本发明涉及镀膜夹具技术领域，具体公开了旋转式装载机构及镀膜设备。该机构包括夹持模块、固定模块和转动模块；夹持模块，能将若干工件沿排布方向间隔定位，且能为每两个相邻的工件提供一个自由度，用以绕倾斜方向相对转动，倾斜方向与排布方向成夹角设置...

本技术涉及工件设备技术领域，尤其涉及一种搬运装置。搬运装置包括：X轴移动机构、Y轴移动机构、Z轴移动机构、旋转机构和支撑台，X轴移动机构用于使工件沿X轴方向运动；Y轴移动机构安装于X轴移动机构；Z轴移动机构安装于Y轴移动机构；旋转机构安...

本技术公开了一种真空封闭门、真空镀膜室和真空镀膜设备，涉及真空镀膜设备技术领域。真空封闭门包括门框、门体和驱动件，门体滑设于门框的滑轨内。门体包括平行设置的密封门和压紧门，密封门和压紧门之间设有传力机构，传力机构包括第一传力组件、第二传...

本技术公开了一种基板装载架及真空镀膜设备，涉及真空镀膜技术领域。该基板装载架包括公转架和自转架，公转架包括第一驱动件和公转盘，第一驱动件与公转盘连接，用于驱动公转盘转动。公转盘的周向间隔设有多个自转架，自转架包括第二驱动件和自转盘，自转...

本技术公开了驱动装置及真空泵装置，该驱动装置，驱动轴沿轴向靠近驱动件的第一端转动连接于阀体，第一连接结构包括连接座，连接座的第一连接部与驱动轴的第二端转动连接，且第一连接部和驱动轴的第二端均与阀体间隙配合，连接座的第二连接部沿驱动轴的轴...

本技术公开了一种真空镀膜设备，涉及真空镀膜技术领域。该真空镀膜设备包括搬运室、镀膜室和搬送机构，搬运室内设有基板装载架，基板装载架包括公转架和设于公转架周向的多个自转架，自转架的周向设置有多个装载位，装载位用于设置基板，多个基板的镀膜表...

本技术提供了真空泵装置及真空镀膜设备。该真空泵装置，多个真空泵本体的泵体间隔分布且均设置于阀体；驱动件固定设置于阀体；驱动轴与驱动件的输出轴传动连接，且转动连接于阀体；多个驱动臂沿驱动轴的轴向间隔分布且均固定套设于驱动轴；多个真空泵本体...

本技术涉及真空处理技术领域，具体公开了一种搬送装置及真空处理系统。该搬送装置包括第一送料机构、第二送料机构和移动机构；第一送料机构包括第一载台、第一伸缩组件和第一装载组件；第二送料机构包括第二载台、第二伸缩组件和第二装载组件。本技术中搬...

本发明涉及一种旋转式工件装载机构的工件装载方法，将工件安装在相邻的所述工件安装组的支撑板和盖板之间；根据所述工件上的开孔情况选择所述支撑板与所述盖板之间的连接方式，包括在所述支撑板和所述盖板之间设置穿过所述工件上的孔洞的刚性主轴和/或在...

本技术涉及真空处理技术领域，具体公开了一种挡板机构及真空处理室。挡板机构包括支撑部、驱动部和遮挡部，真空处理源与基板沿第三方向间隔设置，挡板机构设于真空处理源与基板之间；当遮挡部处于遮挡状态时，在第三方向上，遮挡部与基板之间的距离小于真...

本发明涉及光学薄膜技术领域，尤其是一种透明低密度的超低反射率薄膜的制作方法，其特征在于：所述制作方法包括以下步骤：将薄膜沉积在基板材料上；将所述薄膜置入改性剂溶液进行处理，所述改性剂溶液为酸性溶液且具有一定离子浓度及温度；去除经所述改性...

本技术涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种防坠落装置及镀膜室，该防坠落装置包括支撑组件和止挡组件；支撑组件在水平方向上呈分布式设置，止挡组件设于支撑组件上，且止挡组件位于悬挂组件和真空镀膜组件之间；止挡组件设于悬挂组件坠落的路径上。本技...

本技术属于真空薄膜制备技术领域，公开了一种镀膜装置。该镀膜装置包括真空腔体、真空门、过渡门法兰、加料腔体和驱动组件，真空腔体设置有第一开口，真空门设置于第一开口，真空门设置有第二开口，过渡门法兰可拆卸或可移动安装于真空门远离真空腔体的一...

本技术属于真空薄膜制备技术领域，公开了一种镀膜装置。该镀膜装置包括真空腔体，真空腔体内设置有镀膜位、基板和背板组件，镀膜位可以放置镀膜源，以对基板进行镀膜，背板组件连接真空腔体且位于镀膜位远离基板的一侧，背板组件包括在靠近基板的方向上依...

本技术属于真空加工技术领域，公开了一种翻转装置及真空镀膜机，该翻转装置包括翻转驱动机构和锁止机构，翻转驱动机构被配置为驱动治具的旋转轴旋转；锁止机构设置在工件架上并与旋转轴一一对应，锁止机构包括锁止状态和解锁状态，锁止机构处于锁止状态时...

本技术公开了一种真空处理系统。该真空处理系统包括：工件夹具模块、信号处理模块和控制模块；工件夹具模块包括角度传感单元，工件夹具模块安装有待处理工件，且工件夹具模块设置于真空环境中；工件夹具模块用于带动待处理工件旋转，并通过角度传感器在真...

本发明公开了真空镀膜设备及真空镀膜方法，对于该真空镀膜设备，基板输送室能与基板交换室连通或断开，真空镀膜室还能与基板交换室连通或断开；第一平移机构能够带动基板装载架沿第一方向运动；基板交换机构被配置为能带动基板装载架沿第一方向运动，能带...

本发明公开了基板输送装置及真空镀膜设备，该基板输送装置包括输送机构，输送机构包括滚轮组件和第一驱动组件，滚轮组件包括多个沿第一方向间隔分布的滚轮组，滚轮组包括多个沿第二方向间隔分布且均转动设置于安装基体的滚轮，沿滚轮的轴向，至少两个相邻...

本发明公开了一种镀膜装置、其掩膜版的设计方法及掩膜版，属于镀膜技术领域。镀膜装置包括工件盘、驱动组件、掩膜版和镀膜源，工件盘设有用于容置基板单元的基板孔，驱动组件能够驱动基板单元绕基板孔的中心转动，基板单元投影于掩膜版，掩膜版设于基板单...

本发明涉及镀膜技术领域，具体公开了一种可翻转的坩埚机构及镀膜装置，该可翻转的坩埚机构中，支架设有沿X方向间隔设置的安装部和制动部；坩埚组件包括驱动组件和设于驱动组件的输出端的坩埚本体，驱动组件设于安装部，且驱动组件被配置为能驱动坩埚本体...