描述了一种用于通过微波能量对腔中的物体进行加热的装置和方法。在一些实施例中，所述装置包括多个天线；微波源，所述微波源被配置为经由所述多个天线向所述腔馈送微波能量；以及多个辐射体。每个辐射体被配置为可控制地移动，以将所述源耦合到所述多个天...

描述了一种固态微波模块。所述固态微波模块包括：一个或多个印刷电路板(PCB)；微波固态放大器，所述微波固态放大器被组装到所述一个或多个PCB上；天线接口，所述天线接口被组装到所述一个或多个PCB上；TEM或半TEM传输线，所述TEM或半...

提供了一种用于对加热器中的食物部分的加热进行监测和控制的方法，每个加热器都被安装成与对应的客户端计算机通信，所述客户端计算机与同一服务器通信，由所述服务器执行的方法包括：从所述客户端计算机接收RF签名，每个RF签名基于在所述加热器之一的...

一种用于在置于能量施加区域中的物体的加工期间施加RF能量来检测该物体的加工状态的方法可以包括在加工期间将RF能量施加到该物体上。该方法还可以包括接收计算出的RF反馈，该反馈与该物体的一种或多种加工状态相关；以及在该加工期间监测该计算出的...

本申请涉及使用RF辐射的物体加工状态感测。一种用于在置于能量施加区域中的物体的加工期间施加RF能量来检测该物体的加工状态的方法可以包括在加工期间将RF能量施加到该物体上。该方法还可以包括接收计算出的RF反馈，该反馈与该物体的一种或多种加...

用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元素中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元素中的每一个与功率应用的相应的持...

本申请涉及模态分析。在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施...

在此披露了用于确定在一个微波空腔内部的导管中流动的材料的一个属性的值的方法和设备。这种设备可以包括：其中具有该导管的一个多模微波空腔；多个馈源，每个馈源被配置用于向该空腔馈送RF辐射，以在该空腔中激发多种模式；一个检测器，该检测器被配置...

提供了用于处理在一个腔中的一个物体的设备和方法。这些设备包括被配置成用于将用于施加的RF能量供应到一个或多个辐射元件的至少一个射频(RF)能量供应部件，该一个或多个辐射元件被配置成用于响应于该施加的RF能量来发射RF辐射。在一些实施例中...

在此披露了一种用于向空腔施加电磁能量的辐射元件。该辐射元件包括一个馈送部段和一个接地部段，其中该馈送部段和该接地部段基本上在一个第一平面内延伸。该辐射元件还包括与该馈送部段和该接地部段处于电联通的一个辐射部段，其中该辐射部段包括在该馈送...

本申请涉及使用RF能量进行加热的装置和方法。施加EM能量到负载的设备可以包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示针对多个调制空间元素中的每一个的耗散能量的信息，并且基于所接收的指示耗散能量的信息将若干该多个调制空间元素分组为至少两个...

本发明涉及使用RF能量进行加热的设备和方法。描述了一种使用RF加热器进行加热和/或融化的方法。在一些情况下，所述加热按照其耗散率有差别地对一些部分进行加热。可选择地，这避免了将大量能量耗散到已融化的部分中，同时仍存在冻结部分并且加热缓慢...

本发明涉及一种控制能量的设备和方法。一种辐射负载的方法，包括：通过改变相应的频率在其中被发送的相应的持续时间，在不同频率处提供不同量的能量。该方法有益于任何方式的加热，其包括：使用微波和/或RF能量进行升温、烘干和融化。

在此披露了一种用于将RF能量施加于空腔中的物体的装置。该装置可以包括多对辐射端口以及多个导电元件。每对辐射端口可以包括两个辐射端口，这两个辐射端口被配置成用于彼此相干地向该空腔中发射RF辐射；并且可以将每个导电元件位于构成一对辐射端口的...

在此披露了一种用于经由至少一个辐射元件向第一能量施加区域中的物体施加电磁能量的设备。该设备可以包括被配置成用于引起该至少一个辐射元件向两个或更多个MSE下的能量施加区域施加能量的至少一个处理器；以及在没有来自该能量施加区域的关于一个MS...

本实用新型涉及用于将RF能量施加到旋转室的装置。本实用新型的一些示例性方面目的可在于一种用于通过按多个激发设置施加的RF能量来处理物体的装置。该装置可包括控制器，其配置成从多个引导激发设置当中选择一个或多个激发设置，用于将RF能量施加到...

在此披露了一种通过施加EM能量来将燃料混合物点燃的设备。该设备可以包括：一个辐射元件，该辐射元件被配置成用于以多个调制空间要素（MSE）向该燃料混合物施加EM能量；以及一个处理器，该处理器被配置成：用于确定在向该燃料混合物施加EM能量以...

本方面的一些方面可针对一种用于将RF能量施加给容器的设备和方法。这些容器（例如，锅、罐、缸、釜、反应器等）可以包含有待通过EM能进行加热或加工的物体。这个物体可以处于液相、气相、固相或其任何组合相。该设备可以包括一个外壳体。任选地，该外...

在此披露了一种用于使用电磁能来源将电磁能施加到能量施加带中的物体上的装置和方法。至少一个处理器可被配置为获取指示与该能量施加带的至少一部分相关联的电磁能损耗的信息。该处理器可进一步被配置为确定将应用于多个电磁场场图中的每一者的权重，其中...

在此披露了用于经由至少一个辐射元件向能量施加带中的物体施加电磁能的设备以及方法。至少一个处理器可以被配置为确定该能量施加带中的一个第一区以及一个第二区的位置。另外，该处理器可以被配置为对一个来源进行调节以便向该能量施加带中的该第一区施加...