本技术公开了一种原子层气相沉积设备用片架，原子层气相沉积设备设有呈矩形体状的工作腔，片架包括封顶盖、呈矩形体状的片架本体；工作腔顶部设有卡槽，工作腔底部设有出气口及匀气网；封顶盖设于片架本体上方并与片架本体固定连接，封顶盖上表面设有与卡...

本发明提供了一种空心半球状银纳米阵列及其制备方法和应用，属于气体传感技术领域。本发明所述空心半球状银纳米阵列的制备方法包括以下步骤：在衬底的上表面制备聚苯乙烯微球单层膜，将带有聚苯乙烯微球单层膜的衬底进行第一刻蚀，以缩小聚苯乙烯微球单层...

本发明提供了一种金纳米圆环阵列的制备方法，属于金纳米材料制备技术领域。本发明在衬底上表面涂敷光刻胶，然后依次进行曝光和显影，使光刻胶掩膜层形成由多个互不接触的圆形孔形成的圆形孔阵列；然后以原子层沉积的方式在光刻胶的上表面制备氧化铝膜，并...

本发明公开了一种微纳光栅阴极组件多角度检验治具，涉及微纳光栅阴极组件检验治具技术领域，包括顶部治具、中部治具及底部治具；顶部治具用于夹持产品；中部治具设置于顶部治具下方，并与顶部治具形成能够绕第一轴线转动的转动连接；底部治具与中部治具形...

本技术公开了一种受热均匀的热板，包括热板本体、堵头和pin针，热板本体设有安装孔，堵头配合安装在安装孔内，堵头设有限位孔，pin针配合安装在限位孔内，pin针的顶端与热板本体上端面相平齐，该热板的受热均匀性好。

本技术公开了一种适用于方形基片的甩干托盘，包括底托，底托设有若干支撑台，支撑台向上延伸有挡柱，底托底部设有连接匀胶机旋转轴用的连接部，方形基片放置在支撑台上，方形基片的边缘由挡柱限位固定，该甩干托盘能够与现有的匀胶机相适配，通过匀胶机旋...

本技术公开了一种镀膜层表面缺陷检测治具，涉及检测治具技术领域，包括底座和载物台，底座上设置有凹槽；载物台的一侧设置有凸起，载物台的另一侧设置有承载槽，承载槽用于放置待检测组件，凸起的外壁为曲面，凸起的部分外壁能够伸入至凹槽内，且凸起能够...

本发明提供了一种微纳光栅的制备方法，属于半导体技术领域。本发明所述微纳光栅的制备方法包括以下步骤：将基底在氮气氛围中进行等离子体处理，得到改性基底；在所述改性基底的表面沉积二氧化硅膜，得到镀二氧化硅基底；将所述镀二氧化硅基底依次进行回火...

本发明提供了一种星状金纳米结构阵列的制备方法，属于纳米光学材料技术领域。本发明所述制备方法包括以下步骤：将上表面制备有聚苯乙烯微球单层膜的基底进行第一氧处理，扩大聚苯乙烯微球单层膜上相邻聚苯乙烯微球的间隙，得到氧处理基底；通过磁控溅射在...

本技术公开了一种用于清洗晶圆的药液循环系统，具体涉及半导体清洗技术领域，包括药液箱、输送泵、进液管道、至少一个清洗机和出液管道，进液管道的一端与药液箱连接并连通，另一端与清洗机的蠕动泵连接并连通，进液管道靠近药液箱的一端距地高度低于进液...

本技术公开了一种AVGG产品放置治具，涉及AVGG产品检验技术领域，包括本体，本体上沿长度方向具有多个第一放置位和多个第二放置位，第一放置位和第二放置位用于放置不同尺寸的AVGG产品。本技术提供的AVGG产品放置治具，能够摆放不同尺寸的...

本申请公开了一种花苞状纳米结构的制备方法及花苞状纳米结构模板，方法包括：提供基底；在基底表面形成金属膜层；在金属膜层表面形成光刻胶层，光刻胶层为具有环台；对金属膜层进行反应离子束刻蚀处理，刻蚀束流与金属膜层法线之间的角度在75°～89°...

本发明公开了一种镀膜玻璃化学处理治具，涉及镀膜玻璃加工技术领域，包括固定件和溶剂容器，溶剂容器具有能够容纳溶液的容纳空间，溶剂容器的侧壁上设有固定件移动槽，固定件具有卡槽，卡槽能够固定镀膜玻璃的部分边缘，固定件能够移动地连接于固定件移动...

本发明提供了一种金属纳米结构阵列的制备方法，属于纳米光学材料技术领域。本发明先在基底表面制备纳米金属膜，得到镀膜基底；再在所述镀膜基底的纳米金属膜表面涂覆光刻胶，形成光刻胶掩膜层；通过曝光和显影的方式使光刻胶掩膜层形成光刻胶图形孔阵列；...

本发明提供了一种金纳米圆柱阵列的制备方法，属于光电材料技术领域。本发明提供的制备方法包括以下步骤：在衬底的上表面制备聚苯乙烯微球单层膜，通过刻蚀缩小聚苯乙烯微球的直径，得到刻蚀衬底；以原子层沉积的方式在刻蚀衬底的上表面镀氧化铝膜，去除第...

本发明提供了一种弧形金纳米柱阵列的制备方法，属于金纳米材料制备技术领域。本发明以物理气相沉积的方式在衬底上表面制备金膜，再在金膜上表面涂覆光刻胶形成光刻胶掩膜层，再通过曝光和显影的方式使光刻胶掩膜层形成由多个互不接触的第一圆形孔形成的圆...

本技术公开一种微纳光栅阴极组件产品低温键合限位环，包括：限位环座和两个以上限位支架，限位支架设置在限位环座的一端，限位支架的外端与限位环座连接，限位支架指向限位环座的中轴线设置，限位环座的尺寸与防光晕玻璃输入窗匹配，限位支架的内端围成的...

本发明公开了一种控制玻璃晶圆刻蚀均匀性的方法，包括以下几个步骤：在玻璃晶圆表面镀二氧化硅膜层；采用窄缝吸盘将待涂胶的玻璃晶圆置于涂胶机的涂胶腔体中，在二氧化硅膜层表面自下而上依次涂覆抗反射胶层和光刻胶层；对光刻胶层进行光刻，使得光刻胶层...

本发明公开一种晶圆镜检治具及晶圆镜检工作台，其中晶圆镜检治具，包括底座、支架和卡夹，支架设置在底座上，支架为两个，卡夹安装在两个支架之间，卡夹为短U型，卡夹内侧设置有容纳晶圆的凹槽，凹槽的尺寸与晶圆尺寸相匹配，卡夹与支架间设置具有悬停功...

本发明公开了一种周期性碗状结构模板的制备方法，包括以下几个步骤：在晶圆衬底上表面镀二氧化硅膜层；在二氧化硅膜层表面涂覆光刻胶，对光刻胶进行光刻，使得光刻胶上形成有周期性光刻胶图形；对失去光刻胶保护部分的二氧化硅膜层进行离子束刻蚀处理，使...