本发明公开了一种测试晶片（１２）和一种用于勘测静电放电感应的晶片缺陷的方法。测试晶片（１２）包括在其上形成的静电放电（ＥＳＤ）敏感危险尺度几何结构（１６）。在经受半导体制造工序之后，可以通过使用ＥＳＤ危险尺度几何结构（１６）分析测试晶片...

公开了用于光掩模订单的电子订单登记和自动处理的方法和系统。光掩模部件的制造过程中订单登记和处理的方法包括电子接收产品订单信息文件。产品订单信息被自动转换成标准数据库格式。然后使用规则引擎将一组预定义的客户要求应用到该产品订单信息文件来自...

公开了一种透光埋置相移器光掩模板，其包括光学上不均匀衰减薄膜，该膜有至少０. ００１的透光度和基本上由金属组分和电介质组分组合而成。薄膜的一个表面有比另一表面较高含量的金属组分，贯穿整个薄膜厚度，消光系数变化的分布呈缓变状态。选择消光系...

本发明公开了可透过预埋移相器－光掩模坯料。它包括一种光学非均匀性衰减薄膜，该薄膜在平印波长下至少具有０．００１的透射，而且实质上是由多种成分的组合构成的。其中一种成分比另一种成分在平印波长下具有更高的吸收率。距离薄膜表面的一种深度，比另...

一种可以按照选定的＜４００ｎｍ的蚀刻波长以至少０．００１的透光率产生１８０°相移的衰减镶嵌式相移光掩模空白片，所述的光掩模空白片包括若干或者是周期性地、或者是非周期性地交错排列的光学透明材料层和光学吸收材料层。所述的光学透明材料层和光学...

本发明公开了一种光掩模及其制备方法。在至少部分基底上沉积第一材料以形成第一材料层。在第一材料的沉积完成之前，在高于大约３００摄氏度的温度对该基底施加热处理。

公开了一种光掩模和用于修补该光掩模上的缺陷的方法。优选，该光掩模包括基板、缓冲层和不透射层，该缓冲层设置在该基板和该不透射层之间。该方法包括在该不透射层中形成图案。如果在图案化的不透射层中识别出一个或多个缺陷，则该缓冲层保护基板在修补图...