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杭州谱析光晶半导体科技有限公司专利技术
杭州谱析光晶半导体科技有限公司共有108项专利
一种具有抑制栅源电压过冲的六边形元胞SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种具有抑制栅源电压过冲的六边形元胞SiC VDMOSFET结构,其包括多个二维平面内分布的并联的六边形MOS元胞,所述六边形MOS元胞六个边相邻位置均分布有所述六边形MOS元胞,相邻所述六边形MOS元胞至少有一边平行,至少一...
提升雪崩能力、导通电阻及短路能力的屏蔽型SiC MOSFET结构制造技术
本发明公开提升雪崩能力、导通电阻及短路能力的屏蔽型SiC MOSFET结构,包括多个并联的MOS元胞,所述MOS元胞中具有JFET区,所述JFET区的横截面呈柱型轮廓,所述柱型轮廓至少具有一粗径段和一细径段以形成屏蔽结构,所述粗径段与所...
一种具有抑制栅源电压过冲片上集成结构的SiC MOSFET制造技术
本发明公开一种具有抑制栅源电压过冲片上集成结构的SiC MOSFET,包括碳化硅外延层,其特征在于,所述碳化硅外延层上具有n个并联连接的MOS元胞和至少一个片上集成结构,所述片上集成结构位于任意相邻两个MOS元胞之间并且与之并联连接,所...
一种高容错率抑制电压过冲的六边埋沟井槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种高容错率抑制电压过冲的六边埋沟井槽SiC VDMOSFET结构,包括碳化硅外延层,碳化硅外延层形成有六边形MOS元胞,六边形MOS元胞栅源之间形成N/P+2/polySi背靠背二极管,实现钳位稳压的作用,将元胞的P阱与N阱...
一种具有抑制栅源电压过冲的SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种具有抑制栅源电压过冲的SiC VDMOSFET结构,其包括多个并联连接的条形的MOS元胞,至少一个所述MOS元胞中具有N+/P+/polySi背靠背二极管,所述N+/P+/polySi背靠背二极管包括通过离子注入形成于所述...
一种六边屏蔽型井槽SIC MOSFET结构制造技术
本发明公开一种六边屏蔽型井槽SIC MOSFET结构,包括多个并联的六边形MOS元胞,在六边形MOS元胞引入井槽,减小单个重复元胞尺寸增大电流密度,六边形MOS元胞中具有JFET区,JFET区的横截面呈柱型轮廓,柱型轮廓至少具有一粗径段...
一种高容错率抑制漏源电压过冲的U槽SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种高容错率抑制漏源电压过冲的U槽SiC VDMOSFET结构,包括MOS元胞,MOS元胞引入U槽,缩小单个重复元胞尺寸,提升电流密度,MOS元胞的JFET区下方的P阱形成窄JFET区的屏蔽结构且在对应的位置采用了阶梯栅氧,屏...
一种高容错率抑制电压过冲的U槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构制造技术
本发明公开一种高容错率抑制电压过冲的U槽屏蔽型SiC VDMOSFET结构,包括引入U槽的MOS元胞并在其中构建有N+/P+/polySi背靠背二极管、屏蔽结构及阶梯栅氧,避免栅源电极在开关过程中因剧烈振荡而出现的过电压应力,屏蔽结构可...
一种高容错率抑制电压过冲的屏蔽型制造技术
本发明公开一种高容错率抑制电压过冲的屏蔽型
一种高容错率抑制电压过冲的埋沟制造技术
本发明公开一种高容错率抑制电压过冲的埋沟
一种高容错率抑制漏源电压过冲的埋沟制造技术
本发明公开一种高容错率抑制漏源电压过冲的埋沟
一种平面栅井式槽六边形元胞制造技术
本发明公开一种平面栅井式槽六边形元胞
一种具有抑制栅源电压过冲的六边形元胞埋沟井槽制造技术
本发明公开一种具有抑制栅源电压过冲的六边形元胞埋沟井槽
一种功率集成隔离结构制造技术
本发明公开一种功率集成隔离结构
抑制栅源及漏源电压过冲的六边形元胞井槽制造技术
本发明公开抑制栅源及漏源电压过冲的六边形元胞井槽
具有抑制开关过程中栅源电压过冲单片集成结构的制造技术
本发明公开具有抑制开关过程中栅源电压过冲单片集成结构的
一种正多边环形叠加正多边形补偿的元胞的制造技术
本发明公开一种正多边环形叠加正多边形补偿的元胞的
一种增加制造技术
本发明公开一种增加
一种抑制开关时栅源电压过冲的复合片上集成结构的制造技术
本发明公开一种抑制开关时栅源电压过冲的复合片上集成结构的
一种增加制造技术
本发明公开一种增加
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