本发明公开了着色感光性树脂组合物，其包括：着色剂（A）、包括由下面的化学式1所表示的化合物的碱溶性树脂（B）、光聚合性化合物（C）、光引发剂（D）以及溶剂（E），该碱溶性树脂（B）的酸值为30～150mgKOH/g，并且其敏感度和附着力...

本发明涉及着色感光性树脂组合物、使用该着色感光性树脂组合物所形成的彩色滤光片以及包括该彩色滤光片的液晶显示器装置或成像装置。该着色感光性树脂组合物包括：着色剂（A）、碱溶性树脂（B）、光聚合性化合物（C）、光引发剂（D）以及溶剂（E），...

本申请公开了刻蚀剂组合物，形成金属图案的方法以及制造用于有机发光显示器的阵列基板的方法。所述刻蚀剂组合物用于银（Ag）或银合金的单层膜，或包括所述单层膜和铟氧化物膜的多层膜，基于所述刻蚀剂组合物的总重量，所述刻蚀剂组合物包括：6.0～8...

本发明涉及制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，所述方法包括：（a）在基板上形成栅极，（b）在具有所述栅极的基板上形成栅绝缘层，（c）在所述栅绝缘层上形成金属氧化物膜（有源层），以及（d）在所述金属氧化物膜上形成Mo金属膜（源极/漏极），...

本发明公开了刻蚀剂组合物，形成金属图案的方法以及制造用于液晶显示器的阵列基板的方法。所述刻蚀剂组合物用于银（Ag）或银合金的单层膜或由所述单层膜和铟氧化物膜组成的多层膜，所述刻蚀剂组合物包含硝酸、硫酸、三价铁盐和水。

本发明公开了一种防止污渍的光刻胶剥离剂组合物以及一种制造平板显示器基板的方法，所述光刻胶剥离剂组合物包含：（a）由下面的化学式1所表示的二醇醚；（b）碱性化合物；（c）非质子性极性溶剂；以及（d）抗腐蚀剂：R-(OCH2CH2)n-OH...

本发明涉及刻蚀剂组合物，阵列基板以及制造阵列基板的方法。所述刻蚀剂组合物用于Cu-基金属膜，基于该组合物的总重量，所述刻蚀剂组合物包括A）过氧化氢（H2O2）、B）pH调节剂以及C）水。当利用本发明的刻蚀剂组合物刻蚀由Cu-基金属膜组成...

本发明提供一种用于金属层的蚀刻液组合物，具体地，金属层包括铜和钛，该蚀刻液组合物包括过硫酸盐、含氟化合物、无机酸、环胺化合物、含氯化合物、磷酸盐和水。

本发明提供了激光切割用晶圆保护膜组合物和半导体元件的制造方法，所述激光切割用晶圆保护膜组合物包含：含有水溶性树脂的树脂、防腐剂以及作为水或水与有机溶剂的混合物的溶剂。

本发明提供着色感光性树脂组合物、使用该着色感光性树脂组合物制造的滤色器以及包含前述滤色器的液晶显示装置或摄像元件。本发明的特征在于，包含着色剂(A)、碱溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)和溶剂(E)，前述碱溶性树脂...

本发明提供着色感光性树脂组合物、使用该着色感光性树脂组合物制造的滤色器以及包含前述滤色器的液晶显示元件或摄像元件。本发明的特征在于，包含：(A)包含一种以上颜料和一种以上染料，前述颜料或染料中的一种以上为蓝色系列的着色剂；(B)酸值为3...

本发明涉及一种着色感光性树脂组合物、使用其制造的滤色器以及包括该滤色器的液晶显示装置，所述着色感光性树脂组合物包含着色剂(A)、碱溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)、交联剂(E)和溶剂(F)，其特征在于，前述碱溶性...

本发明公开一种着色感光性树脂组合物，包括：着色剂(A)、碱溶性树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)和溶剂(E)，其中，所述着色剂包括至少一种颜料和至少一种染料，且所述碱溶性树脂包括以下式1的化合物。

本发明涉及包含下述化学式1表示的重复单元的碱溶性树脂、包含碱溶性树脂的感光性树脂组合物及着色感光性树脂组合物，其中所述碱溶性树脂的粘附性、耐化学性、显影性、灵敏度、强度或弹性等物理性能优良，适于柱状间隔物、彩色滤光片、彩色抗蚀剂、光致抗...

本发明涉及一种抗蚀剂剥离液组合物，包括(a)选自由以下化学式1表示的有机磷酸和硅烷醇化合物组成的组中的至少一种；(b)碱性化合物；以及(c)水溶性极性溶剂。[化学式1]

本发明公开一种抗蚀剂剥离组合物，包括：(a)化学通式1表示的羟基二氧戊环化合物；以及(b)碱性化合物。

本发明涉及一种蚀刻液组合物，所述蚀刻液组合物能同时蚀刻包括IZO透明导电层、铝和铝合金层(称为铝基金属层)以及钼和钼合金(称为钼基金属层)的多层，该多层用作像素电极、栅极、源极和漏极的线。另外还提供了一种利用所述蚀刻液组合物制造薄膜晶体...

本申请公开了一种用于清洗有机EL掩模的方法，所述方法包括以下步骤：(A)在洁净的腔室内提供四氢呋喃(THF)溶液；(B)将有机EL掩模浸泡在THF溶液中；(C)超声清洗浸泡在THF溶液中的有机EL掩模；以及(D)用去离子水漂洗清洗后的有...

本发明揭示一种用于将结晶状硅晶圆纹理化的蚀刻组成物，及一种使用该蚀刻组成物将结晶状硅晶圆蚀刻的方法，所述蚀刻组成物可将结晶状硅晶圆表面的光吸收度最大化，该蚀刻组成物包括按组成物总量计为：（A）碱性化合物；（B）沸点为100℃以上的环状化...

本发明涉及一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，一种形成金属配线的方法，用于金属氧化物半导体层的蚀刻液组合物，以及用于液晶显示器的阵列基板，尤其涉及一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，包括：a)在基板上形成栅极电极；b)在形成有栅...