本技术公开了一种研磨片自动刷洗插片设备，包括机台；传送带，其设置在所述机台的左端；清洗组件，其设置在所述传送带的一侧；装盘组件，其设置在所述机台的右部，所述清洗组件和所述装盘组件之间通过倾斜设置的滑台相连；所述清洗组件包括多个并排设置的...

本技术公开了一种硅片多点测厚装置，包括工作台，所述工作台上端两侧对称设置有支撑座，所述支撑座的上端固定连接有顶板，所述顶板上设有驱动装置；上表笔安装板，其可上下移动设置在两个所述支撑座之间，所述上表笔安装板的中部竖直穿设有第一测量表笔；...

本实用新型涉及一种可稳定硅源浓度的气动阀门组件，包括与氢气输入端相连的进气阀，所述的进气阀同时连接静态气路和载气气路，所述的静态气路上设置有静态手动阀、静态常开气动阀和静态调压阀，所述的载气气路上设置有常闭气动阀和载气调压阀，所述的静态...

本发明涉及一种可稳定硅源浓度的自动控制系统及其控制方法，包括氢气输入阀组和TCS气源钢瓶，TCS气源钢瓶与氢气输入阀组、TCS输入管和TCS输出管均相连，PLC控制器与TCS输入管上的常闭控制阀以及TCS气源钢瓶内的液位传感器相连。外延...

本发明涉及一种用于晶圆外延处理的自动化设备及其操作方法，包括外轮廓检测台、晶圆反应台和第一机械手，所述的外轮廓检测台右侧安装有晶圆反应台，晶圆反应台上端转动安装有转台，所述的外轮廓检测台上转动安装有与转台对应的第二机械手，所述的外轮廓检...