推动产品沿第一方向移动，推动部至少具有沿第一方向...

本发明提供一种多位一体抛光机及抛光方法，涉及抛光技术领域。多位一体抛光机包括机架、下盘组件、移载组件和第一抛光组件；下盘组件包括下抛光件和治具，下抛光件活动设置于机架；移载组件包括移载驱动件、移载臂和固定件，移载驱动件的驱动端连接移载臂...

本实用新型提供一种清洗机，包括：粗洗系统、超声波清洗系统以及精洗组件，超声波清洗系统设置于粗洗系统沿预设方向的前方；精洗系统设置于超声波清洗系统沿预设方向的前方；其中，被清洗件用于沿预设方向依次经过粗洗系统、超声波清洗系统以及精洗系统。...