本技术属于真空镀膜技术领域，公开了调节装置、真空泵装置及真空镀膜设备。其中，调节装置包括第一调节结构，第一调节结构包括万向调节件，万向调节件的第一连接部与驱动机构的输出端连接，万向调节件的万向调节部与第二零件活动连接；驱动机构能带动第二...

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了真空镀膜设备及真空镀膜方法。该设备包括转运装置、镀膜室和加料室；转运装置包括搬运室以及与搬运室选择性连通的进片室和出片室，进片室和出片室均与外部环境选择性连通，转运装置设有用于在进片室、搬运室和出片...

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了真空镀膜方法及真空镀膜设备。该方法包括以下步骤：向镀膜室内的蒸发源主体添加物料；将基板治具定位于镀膜室内；将位于预熔位的蒸发源主体内的物料加热至预熔温度，将位于蒸发位的蒸发源主体内的物料加热至蒸发温...

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体公开了蒸发装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法。该装置包括设有多个工作位的承载盘和蒸发源主体；承载盘能够绕切换轴线旋转，多个工作位绕切换轴线周向分布；蒸发源主体安装于承载盘，每个蒸发源主体均位于一个工作位，承...

本技术公开了一种真空镀膜室及真空镀膜设备，涉及真空镀膜设备技术领域。真空镀膜室包括镀膜腔、镀膜架和防护体，镀膜架设于镀膜腔内，镀膜架的周向设置有多个挂载位，用于挂设基板，多个基板的镀膜表面朝外挂设于多个挂载位后能将镀膜架的周向围合。防护...

本发明属于真空处理设备领域，尤其涉及一种真空处理设备及真空处理设备的控制方法。该真空处理设备中包括支架、旋转组件、转轴组件、测距组件和监控组件，支架设于真空处理腔室，转轴组件可转动连接于支架；旋转组件包括支撑件和连接于支撑件两端的第一旋...

本发明属于真空镀膜技术领域，公开了一种注液装置、镀膜设备及控制方法，注液装置包括药瓶、注液泵、分流器、第一开关阀、排气瓶、第二开关阀和注液嘴，分流器设置有主流道、进液流道、排气流道以及多个分流流道，进液流道、排气流道以及多个分流流道均与...

本发明涉及镀膜夹具技术领域，具体公开了旋转式装载机构及镀膜设备。该机构包括夹持模块、固定模块和转动模块；夹持模块，能将若干工件沿排布方向间隔定位，且能为每两个相邻的工件提供一个自由度，用以绕倾斜方向相对转动，倾斜方向与排布方向成夹角设置...

本技术涉及工件设备技术领域，尤其涉及一种搬运装置。搬运装置包括：X轴移动机构、Y轴移动机构、Z轴移动机构、旋转机构和支撑台，X轴移动机构用于使工件沿X轴方向运动；Y轴移动机构安装于X轴移动机构；Z轴移动机构安装于Y轴移动机构；旋转机构安...

本技术公开了一种真空封闭门、真空镀膜室和真空镀膜设备，涉及真空镀膜设备技术领域。真空封闭门包括门框、门体和驱动件，门体滑设于门框的滑轨内。门体包括平行设置的密封门和压紧门，密封门和压紧门之间设有传力机构，传力机构包括第一传力组件、第二传...

本技术公开了一种基板装载架及真空镀膜设备，涉及真空镀膜技术领域。该基板装载架包括公转架和自转架，公转架包括第一驱动件和公转盘，第一驱动件与公转盘连接，用于驱动公转盘转动。公转盘的周向间隔设有多个自转架，自转架包括第二驱动件和自转盘，自转...

本技术公开了驱动装置及真空泵装置，该驱动装置，驱动轴沿轴向靠近驱动件的第一端转动连接于阀体，第一连接结构包括连接座，连接座的第一连接部与驱动轴的第二端转动连接，且第一连接部和驱动轴的第二端均与阀体间隙配合，连接座的第二连接部沿驱动轴的轴...

本技术公开了一种真空镀膜设备，涉及真空镀膜技术领域。该真空镀膜设备包括搬运室、镀膜室和搬送机构，搬运室内设有基板装载架，基板装载架包括公转架和设于公转架周向的多个自转架，自转架的周向设置有多个装载位，装载位用于设置基板，多个基板的镀膜表...

本技术提供了真空泵装置及真空镀膜设备。该真空泵装置，多个真空泵本体的泵体间隔分布且均设置于阀体；驱动件固定设置于阀体；驱动轴与驱动件的输出轴传动连接，且转动连接于阀体；多个驱动臂沿驱动轴的轴向间隔分布且均固定套设于驱动轴；多个真空泵本体...

本技术涉及真空处理技术领域，具体公开了一种搬送装置及真空处理系统。该搬送装置包括第一送料机构、第二送料机构和移动机构；第一送料机构包括第一载台、第一伸缩组件和第一装载组件；第二送料机构包括第二载台、第二伸缩组件和第二装载组件。本技术中搬...

本发明涉及一种旋转式工件装载机构的工件装载方法，将工件安装在相邻的所述工件安装组的支撑板和盖板之间；根据所述工件上的开孔情况选择所述支撑板与所述盖板之间的连接方式，包括在所述支撑板和所述盖板之间设置穿过所述工件上的孔洞的刚性主轴和/或在...

本技术涉及真空处理技术领域，具体公开了一种挡板机构及真空处理室。挡板机构包括支撑部、驱动部和遮挡部，真空处理源与基板沿第三方向间隔设置，挡板机构设于真空处理源与基板之间；当遮挡部处于遮挡状态时，在第三方向上，遮挡部与基板之间的距离小于真...

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种透明低密度的超低反射率薄膜的制作方法，其特征在于：所述制作方法包括以下步骤：将薄膜沉积在基板材料上；将所述薄膜置入改性剂溶液进行处理，所述改性剂溶液为酸性溶液且具有一定离子浓度及温度；去除经所述改性...

本技术涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种防坠落装置及镀膜室，该防坠落装置包括支撑组件和止挡组件；支撑组件在水平方向上呈分布式设置，止挡组件设于支撑组件上，且止挡组件位于悬挂组件和真空镀膜组件之间；止挡组件设于悬挂组件坠落的路径上。本技...

本技术属于真空薄膜制备技术领域，公开了一种镀膜装置。该镀膜装置包括真空腔体、真空门、过渡门法兰、加料腔体和驱动组件，真空腔体设置有第一开口，真空门设置于第一开口，真空门设置有第二开口，过渡门法兰可拆卸或可移动安装于真空门远离真空腔体的一...