本发明涉及清洗剂制备技术领域，具体为一种液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法，液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分：碳氢化合物60

本发明涉及光刻胶剥离液制备技术领域，具体为一种光刻胶剥离液及其制备方法，光刻胶剥离液组分重量百分比如下：有机胺30

本实用新型公开了一种电子化学品的过滤装置，包括密封盖、过滤罐和离心滤芯，所述过滤罐的内部安装有安装架，所述安装架的顶部通过旋转座安装有离心滤芯，所述过滤罐的顶部通过螺纹固定件安装有密封盖，所述密封盖的内部安装有电机，所述电机的输出端安装...

本实用新型公开了一种电子化学品生产的进料装置，包括传输管道、电机和底座，所述底座的底部通过螺栓安装有脚座，所述底座内部的顶部中心通过轴栓安装有电动伸缩杆，所述底座的顶部一侧通过活动栓与栓座配合安装有传输管道，所述传输管道的一端通过螺栓安...

一种低泡玻璃基板清洗液，属于微电子材料领域，按重量百分比计，包括以下组分：强碱性物质1‑45％(优选3‑30％)，螯合剂0.1‑50％(优选0.5‑20％)，消泡剂0.1‑15％(优选0.2‑10％)，去离子水30‑99.3％(优选40...

一种正型光刻胶剥离液组合物，涉及功能型微电子材料领域，其按重量百分比计，包括非腐蚀性有机胺0.1‑25％、醇醚溶剂40‑99％、高纯水1‑40％。本发明光刻胶剥离液不含有腐蚀性的强碱，清洗后无光刻胶残留，可直接水洗，不会产生金属层腐蚀。

一种水基环保中性清洗液，属于微电子材料用清洗液的技术领域，按重量百分比计，包括式I结构的烷基醇聚醚0.1‑25％、醇醚类溶剂0.1‑50％、醇类溶剂0.1‑25％，去离子水30‑99.7％，

一种显影液组合物，属于功能性微电子材料领域，按重量百分比计，由以下组分组成：无机碱0.1‑25％、高纯水30‑98.9％、式I结构的阴离子表面活性剂1‑45％，

本发明公开了一种彩色滤光片光刻胶剥离液组合物，属于微电子材料技术领域，关键在于，按质量百分比计，所述的组合物包括以下组分：无机强碱性物质0.5‑45％、有机胺0.1‑50％、极性有机溶剂0.1‑55％、稳定剂0.1‑20％和水30‑99...

本发明公开了一种彩色滤光片显影液组合物，属于微电子材料技术领域，关键在于，按质量百分比计，所述的组合物包括以下组分：非离子型Gemini表面活性剂1‑45％、强碱性物质0.1‑30％、增溶剂0.1‑50％和高纯水20‑98％。该显影液浓...