用于打印机的顶部进料器的介质定位布置的调平。示例包括：一种用于打印机的顶部进料器的调平系统，其中，顶部进料器包括介质定位布置。调平系统具有检测器，用于检测反射光并且生成三维图像，该三维图像包括与安装到顶部进料器中的介质堆叠的顶部片材上的...

公开了一种用于打印系统中的打印基底的支撑件。在一个示例中，描述了用于打印系统的托盘输送器，具有轨道、用于支撑打印基底并在轨道上移动的托盘，以及用于在托盘处选择性地施加真空的真空机构。在托盘处施加的真空的界限与打印基底的边缘同步。

印刷和选择性干燥。在本公开的示例中，接收打印作业。该打印作业包括要利用打印头在基板上打印的图像。分析打印作业以确定成像段的集合、邻近图像段的集合以及远程段的集合。利用第一组打印头在基板上打印该打印作业。利用第一组打印头下游的第二组打印头...

在示例中，设备包括：第一辐射源，用于在第一波段处输出辐射；和第二辐射源，用于在与第一波段不同的第二波段处输出辐射。该设备可接收介质，在该介质上标记有第一着色剂和第二着色剂，并且可选择第一波段和第二波段，使得在第一波段处第一着色剂的能量吸...

一种方法包括将基本上透明的基于溶剂的打印机流体层施加到基板上。打印机流体包括紫外光吸收物质。该方法包括用紫外光照射所施加的打印机流体层，以加热溶剂并使溶剂蒸发。辐射的波段使得溶剂的加热基本上是由于来自打印流体中紫外光吸收物质的热传递。

本发明涉及打印校准。在一个示例中，打印目标可打印有校准目标。校准目标可包括在打印目标上打印的第一打印液图形和在打印目标上打印的第二打印液图形。几何图形可由第二打印液图形限定。几何图形可在第二打印液图形中被负性地勾勒。在一个示例中，校准目...

公开了用于打印机的托盘输送装置。在示例性实施方式中，一种用于打印机的托盘输送装置包括轨道、用以在所述轨道上循环的车头托盘、用以被所述车头托盘牵引而在所述轨道上循环的车厢托盘以及编码器头。所述车头和车厢托盘可支撑打印基材。所述编码器头与所...

本发明涉及可光固化的墨水组合物。可光固化的墨水组合物，其包含可UV固化的聚氨酯分散体，水，光引发剂，着色剂和疏水性可辐射固化的单体。还在此公开了用于形成印刷制品的方法和使用所述可光固化的墨水组合物的喷墨印刷系统。

在一个示例中，打印头包括喷嘴、向所述喷嘴提供打印流体的流体通道和发光二极管（LED）。所述LED可以发射光，以加热所述流体通道中的打印流体，从而引起所述打印流体的局部蒸发和流体滴通过所述喷嘴的喷射。

公开了用于干燥基板14上的打印试剂40的打印试剂干燥单元10、20、30，所述干燥单元包括：基板支撑件12，用来支撑基板14；激振器18、28、38，用来激振施加在基板14上的打印试剂40的边界层，从而使边界层与打印试剂分离；和辐射源1...

公开一种打印流体干燥组件、方法和系统。干燥组件包括多个电磁能源，所述多个电磁能源被布置为通过从打印流体蒸发溶剂流体来干燥沉积在基底的表面上的打印流体。干燥组件进一步包括：传送系统，被配置为在传送方向上移动基底；和聚焦系统，被配置为聚焦来...

本公开涉及一种打印头喷嘴定向。在本公开的一个示例中，一种系统包括具有用于接收打印剂的入口的室、可操作地连接到所述室的致动器，和流体连接到所述室的一组喷嘴。所述喷嘴被定向为使得所述组中的每个喷嘴具有相同的边界条件。

公开了用于在波纹介质片材上沉积印刷流体的方法和印刷系统。在波纹介质片材上沉积印刷流体的方法包括：确定波纹介质片材的变形；基于所确定的变形调整多个喷嘴的控制参数；以及根据所调整的控制参数将印刷流体从所述多个喷嘴沉积到所述波纹介质片材上。

本发明公开了一种具有多个干燥单元的打印机干燥器。打印机干燥器设备包括第一干燥单元，其中第一干燥单元包括多个第一能量发射元件，多个第一能量发射元件用于使打印介质上的打印物质干燥，其中多个第一能量发射元件在第一干燥单元中串联电连接。该打印机...

本申请涉及墨水优化的半色调屏。一种生成表示半色调屏的数据的方法包括通过为多个像素的至少第一子集指配色调值来根据暗度水平生成用于多个像素的第一着色剂的色调数据，其中，所述色调值采用等于多个有序色调值中的任一个的值。为第一子集中的像素指配的...

在此所述的某些示例涉及输送打印介质片材。在一个示例中，一种介质输送设备具有多个介质输送部分，包括第一介质输送部分和在介质输送方向上偏离所述第一介质输送部分的第二介质输送部分。所述介质输送设备具有保持部分，该保持部分被布置为接收来自所述第...

在一个示例中，介质支撑件包括连续环形带和沿着所述带的外周边布置的多个吸盘。每个吸盘具有端口，所述端口与所述带中的孔对准以便在连接到真空源时空气可从所述吸盘抽出。

本公开涉及抽吸阵列布图，并且在示例中提供了一种方法，包括：在处理器处接收规定用于形成折叠制品的坯件的形状的数据；和使用所述处理器基于接收到的数据确定用于将所述坯件保持抵靠介质支撑件的抽吸阵列布图，其中所述抽吸阵列布图符合所述坯件的形状。

公开了用于处理基底的装置和方法。所提出的装置包括接触式和非接触式处理模块以及控制器。控制器识别基底上的要处理的直线和曲线，并使接触式处理模块相对于基底发生位移以处理直线，以及使非接触式处理模块相对于基底发生位移以处理曲线。

本发明提供一种基板涂层。在示例性实施方式中，基板涂层系统包括抗蚀剂打印装置，以将抗蚀剂流体打印到基板表面的所选区域上。该系统包括模拟涂布装置，以将涂层流体施加到整个基板表面上，其中抗蚀剂流体阻止涂层流体施加在基板表面的所选区域上。