本发明公开了一种负性光刻胶显影液，由有机碱、表面活性剂和水各原料比例混合而成，所述各原料重量比为：有机碱5～20％，表面活性剂1～15％，余量的水，所述有机碱为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四甲基铵碳酸(氢)盐中的任意一种或几种，所述...

本发明公开了一种聚酰亚胺前体组合物，通过二胺单体和二酸酐单体进行聚合反应获得，所述二胺单体的制备方法包括：将二氨基二笨甲烷和无水Na

本发明公开了一种聚酰亚胺取向膜制备方法，包括如下步骤：将聚酰亚胺聚物溶液均匀涂抹在玻璃基板上；使用线性偏振激光照射基板上的聚酰亚胺聚物溶液，进行聚合；对基板上涂抹的聚酰亚胺聚物溶液进行预固化处理，预固化温度80～100℃；对预固化处理后...

本发明提供一种聚酰亚胺取向膜所用胺类单体纯化系统和方法，由溶解槽，陶瓷膜系统，离子交换树脂塔,电渗析离子交换(EDI)系统等组成。通过本发明提供的系统和方法，能够将聚酰亚胺取向膜胺类单体中的金属杂质去除，得到电子级产品的目的。而且结构简...

本发明公开了一种高世代平板用ITO蚀刻液，包括盐酸、醋酸、金属盐，表面活性剂、消泡剂和水各原料按比例混合而成，所述各原料重量比为：盐酸10～30％，醋酸1～10％，金属盐0.1～1％，表面活性剂0.05～0.5％，消泡剂0.1～1％，水...

本发明公开了一种高蚀刻速率及选择比的铝蚀刻液，包括磷酸、硝酸、盐酸、水和硝酸钾各原料，经比例混合而成，所述各原料重量比为：磷酸50～70％，硝酸10～20％，盐酸1～10％，水10～30％，硝酸钾1～8％，所述各原料重量比为磷酸70％，...