国镓芯科成都半导体科技有限公司专利技术

国镓芯科成都半导体科技有限公司共有19项专利

  • 本发明涉及反应釜技术领域,尤其涉及一种反应釜内壁残留物的浸泡搅拌除渣系统,旨在解决现有技术中反应釜生产后内壁上的附着物较为坚硬而难以去除的问题。包括:釜体、搅拌轴、超声波杆,搅拌轴和釜体同轴心设置;翻转机构,翻转机构套设并转动连接在搅拌...
  • 本技术涉及反应釜干燥技术领域,具体涉及一种反应釜加热干燥装置,旨在解决单一的鼓风干燥反应釜效率慢的问题。一种反应釜加热干燥装置,包括:釜体,釜体的料口处可拆卸连接有封盖;氮气设备,氮气设备设置在釜体的一侧,氮气设备上接通有进气管,进气管...
  • 本发明涉及喷头技术领域,具体公开了一种针对反应釜内部清理的喷头及其使用方法,包括进口管、分水管、第一喷射部和第二喷射部;分水管与进口管的底部转动连接;第一喷射部包括第一固定喷射管、第一柔性连接管、第一调节式喷嘴、第一伸缩杆、第一调节段固...
  • 本技术涉及反应釜技术领域,具体为一种用于反应釜残留物收集过滤的系统。包括操作箱、滤网、转动机构和磁吸机构,所述操作箱顶部设有进料口,且其底部设有排液口,转动机构和磁吸机构一同作用,能够很好的将反应釜残留物中的金属吸附;滤网,能够将残留液...
  • 本发明涉及残留物检测技术领域,具体公开了一种用于反应釜残留物检测的装置及检测方法,包括:移动机构和视觉检测机构,移动机构用于实现视觉检测机构的竖直位移和旋转位移;视觉检测机构包括圆形支撑板;圆形支撑板的上端面与移动机构的末端连接,圆形支...
  • 本发明公开了一种具有固液分离的反应釜移动式清洗装置,涉及固液分离技术领域,包括工作台及其底部固定安装的处理槽,还包括磁吸过滤块,其顶部设为磁铁磁吸结构,且其固定安装于处理槽顶部,所述磁吸过滤块上插入滑动安装有排渣刮板,所述排渣刮板顶部呈...
  • 本发明涉及反应釜技术领域,尤其涉及一种可稳定转动反应釜的装置,旨在解决反应釜在旋转清洁时釜体容易产生一定晃动的问题。包括:釜体,釜体的外壁上设有夹持机构;封盖转动连接在釜体的料口处,封盖上设置有转轴,转轴上环绕设置有搅拌叶片;釜体设置在...
  • 本发明涉及压力容器的技术领域,具体涉及一种反应釜的冷却装置,包括反应釜,以及反应釜的外壁螺旋缠绕设置有若干冷却管,相邻的冷却管之间通过壳体连通,壳体内设置有隔板,隔板将壳体分为调温腔体和流动腔体,在流动腔体的相对侧壁上分别开设有进液孔和...
  • 本发明公开了一种用于反应容器的冷却系统,涉及设备冷却技术领域,包括内置冷却系统,其中具体设置有内置冷却管,所述内置冷却管固定安装于外反应容器保温桶上,所述内置冷却管的输入端固定安装于冷却循环外机的输出端,滑行清理系统,其中具体设置有滑板...
  • 本发明涉及反应器技术领域,具体公开了一种用于压力容器的清洗系统及清洗方法,包括釜体和罐体,釜体内设置有搅拌机构;釜体上设置有进液口和排污口,排污口与排污管连接,排污管上连接有第一连接管,第一连接管一端与排污管连接,另一端与罐体连接;进液...
  • 本技术涉及污水处理技术领域,具体涉及一种反应容器的污水处理系统。该污水处理系统包括:多个循环过滤单元,多个循环过滤单元均安装在第一预设轨道上;第一预设轨道包括竖直的上行区段,以及回程区段,上行区段的末端与回程区段的始端光滑过渡连接,回程...
  • 本技术涉及晶体生长容器配套设备技术领域,具体涉及一种晶体生长容器的翻转倾倒装置,该晶体生长容器的翻转倾倒装置包括支架,还包括擒纵机构,擒纵机构与支架铰接,且能够将晶体生长容器夹持固定;第一伸缩机构,第一伸缩机构的一端与支架铰接,另一端与...
  • 本发明涉及密封的技术领域,具体涉及一种用于压力容器的密封结构,包括压力容器以及用于封闭压力容器的盖体,在压力容器和盖体之间的间隙设置有密封垫,密封垫上设置有多孔结构,在密封垫上设置的多孔结构能够吸收和缓冲压力波动,减少对密封垫的压力负荷...
  • 本发明提供了一种用于制备半导体材料的反应釜,属于半导体材料制造设备技术领域,通过在釜体内的圆形空腔内设置特殊设计的位置切换结构和衬套结构,能够方便内部衬套的更换和维修,提高釜体的使用率,同时也提高了单个衬套的使用寿命;顶盖处的密封可调,...
  • 本发明提供了一种分段式均温加热炉,属于半导体制造设备技术领域
  • 本发明涉及半导体制备技术领域,具体公开了基于半导体晶圆材料制造用原料气输送系统,包括输送单元,其中,输送单元包括相互连通的收纳组件和输送组件,收纳组件包括收纳容器;输送组件包括输送通道
  • 本发明涉及半导体测量技术,公开了一种用于半导体加工成品测量系统,包括机体基板,在机体上设有承载部和检测部;承载部用于承载半导体成品,并进行转动,检测部位于承载部上方,用于对承载部上转动的半导体成品进行检测,且检测部包括:光源发生器,用于...
  • 本发明涉及半导体晶圆检测技术领域,尤其涉及一种用于晶圆划痕的检测系统及该系统的检测方法,旨在解决晶圆在大批量检测时,效率慢的问题。包括:置物台;检测底座,检测底座的顶部开设有容纳槽;检测片,检测片上设置有若干区域;晶圆片可拆卸连接在容纳...
  • 本发明涉及半导体制备技术,具体公开了一种半导体制备系统,包括生产单元和中控单元,生产单元用于半导体的制备生产,中控单元用于对生产单元在进行制备生产半导体时,对其工作状况进行精确控制,其中,生产单元包括:外机体和半导体制备室,半导体制备室...
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