本技术公开一种双喷射便携式接触角测量仪，包括外壳以及设于外壳内的液体储存组件、喷射组件、照明组件、摄像组件以及电路板，其中，液体储存组件，包括双储液瓶；喷射组件，包括双点滴阀，各点滴阀的入液端与对应的储液瓶输出端连接，各点滴阀的滴液端外...

本技术公开一种真空等离子反应腔装置，通过使用绝缘框、第一电极板结构和第二电极板结构合围形成反应腔，相较传统使用铝合金腔体，能减少能耗，绝缘框替代了传统特氟龙涂层绝缘，满足客户的需求；第一电极板结构上的第一散热流道和第二电极板结构上的第二...

本发明涉及接触角测量技术领域，具体为一种多角度调节的接触角滚动角测试治具，测试治具包括光源、主体机构、注射机构、载物机构、滚动角治具和检测机构，光源和主体机构连接，主体机构和注射机构连接，主体机构和载物机构连接，主体机构和滚动角治具连接...

本发明公开了晶圆生产设备技术领域的一种桌面式快速退火炉，包括第一壳体，还包括炉体，所述炉体固定设置在第一壳体内，所述炉体内固定连接有多个分上下两层分布的加热灯；保温壳，所述保温壳外壁固定连接有第二壳体，所述第二壳体外接有水冷装置；固定机...

本发明公开了一种接触角电机光源控制系统，属于接触角电机光源控制技术领域。本发明系统包括：光源控制模块、电机控制模块、数据处理与分析模块以及结果输出模块；且本发明的接触角电机光源控制系统的电路包括：光源电路、控制电路、电源管理电路、驱动电...

本技术涉及一种等离子体电感耦合去胶装置，包括了进气装置、等离子体生产室、耦合装置、匀气装置、去胶反应室以及抽气装置，所述进气装置、等离子体生产室、去胶反应室以及抽气装置依次连通，所述等离子体生产室的外壁套接有耦合装置，所述匀气装置设置于...

本技术涉及一种等离子去胶机的偏压控温载盘，包括陶瓷底环、偏压盘、绝缘连接环、绝缘底盘、隔断环、陶瓷顶环、控温载盘以及油路连接管，所述陶瓷底环和绝缘连接环围合成绝缘框架，所述偏压盘安装于绝缘框架中，所述偏压盘、绝缘底盘以及控温载盘从下到上...

本技术公开了一种半导体去胶设备的顶升顶针装置，包括定制气缸，所述定制气缸外壁的两端焊接有连接块，其中一个所述连接块的外壁通过螺丝固定有三角板，所述三角板的中部开设有供金属波纹管贯穿的通孔，所述定制气缸的伸缩端位于金属波纹管内；本技术通过...

本发明公开了玻璃输送技术领域的一种处理面带滚轮的除尘装置，包括用于输送玻璃的输送线，所述输送线侧边设置有USC除尘机构；所述USC除尘机构包括侧板，所述侧板设置有两个，两个所述侧板共同固定安装有除尘头，所述除尘头的顶部设置有两个接风口；...

本发明公开了双棱镜折射接触角测试仪器，涉及测量装置技术领域，该测试仪器包括底板座，底板座上设置有移动载物台，移动载物台与底板座滑动连接，底板座上设置有测试台，测试台上设置有测试轨道，测试轨道上滑动有自动注液台与手动注液台，自动注液台内设...

本发明涉及镀膜技术领域，具体是一种常压等离子体沉积镀膜方法，利用常压等离子体轰击雾化成气体的含氟镀膜液，得到均一、致密、与基材结合力度强的疏水膜层；含氟硅烷为以N‑(2‑氨乙基)‑3‑氨丙基三甲氧基硅烷和对氯甲基苯乙烯为原料，通过亲核取...

本发明公开了一种手柄便携式接触角测量仪，其包括，控制手柄以及通过连接管连接的滴液成像主机，所述控制手柄包括：壳体，具有一开口的收纳腔；储液组件，收纳于收纳腔中；弹性锁扣组件，可移动地设于所述壳体，所述弹性锁扣组件的锁扣端在弹性力下与储液...

本发明涉及大气等离子镀膜系统技术领域，具体公开了一种镀膜系统温度控制模块，该发明通过控制器、温度采样电路、热循环机构、水冷循环机构和铝水冷却机构的协同配合，实现对镀膜系统中枪头温度的实时精确控制，通过镀膜系统设置好所需的枪头的温度，当温...

本发明公开了退火炉技术领域的一种半自动快速退火炉设备，包括机架，机架前方位置固定连接有控制面板，控制面板用于各部件动作逻辑的主控制；机架内固定连接有强电控制模块和弱电控制模块，强电控制模块主要包括主电源的接入；机架内固定连接有炉体，炉体...

本发明涉及远程等离子源腔体技术领域，具体是一种远程等离子源腔体表面耐腐蚀处理工艺，以微弧氧化技术替代传统阳极氧化工艺，在远程等离子源腔体表面制备结构致密、抗菌、耐腐蚀、与基材结合力强的氧化膜层，通过热分解剥离法，利用钴盐作为掺杂剂，将层...

本发明涉及半导体加工领域，具体的说是一种用于半导体腔体自清洁的远程等离子设备，包括主框架、气泵，所述主框架的顶部固定连接有处理腔室，所述处理腔室的顶部安装有远程等离子体源，所述处理腔室与远程等离子体源之间设置有传输管，所述主框架的一侧固...

本发明涉及半导体加工设备技术领域，具体公开了一种晶圆传输系统和方法，通过上料腔、传输腔体、中转腔体和旋转升降装置的配合，在上料腔装卸料盒的过程中以及晶片在传送腔体中加工的过程中，都通过两个密封封板依次隔绝上料腔、中转腔体和传送腔体，使任...

本技术公开了一种用于石墨舟干法刻蚀的远程等离子体气路系统，包括远程等离子源、可多级分流的分流板、控制单路或多路气体作为工艺气体的气路控制模块、腔体、抽真空匀气板和抽真空管道，所述分流板的一端连通有对工艺气体混气的汇流板，所述气路控制模块...

本发明涉及半导体制造技术领域，更具体地，涉及一种应用于远程等离子源的点火方法、系统及设备。该方案包括采用耦合电容控制放电能量并设置2个点火电源OUT1和OUT2；设置腔室结构，用于与2个点火电源OUT1和OUT2连接，形成电容耦合放电区...

本技术涉及一种用于石墨舟干法刻蚀的远程等离子系统，包括进气系统、真空腔体以及排气系统，所述进气系统安装于真空腔体的顶部，所述排气系统连接于真空腔体底部，所述进气系统包括进气管、固态微波远程等离子体源、真空法兰座以及分流器，所述固态微波远...