本公开提供一种掩膜框架及制作方法、掩膜板组件。其中的制作方法，包括：提供基材，基材为板状，具有彼此相对的第一表面和第二表面；形成第一凹槽，在第二表面形成深度方向朝向第一表面的第一凹槽；形成支撑部，在第一凹槽内，形成贯通至第一表面，并且阵...

本技术提出的一种金属掩膜版箔材及其制作装置，其中的金属掩膜版箔材包括至少两条子箔材，各子箔材沿宽度方向并列设置，相邻两条子箔材之间相接的长边焊接为一体；金属掩膜版箔材的目标宽度T与各子箔材初始宽度的均值t之间满足：T/n≤t＜T，n为构...

本公开提供一种掩膜板张网制作方法及掩膜板。其中方法具体包括：提供框架、多个网面、至少一个加强金属条和多个延长金属条；形成框架预制件，形成网面预制件、张网以及拼接步骤，在张网和拼接步骤中，分别夹持并牵拉延长金属条、网面与框架的拼接端，以使...

本技术提出的一种精细金属掩膜版带材的制备装置，涉及因瓦合金超薄带材的生产领域。该制备装置包括熔融管、冷却辊、传送机构和收卷装置；冷却辊位于熔融管的下方，承接从熔融管流出的合金熔液，以及使合金熔液冷却成固体并输出薄的带材；传送机构位于冷却...

本公开提供一种金属掩膜板及其制作方法和测试方法、OLED封装层的形成方法。其中的制作方法，包括：提供框架和网面，网面包括多个掩膜条及多个掩膜条围成的多个开口；网面厚度为80μm至250μm；形成半刻槽，对多个掩膜条中的部分或全部进行刻蚀...

本公开提供一种金属掩膜板及其镀膜方法，对金属掩膜板的不同表面分别镀膜以形成绝缘膜层，具体包括：在金属掩膜板的上表面形成上表面绝缘膜层，在金属掩膜板的下表面形成下表面绝缘膜层；其中，下表面绝缘膜层的公称厚度大于上表面绝缘膜层的公称厚度，厚...

本发明提出的一种金属掩膜版箔材及其制作方法、制作装置，其中的金属掩膜版箔材包括至少两条子箔材，各子箔材沿宽度方向并列设置，相邻两条子箔材之间相接的长边焊接为一体；金属掩膜版箔材的目标宽度T与各子箔材初始宽度的均值t之间满足：T/n≤t＜...

本发明提供一种精密金属掩膜版的制作方法及精密金属掩膜版、掩膜装置。其中的制作方法包括：选取原料片材；在原料片材上加工出至少一个用于蒸镀的图案区域，图案区域内具有若干上下贯通的开口；所述图案区域的加工方式包括如下步骤：使用蚀刻药液A，在原...

本发明提供一种因瓦合金表面低温沉积氧化铝膜层的方法，所述方法在基片组进入工艺室进行磁控溅射，对所述基片组温度进行监测，待基片组温度达到预设温度时，进行下一步骤，所述预设温度不高于80℃。所述方法可以降低因瓦合金与氧化铝膜层间的内应力，提...

本技术提出的一种掩膜框架及掩膜装置，涉及金属掩膜版技术领域。该掩膜框架包括若干金属条和销块，金属条的两端均具有凹槽；金属条依次首尾相抵接围成矩形框架，任意两个相抵接金属条的相抵接端具有的凹槽相结合形成销槽；销块具有与销槽相适配的形状和尺...

本公开提供了一种金属掩膜版及其制作方法，其中的掩膜版包括框架；多个金属条，包括与框架连接的多个第一方向金属条和/或多个第二方向金属条，金属条横跨框架的镂空部分；多个拼接式金属片，与第一方向金属条和/或第二方向金属条连接，两端与框架连接并...

本公开提供一种金属掩模版的材料属性等效方法、仿真方法及制作方法。其中的材料属性等效方法，包括基于金属掩模版具有孔的区域，建立金属掩模版的单元模型；设置单元模型的基础材料属性；获取单元模型在预设荷载作用下的第一形变量；建立与单元模型尺寸相...

本发明提供一种支撑掩膜版及掩膜装置，涉及半导体显示技术领域。其中的支撑掩膜版包括金属基体，金属基体配置有多个第一支撑条和多个第二支撑条，第一支撑条与第二支撑条垂直相交形成网面，网面内具有至少一个开口；第一支撑条和/或第二支撑条上配置有遮...

本发明涉及光电显示技术领域，公开了一种掩模版组件及其制作方法，掩模版组件包括框架、对位掩模以及金属掩模版，对位掩模上具有对位孔，对位孔满足预设精度，四个对位掩模分别固定布设在框架的四角处，金属掩模版上具有适配容纳对位掩模的四个通孔，金属...

本公开提供一种曝光方法

本发明提出的一种掩膜框架制作方法及掩膜框架，涉及金属掩膜版领域

本发明提出的一种金属掩膜版及掩膜版组件，涉及半导体显示技术领域

本发明提出的一种掩膜版制作方法及掩膜版，涉及半导体显示技术领域。该掩膜版制作方法包括如下步骤：S10、制备金属基板；S20、在金属基板的其中一个表面涂覆PI膜；S30、采用蚀刻工艺在金属基板上加工出第一开口，第一开口贯通金属基板，制成掩...

本发明提出的一种掩膜框架及其制作方法、掩膜装置，涉及金属掩膜版技术领域。该掩膜框架包括若干金属条和销块，金属条的两端均具有凹槽；金属条依次首尾相抵接围成矩形框架，任意两个相抵接金属条的相抵接端具有的凹槽相结合形成销槽；销块具有与销槽相适...

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版制作方法及掩膜版。本发明提供的掩膜版制作方法包括如下步骤：在掩膜版基板上加工预设开口，预设开口的尺寸小于实际开口的尺寸，将加工有预设开口的掩膜版基板张紧固定于支撑框架上，对固定于支撑框架上的掩膜...