本实用新型提供一种差分抽样品传递机构

本发明提供一种差分抽样品传递机构

本发明提供一种重负载高精度真空样品台，包括样品扫描系统、样品直线驱动机构和差分旋转机构；所述样品扫描系统用于固定待测样品，并能实现待测样品在Y、Z方向上的移动和转动；所述样品直线驱动机构与样品扫描系统连接，并能实现样品扫描系统X方向上的...

本实用新型提供一种光束线狭缝。本实用新型包括双面法兰、若干挡板和连接在挡板上的若干驱动机构，所述驱动机构的输出端穿过双面法兰的侧壁后与所述挡板相连，所述驱动机构为微分头直线驱动器，使得与其连接的挡板能够在行程范围内直线运动，同步辐射光束...

本实用新型提供一种双刀狭缝。本实用新型包括支撑板、转接法兰和连接在转接法兰上的第一驱动机构和第二驱动机构，各驱动机构的输出端均穿过转接法兰后与其对应的刀具相连，所述驱动机构为微分头直线驱动器，使得与其连接的刀具能够在行程范围内直线运动，...

本实用新型提供一种真空蝶阀。本实用新型包括驱动机构、驱动腔体、主体法兰和蝶板，驱动机构包括法兰、波纹管、驱动中心轴、螺母、螺杆等，波纹管一端焊接在法兰上，一端焊接驱动中心轴，驱动中心轴与螺母连接，螺杆安装在所述螺母上，螺杆的端部和把手相...

本实用新型提供一种中空直线导入器。本实用新型包括波纹管和连接在波纹管两端的螺孔法兰和特制通孔法兰短管，所述特制通孔法兰短管的外侧固定有外螺纹套，所述外螺纹套的外侧螺纹连接有内螺纹外罩，所述特制通孔法兰短管用于与各种导入要素连接，所述内螺...

本实用新型涉及真空下的半导体材料分析领域，特别涉及一种半导体变温样品台。该样品台真空腔壳体内部开设有空腔，上盖螺接在真空腔壳体顶部形成腔室，腔室内设置有样品台组件，样品台组件包括样品台底座，样品台底座上设置有半导体制冷片，半导体制冷片上...

本实用新型涉及超高真空设备的薄膜生长领域，具体为一种适用于强磁性材料的磁控溅射靶。该磁控溅射靶的溅射靶主体包括水冷循环室和高压室，所述水冷循环室的壁面是由水冷底座与靶头通过螺栓连接形成，靶头的外侧连接样品夹持罩，所述水冷循环室内安装有内...

本实用新型涉及超高真空紫外线发射设备技术领域，具体为一种紫外线发射器。该发射器的带放电毛细管的阳极组件中放电毛细管的一端插接并固定于电极内，电极固定设于阳极法兰上，放电毛细管的另一端穿过阳极法兰，阳极法兰上设有放电气体的进气孔，进气孔连...

本发明涉及超高真空紫外线发射设备技术领域，具体为一种紫外线发射器。该发射器的带放电毛细管的阳极组件中放电毛细管的一端插接并固定于电极内，电极固定设于阳极法兰上，放电毛细管的另一端穿过阳极法兰，阳极法兰上设有放电气体的进气孔，进气孔连通进...

本实用新型提供一种样品搬运机构，属于超高真空样品传递技术领域，该搬运机构包括样品台、样品底座、抓手。样品台包括用于放置样品的平台和与平台底面固定连接的支架，支架由若干弹片围成圆形或方形，若干弹片内部设有一圈向外凸起的凹槽，样品底座上设有...

本实用新型涉及超高真空设备领域，特别涉及一种插拔式高真空蒸发源。一种插拔式高真空蒸发源，包括插拔式底座和蒸发源主体，蒸发源主体与插拔式底座插拔式连接，蒸发源主体设置有加热机构，加热机构下端设置有测温机构，蒸发源还包括屏蔽机构，屏蔽机构开...

本实用新型涉及光学技术领域，特别涉及一种光学镜架。一种光学镜架，包括光学镜固定机构，包括光学镜和镜子活动板，所述光学镜安装在镜子活动板上，所述镜子活动板上安装有轴承；光学镜调节机构，包括固定板，所述固定板上安装有第一方向旋转机构、第二方...

本实用新型公开一种真空镀膜用高温裂解炉，包括低温蒸发区、控制阀门、高温裂解区、加热和测温组件，低温蒸发区采用双层温区炉，两炉层之间通入冷却水，低温蒸发区内部是坩埚，高温区是裂解器，坩埚和裂解器的温度由电源控制器通过对灯丝的加热来控制，固...

本发明提供一种样品搬运机构，属于超高真空样品传递技术领域，该搬运机构包括样品台、样品底座、抓手。样品台包括用于放置样品的平台和与平台底面固定连接的支架，支架由若干弹片围成圆形或方形，若干弹片内部设有一圈向外凸起的凹槽，样品底座上设有可插...

本发明涉及光学技术领域，特别涉及一种光学镜架。一种光学镜架，包括光学镜固定机构，包括光学镜和镜子活动板，所述光学镜安装在镜子活动板上，所述镜子活动板上安装有轴承；光学镜调节机构，包括固定板，所述固定板上安装有第一方向旋转机构、第二方向旋...

本发明涉及超高真空设备领域，特别涉及一种插拔式高真空蒸发源。一种插拔式高真空蒸发源，包括插拔式底座和蒸发源主体，蒸发源主体与插拔式底座插拔式连接，所述蒸发源主体设置有加热机构，加热机构下端设置有测温机构，所述蒸发源还包括屏蔽机构，所述屏...

本实用新型提供一种共聚焦拉曼光谱仪反应池。本实用新型包括：真空腔和置于其中的样品台，所述真空腔包括真空腔壳体和所述真空腔壳体内部开设的空腔，所述样品台包括：低温盘和设于低温盘中的加热装置，所述真空腔壳体侧面开设用于调整空腔内环境的充气/...

本发明公开一种真空镀膜用高温裂解炉，包括低温蒸发区、控制阀门、高温裂解区、加热和测温组件，低温蒸发区采用双层温区炉，两炉层之间通入冷却水，低温蒸发区内部是坩埚，高温区是裂解器，坩埚和裂解器的温度由电源控制器通过对灯丝的加热来控制，固体源...