本发明涉及一种用于对至少一种纱线式和/或带式待处理基材(11a)进行粉末浸渍的设施(100)，包括粉末输送单元、用于供应待处理基材的单元、至少两个电极(14)以及用于粉末和待处理基材的循环区。该设施包括约束单元(15)，约束单元(15)...

本发明涉及用于使用粉料(17)浸渍多孔介质(16)的设备(2、2’、2”、2”’)，所述设备包括能够在整个所述多孔介质产生交流电场的装置(6)，所述装置包括置于所述多孔介质的任一侧上的第一电极(4A、4A’、4A”、4A”’)和第二电极...