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多摩化学工业株式会社专利技术
多摩化学工业株式会社共有7项专利
半导体衬底用碱性处理液的精制方法及精制装置制造方法及图纸
本发明提供一种半导体衬底用碱性处理液的精制方法及精制装置,其可以将为了以各种目的处理半导体衬底而使用的各种碱性处理液精制到超高纯度,特别是将Fe浓度精制到ppq水平,进而使用化学耐性及机械强度也优异的吸附精制装置。本发明提供一种碱性处理...
电解用电极及使用该电解用电极的氢氧化季铵水溶液的制造方法技术
提供在以阳离子交换膜作为隔膜的电解槽中电解季铵的无机酸盐而制造高纯度的氢氧化季铵方面,耐腐蚀性以及耐久性优异、可长期使用、而且可降低电力消耗量、可工业上不增加成本地制造高纯度的氢氧化季铵的电解用电极。是在用阳离子交换膜作为隔膜的电解槽中...
分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法技术
一种分散稳定性优良的研磨剂浆体,包含:由一种或两种以上的氧化物构成的研磨微粒、为胶状氧化物具有比上述研磨微粒小的平均粒径的胶态微粒、使这些研磨微粒和胶态微粒分散的分散介质,以及,一种基板制造方法,包含采用这样的研磨剂浆体对无机质基板进行...
均匀分散性光催化涂覆液及其制造方法、以及使用它而得到的光催化活性复合材料技术
本发明提供一种均匀稳定性光催化涂覆液,其中,具有光催化活性的氧化钛粒子的分散稳定性优异,而且不对环境产生负荷且操作性优异,并且,可涂布于基材的表面而在该基材的表面上形成光催化活性(防污性和/或抗菌性)、透明性以及耐久性优异的光催化涂覆液...
从聚有机硅氧烷回收有机烷氧基甲硅烷的方法技术
一种从高分子量聚有机硅氧烷回收含硅化合物的方法,该法包括: (Ⅰ)使下述(A)在有下述(B)的存在下与下述(C)在低于300℃的温度下起反应: (A)一种高分子量聚有机硅氧烷或一种含有该组分的组合物; (B)至少一种选...
从聚有机硅氧烷回收有机烷氧基甲硅烷的方法技术
报道一种方法,该法包括使一种高分子量聚有机硅氧烷或者一种含有该组分的组合物与一种烷氧基甲硅烷和/或其部分水解缩合物在温度低于300℃有一种醇盐化合物存在下起反应,回收所得的有机烷氧基甲硅烷和除此物外至少一种可蒸馏聚有机硅氧烷低分子量化合...
酸性废气的处理方法技术
本发明提供了一种酸性废气的处理方法,该方法为在使废气与碱性的气体处理液接触,分离除去该废气中的酸性成分的酸性废气的处理方法中,使酸性废气与由季铵化合物的水溶液组成的气体处理液接触,从该酸性废气中分离除去酸性成分,该方法可以在不污染周围环...
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