广州凌玮科技股份有限公司专利技术

广州凌玮科技股份有限公司共有49项专利

  • 本技术公开了一种开口剂水分指标控制装置,属于开口剂生产技术领域,包括储气罐、若干单程输送线以及热气流管路,单程输送线包括沿气流输送方向依次设置的冷气流管路、电动三通阀、气流混合管路以及流化床气流磨,若干单程输送线的输入端分别与储气罐连通...
  • 本发明属于硅铝化合物新材料制备的技术领域,具体涉及一种太阳能涂覆背板用硅铝化合物的制备方法,包括如下步骤;S1、在温度为120℃~150℃,压力为0.4Mpa~0.8Mpa条件下,将水玻璃溶液和硫酸同时加入到反应釜中,同时加入铝盐溶液,...
  • 本发明属于二氧化硅材料制备的技术领域,涉及一种医药辅料用大孔容二氧化硅的制备方法,包括如下步骤;S1、在200~500℃,1~2Mpa条件下,将固体高纯水玻璃在反应釜A中溶解,加无机处理剂过滤,再加水稀释得水玻璃溶液;S2、将反应釜B升...
  • 本发明属于光学薄膜开口剂的技术领域,具体涉及一种光学薄膜用二氧化硅开口剂的制备方法,包括如下步骤;S1、保持反应釜A的温度为200~300℃、压力为0.3~1.0Mpa,将水玻璃溶液W1和硫酸F1同时注入到反应釜A中,并保持pH 0.5...
  • 本发明提供一种低粘度光固化涂料用消光粉,在二氧化硅制备过程中加入金属离子,其中金属离子为碱土金属、过渡金属、稀土金属中的一种或几种,在金属离子盐析和共沉淀作用下,金属离子附着在二氧化硅的孔隙内,得到低孔径、低吸油值、高比表面的掺杂二氧化...
  • 本发明提供高消光高抗刮的弹性涂料用消光粉的制备方法,包括制备表面处理剂、制备二氧化硅和制备消光粉,制备表面处理剂包括:混合去离子水和有机硅氧烷;制备二氧化硅包括:去离子水升温至90℃±5℃后并流加入酸液和硅酸盐1‑1.5小时,控制混合体...
  • 本技术公开了一种制备二氧化硅用的pH检测装置,属于pH检测技术领域,包括pH电极,pH电极设在取样槽内,取样槽的入口连接有循环泵的出口,pH电极上设有清洗管道的出口,清洗管道上设有第一阀门,清洗管道的入口连接有清洗水箱的出口。本技术采用...
  • 本实用新型公开了一种白炭黑干燥尾气消白装置,属于白炭黑尾气处理技术领域,包括外壳,外壳的侧壁上贯穿设置有换热器,换热器的出口和入口均在外壳的外部,换热器的出口连接外壳的进气口,外壳内设有喷淋层,进气口和换热器的外壁连通,进气口和换热器的...
  • 本发明属于高分子材料加工技术领域,具体涉及一种溶胶凝胶法薄膜开口剂的制备方法,包括如下步骤;S1.将水玻璃溶液和硫酸通过增压对流的方式形成硅溶胶;S2.将步骤S1所得硅溶胶加热,调节pH呈碱性,然后加入硅烷偶联剂A和B进行改性,老化完成...
  • 本实用新型公开了一种用于降温风机的固定支架,属于风机支架技术领域,一种用于降温风机的固定支架,包括工作台,工作台一侧设置有调节机构用于调节电机与风机的水平距离,调节机构上方固定连接有升降机构,用于风机与电机的竖直高度,升降机构上固定连接...
  • 本发明涉及白炭黑生产领域,尤其涉及一种全自动白炭黑生产设备,包括平台和支撑腿,箱体和加料斗,箱体上开设有出料口,加料斗安装在箱体上;隔板,其固定安装在箱体内,所述隔板将箱体分为搅拌空腔及成型空腔;搅拌机构,其安装在箱体上;成型机构,其固...
  • 本发明涉及二氧化硅提纯技术领域,提供了一种二氧化硅提纯用酸洗设备,所述酸洗设备包括:底箱;酸洗箱,固定设于所述底箱上方,所述酸洗箱内转动设有转筒,所述转筒内转动设有摩擦管,所述转筒上环向均匀设有多块栅格板以及多排气嘴,所述酸洗箱上设有导...
  • 本发明适用于二氧化硅生产领域,提供了一种沉淀二氧化硅生产纯化装置,包括底座,底座上固定连接有安装架,还包括:滚筒,滚筒转动设置在安装架内,滚筒内固定连接有环形过滤板,环形过滤板将滚筒内部分隔成第一纯化室和第二纯化室,第一纯化室位于第二纯...
  • 本发明涉及尾气处理技术领域,提供了一种二氧化硅生产尾气处理装置,包括尾气吸附箱、尾气吸附块和升降板,升降板通过第一复位弹簧与尾气吸附箱的顶部连接,升降板的两侧连接有滑块,滑块沿着滑槽滑动,所述升降板上活动安装有成对的倾斜板,倾斜板卡入梯...
  • 本发明公开了一种阿司匹林
  • 本发明公开了一种硅铝化学机械抛光用磨料的制备方法,包括如下步骤:利用水玻璃和铝盐溶液制备硅铝氧化物,在合成过程中保持体系pH值在中性;向上述硅铝氧化物中加入稀硫酸,使部分铝物种迁移到粒子表面,然后再经过陈化,冷却,过滤,得到滤饼;对滤饼...
  • 本发明公开了一种用于单晶硅片表面抛光的抛光液,包括如下重量份的组分:磨料20份‑60份;表面活性剂0.1份‑1份;金属螯合剂0.1份‑1份;pH值调节剂0.01份‑3份;水50份‑80份;其中,所述磨料为以铝包覆硅的包覆型复合磨料。本发...
  • 本发明公开了一种用于降低硅片表面微划伤的抛光液,包括如下重量份的组分:磨料10份‑30份;磷脂1份‑8份;氧化剂0.1份‑1份;助氧化剂0.01份‑0.05份;表面活性剂0.1份‑1份;pH值调节剂0.01份‑3份;水80份‑100份;...
  • 本发明公开了一种具有抗菌防霉效果的硅酮胶及其制备方法,该硅酮胶包括如下重量份的组分:基础胶40份
  • 本发明公开了一种导热效果好的硅酮胶及其制备方法,该硅酮胶包括如下重量份的组分:基础胶40份