本实用新型公开了一种大幅面真空吸盘平面度加工装置，属于零件加工技术领域，将待加工大幅面真空吸盘安装在精密定位运动平台的底座上，精密定位运动平台上安装有测距仪和磨削加工系统。本实用新型中测距仪和磨削加工系统随着精密定位运动平台进行移动，利...

本实用新型涉及一种用于激光直写曝光机真空发生器的保护装置，包括热继电保护器、温度控制器、真空发生器、散热风扇和隔热金属罩。热继电保护器包括热继电器和交流接触器。温度控制器包括温度采集端口T、温度探头Pt100、供电接口L和N、输出控制管...

本实用新型涉及一种用于激光直写曝光机的气体压板装置，包括气路总阀、三通阀门、气体节流阀一、压板腔体一、气体节流阀二和压板腔体二。气路总阀的进气口，用于通入压缩空气；气路总阀的出气口接三通阀门的进气口。三通阀门的出气口一接气体节流阀一的进...

一种基于GDSII格式的直写式光刻机并行数据处理方法，可解决现有的DMD数字微镜均采用是FPGA进行逻辑运算，若提供的直写式光刻数据采用极性特性，并且按照一定顺序的方式进行处理，很难发挥出FPGA的优势，进而降低了直写式光刻机的产能的技...

一种无掩模激光直写光刻设备在生产片对卷时的对准方法，能够实现将单片曝光变成卷对卷连续曝光，能够克服收放卷机构的收板长度误差、片间距误差的技术问题。基于卷对卷无掩模激光直写光刻设备，包括以下步骤：在片对卷的生产模式下，自动搜索对位靶标后开...

本发明公开了一种多边形边界盘绕方向计算方法，属于半导体行业和印刷电路板行业光刻技术领域，包括构建顶点序号缓存和朝向缓存；获取原始数据，该原始数据为多边形的顶点序列；遍历原始数据，将多边形的顶点序号存储至顶点序号缓存，将记录多边形边界朝向...

本发明公开了一种直写式光刻机曝光方法，属于半导体光刻机图形图像处理技术领域，包括在曝光前，设定曝光模式为N排M列DMD模式，划分每个DMD对应的曝光区域，任意一排DMD曝光图形的总宽度为直写光刻版图的宽度，任意一列DMD曝光图形的总高度...

一种基于等分因子的直写式光刻机曝光方法，可解决当前直写式光刻机曝光技术的直写式光刻机的最小特征图形的解析能力和图形分辨能力较低的技术问题。本发明采用等分因子技术，将直写式光刻机的光刻版图进行等分，然后对数据进行栅格化并进行重组，使得DM...

本发明公开了一种直写式光刻机拼接方法，属于半导体光刻机图形图像处理、拼接技术领域，包括在曝光前，设定曝光模式为N行M列DMD同时曝光模式；将光刻版图划分为与N行M列DMD对应的N×M个高度的曝光区，且满足相邻行DMD对应的曝光区域之间的...

本发明公开了一种用于激光直接成像设备正反面成像对位的打标方法，属于印刷电路板图形转移技术领域，包括在基板正、反面覆有第一感光显色材料；对涂布感光湿膜后的基板进行烘干处理；在基板反面需要打对位标靶的位置覆有第二感光显色材料；安装并调试基板...

本实用新型涉及一种直写光刻机吸盘压板装置，包括安装在吸盘上的若干固定点压机构和安装在吸盘上的移动压杆机构。固定点压机构包括贯穿安装在吸盘左端部的第一气缸和安装在第一气缸活塞杆顶部的压板。移动压杆机构包括对称设置在吸盘前后两侧的前挂板组件...

本实用新型涉及直写光刻曝光设备定位运动平台正交性调试装置，属于直写光刻曝光技术领域。该调试装置包括支撑底座、精密定位运动平台、调试机构、支撑架和CCD图像采集系统。精密定位运动平台包括Y轴、X轴和Z轴；Z轴的顶部安装有真空吸盘；真空吸盘...

本发明的一种基于CUDA的直写式光刻机数据拓展方法，可解决传统使用CPU对数据进行二维扫描处理时单线程处理的滞后，效率低影响产能的技术问题。本发明使用CUDA技术，对直写式光刻机的栅格化图像数据进行拓展，以高阶M进行渲染，然后使用低阶M...

本发明公开了一种激光直接成像设备成像位置误差的测量方法及系统，属于印刷电路板图形转移技术领域，包括：将待检测的拼接误差测量图形输入至激光直接成像设备；在激光直接成像设备的曝光工作台上放置一块基板，并将拼接误差测量图形的形貌投影在所述基板...

本发明是一种激光直写成像设备内层基板的对准定位方法，该方法采用内层基板上四个端角上的四个通孔作为正反面曝光时的定位标识，曝光正面（A面）时，通过设备中的对位相机抓取这四个通孔的中心点坐标（吸盘），反推出四个通孔靶标中心在正面（A面）图形...

本发明涉及一种激光直接成像设备对准相机位置关系自动标定方法，该方法首先在激光直接成像设备的基础台面（吸盘）上设置两个圆形的MARK1和MARK2，并且使激光直接成像设备中的左侧对准相机和右侧对准相机分别可以移动到MARK1和MARK2的...

本实用新型的一种用于直写式光刻机曝光光源的反馈信号采集电路系统，可解决现有技术激光器光源温度变化难以测量影响曝光质量的技术问题。包括电源电路转换模块、信号采集处理模块及输入输出接口模块，所述电源电路转换模块包括外接电源输入端和电源转换模...

一种基于直写式光刻机拼板模式下内层防呆的方法，可解决直写式光刻机拼板模式采用多片板子拼板曝光时，现有的翻版方式对位精度较低的技术问题。包括以下步骤：S100、设置两种形状不同的标识Mark，对位Mark‑A和序列号Mark‑B；S200...

本发明公开了一种激光直接成像设备对准相机位置关系误差的测量方法，包括建立激光直接成像设备基础台面的直角坐标系；在基础台面上放置尺寸标定板，该尺寸标定板布置有至少三个MARK点，其中有三个MARK点构成的直角三角形；利用左对准相机和右对准...

一种用于直写式光刻机拼板曝光的方法，可解决现有的曝光方法产能较低的技术问题。包括以下步骤：S100、设定光刻机拼板模式；S200、将光刻机拼板按照M行N列模式放在曝光精密平台上；S300、读取单片光刻机板卡图形信息；S400、使用对位相...