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东莞市蒂造自动化科技有限公司专利技术
东莞市蒂造自动化科技有限公司共有15项专利
自动玻璃喷涂机构及设备制造技术
本发明公开了一种自动玻璃喷涂机构及设备,其中,一种自动玻璃喷涂机构,包括输送装置、喷涂装置和防污染装置,所述防污染装置包括放料滚筒、收料滚筒、防污染膜料,卷绕于所述放料滚筒上的所述防污染膜料自所述放料滚筒引出,贴覆于所述输送装置的输送表...
AG玻璃喷涂生产线制造技术
本发明公开了一种AG玻璃喷涂生产线,所述AG玻璃喷涂生产线的前端设置有上板机构,所述AG玻璃喷涂生产线的后端设置有下板机构;所述上板机构,包括沿生产线输送方向依次设置的第一治具推送机构、第一治具叠放机构以及第一治具传输机构;所述下板机构...
一种涂层滚涂设备制造技术
本实用新型公开了一种涂层滚涂设备,包括药水辊、压辊和支架,所述药水辊可转动的连接支架上,还包括保持架和固定件,所述压辊连接可转动的连接在保持架上,所述保持架和所述固定件连接,所述固定件可拆卸的连接在支架上。本实用新型技术方案通过固定件和...
一种涂敷设备制造技术
本实用新型公开了一种涂敷设备,包括用于下端流出药水的涂敷头和用于放置产品的涂敷台,所述涂敷头连接在涂敷台上,所述涂敷头能相对于涂敷台的上表面移动,所述涂敷头的下端和所述涂敷台的上表面之间具有间隙。本实用新型通过涂敷头的下端能流出药水,涂...
一种玻璃表面电膜退镀设备及玻璃表面电膜退镀方法技术
一种玻璃表面电膜退镀设备,包括机架,机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,在物料传输装置上设置了空隔,等离子处理装置的喷头正对空隔,等离子处理装置位于空隔上方并从上往下喷出等离子体。与现有技术对比,本发明的优点在于:1、不设置压辊等...
一种液体输送控制方法和液体输送控制系统技术方案
本发明公开了一种液体输送控制方法和液体输送控制系统,其中所述一种液体输送控制方法包括以下步骤,步骤S1:关闭喷枪的通道,打开第一阀门,驱动活塞向上移动;步骤S2:驱动活塞向下移动,在接收到空气已经排完的信号时,停止驱动活塞的向下移动;步...
一种玻璃表面电膜退镀设备制造技术
一种玻璃表面电膜退镀设备,包括机架,机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,在物料传输装置上设置了空隔,等离子处理装置的喷头正对空隔,等离子处理装置位于空隔上方并从上往下喷出等离子体。与现有技术对比,本发明的优点在于:1、不设置压辊等...
一种喷涂机制造技术
一种喷涂机,包括喷枪、定量泵,定量泵设置有进料口和出料口,进料口与装有液体喷料的容器连通,出料口与喷枪连通,其特征在于,喷枪直接通过管道与出料口连接,中间不经过阀门,喷枪内部包括顶针和开关结构。枪内部包括顶针和开关结构。枪内部包括顶针和...
一种喷涂机制造技术
本发明提供了一种喷涂机,包括机架、物料传输线、喷涂装置、导轨、第一电机、第二电机和控制单元,物料传输线安装在机架上,导轨安装在物料传输线上侧的机架上并与物料传输线三维交叉,喷涂装置安装在导轨上,还包括一个沿着物料传输线方向设置的传动机构...
一种喷涂机制造技术
本实用新型提供了一种喷涂机,包括机架、物料传输线、喷涂装置、导轨、第一电机、第二电机和控制单元,物料传输线安装在机架上,导轨安装在物料传输线上侧的机架上并与物料传输线三维交叉,喷涂装置安装在导轨上,还包括一个沿着物料传输线方向设置的传动...
一种带液位感应的自动镀膜机制造技术
本实用新型公开了一种带液位感应的自动镀膜机,包括机架、与机架相固定的机箱,所述机箱上开设有进料口和出料口,所述机架上安装有物料传输组件和控制组件,在所述机架上,从所述进料口到出料口方向还依次设置有第一物料感应器、等离子清洗组件、第二物料...
一种双等离子镀膜机制造技术
本实用新型公开了一种双等离子镀膜机,包括机架、设置在机架上方的机罩,所述机罩上有进料口到出料口,所述机架上有物料传输装置,在所述机架上,依次设置有等离子清洗装置,喷涂装置,烘烤装置,其特征在于,所述等离子清洗装置包括两台或两台以上的等离...
一种镀膜自动生产线制造技术
本实用新型一种镀膜自动生产线,用于电子产品触摸屏玻璃镀膜生产,包括有等离子镀膜设备、烘烤设备、退镀设备及清洗设备,所述等离子镀膜设备、烘烤设备、退镀设备、清洗设备通过传送机构依次连接,所述等离子镀膜设备用于触摸屏玻璃的正面镀膜,所述烘烤...
一种带液位感应的自动镀膜机及自动镀膜方法技术
本发明公开了一种带液位感应的自动镀膜机及自动镀膜方法,包括机架、与机架相固定的机箱,所述机箱上开设有进料口和出料口,所述机架上安装有物料传输组件和控制组件,在所述机架上,从所述进料口到出料口方向还依次设置有第一物料感应器、等离子清洗组件...
一种电膜退镀及清洗设备制造技术
本实用新型公开了一种电膜退镀及清洗设备,包括机架、设置在机架上方的机罩,所述机架上设置有物料传输装置、等离子处理装置,所述等离子处理装置位于所述物料传输装置的下方,所述物料传输装置在正对所述等离子处理装置的区域形成空隔。本实用新型提供的...
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