创微微电子常州有限公司专利技术

创微微电子常州有限公司共有67项专利

  • 本技术公开了一种片篮托架、晶圆干燥设备和晶圆清洗设备。所述片篮支架包括:两个第一限位底板,限制所述第一尺寸片篮向两侧移动;支撑底架,支撑所述第一尺寸片篮的底部;两个限位侧板,设置在所述第一限位底板的两端,两个第一限位底板之间设有与限位侧...
  • 本技术公开了一种基片夹持结构及烘干设备,基片夹持结构包括:固定支架,第一驱动机构,两个夹持臂,第一驱动机构上设有升降背板,第一驱动机构带动升降背板沿Y轴方向上升或下降;夹持臂一端向固定支架正面延伸位于干燥篮筐两侧,另一端与升降背板沿X轴...
  • 本技术属于晶圆输送技术领域,具体涉及一种上料装置,包括:翻转副,翻转副的活动端与活动架的端部铰接,其中初始状态下,竖板处于竖直状态,横板处于水平状态,花篮的下部被横板承托,花篮的开口朝上;当活动端处于最小行程时,竖板处于水平状态,横板处...
  • 本技术属于晶圆翻转技术领域,具体涉及一种晶圆翻转装置,本装置包括:支撑架,支撑架上转动设置有安装板,安装板的前端设置有被动柱,被动柱上套设有被动齿轮,安装板的后端设置有夹持组件,夹持组件包括一对夹持板,夹持板滑动设置在安装板的后端;支撑...
  • 本技术公开了一种取料检测装置,壳体相对未发生伸缩运动前的取料叉的位置设有支撑框架;所述支撑框架的顶部沿着取料叉的伸缩方向的两侧且对应晶圆的边缘均设有多个垂直检测器,壳体对应每个垂直检测器均设有激光接收器;所述支撑框架对应位于上部的取料叉...
  • 本发明公开了一种晶圆清洗机及晶圆清洗方法,包括晶圆上下料工位、晶圆清洗室,还包括位于所述上下料工位与所述晶圆清洗室之间的晶圆翻转装置,所述晶圆翻转装置两侧设置有晶圆暂存装置,所述晶圆清洗室包括正面清洗室及背面清洗室,所述正面清洗室及所述...
  • 本技术属于晶圆清洗技术领域,具体涉及一种供液装置,包括:药液中间容器,从上部向内腔接通有至少一个气管和至少一个进液管,其内腔向下部设置有排液管;阀门组件,包括设置在气管处的气阀;气阀开启时,通过气管向内腔通入气体以使腔体内处于正压并通过...
  • 本技术属于机械手设备技术领域,具体涉及一种防撞机械手,包括:触发线和感应组件;触发线的另一端与感应组件连接;感应组件包括触发板、感应器和拉伸弹簧;触发板设置在触发线的另一端上,触发板上设置有豁口,其中,初始状态下,所述触发线处于拉紧状态...
  • 本技术属于晶圆输送技术领域,具体涉及一种传输装置,包括:输送组件包括“L”形的输送座、升降组件和夹持组件;输送座滑动设置在支撑导轨上,升降组件设置在输送座的横板上,夹持组件包括夹持支撑板和一对夹持臂,夹持支撑板设置在升降组件的输出端上,...
  • 本技术提供了一种晶圆取料装置,包括竖直设置的安装板,安装于安装板侧部的动力传输机构,以及带动抓取机械臂沿水平方向移动的抓取机械臂;抓取机械臂包括定位延伸臂、锁定结构以及传输连接臂,定位延伸臂设有用于夹持晶圆边缘的第一夹取部,锁定结构包括...
  • 本技术公开了一种计量泵,包括:壳体,设置在壳体内的定量泵和运动机构,在壳体一侧还连有连接头。本技术通过在第二腔室内设置定量囊,第一腔室内设置驱动机构,通过气管向第一腔室内注入或排出气体驱动运动机构反复运动,从而实现挤压定量囊,定量囊从收...
  • 本技术属于晶圆输送技术领域,具体涉及一种下料装置,包括:底架,底架的顶部转动设置有托盘,托盘的上部设置有卡设组件,卡设组件适于卡设花篮;倾斜副,倾斜副包括驱动件和联动组件;驱动件设置在底架内,联动组件的一端与托盘的下部连接,联动组件的另...
  • 本技术涉及半导体工艺技术领域,具体涉及一种清洗托架装置,本装置包括:清洗槽;和托架倾斜机构,其包括:固定架,其固定延伸杆与第一拉杆的一端铰接,所述第一拉杆的另一端伸入清洗槽内且与支架底板的一侧铰接;升降活动架,其活动延伸杆与第二拉杆的一...
  • 本发明公开了晶圆清洗机,包括晶圆上下料装置及清洗装置,所述晶圆上下料装置包括晶圆传送装置,所述晶圆传送装置包括晶圆对齐装置。本发明通过晶圆上下料装置、晶圆传送装置、晶圆对齐装置及清洗装置的合理布局、配合工作,使得晶圆的清洁效率高,保证清...
  • 本发明公开了一种自动暂存上下料装置及清洗设备。本发明提出的自动暂存上下料装置,包括取料机构、翻转机构和暂存机构,取料机构将一个花篮内的多片晶圆取出转移至翻转机构,通过翻转机构使多片晶圆从水平状态转换为竖直状态。翻转机构包括翻转组件和晶圆...
  • 本技术属于驱动领域,具体涉及一种喷淋臂驱动装置,包括:支撑板,所述支撑板上设置有升降部与转动部;升降部包括升降杆和升降板;升降杆滑动设置在支撑板上,升降板固定设置在升降杆的底部;转动部包括转动设置在支撑板上的转动轴,以及,转动轴的底部插...
  • 本发明公开了一种晶圆清洗装置。本发明通过设置第一混液仓和第三混液仓,第一混液仓与第三混液仓连通,且与第一混液仓和第三混液仓连接的进液管道分别设有第三阀门控制进入第一混液仓和第三混液仓内药液的流量,药液在第一混液仓内混合后,再次进入第三混...
  • 本技术属于卡盘技术领域,具体涉及一种半导体卡盘及支撑PIN,包括:转盘和若干支撑PIN;所述支撑PIN设置在所述转盘的顶面上,并且所述支撑PIN偏心设置;所述支撑PIN适于支撑晶圆;实现了晶圆旋转时只与两个支撑PIN同时接触,这样晶圆的...
  • 本发明公开了一种等离子发射装置、等离子体处理装置。其中等离子发射装置,包括射频电力分配电路和至少一个等离子天线,等离子天线包括至少两个天线部,所述天线部按序排布,使得所述等离子天线呈螺旋状;每个天线部串联一与该天线部一一对应设置的阻抗调...
  • 本技术涉及自动化生产领域,具体涉及一种上下料机构。本技术实施例提供了一种上下料机构,包括:活动板,所述活动板上具有若干放置工位;以及一个放置工位一侧安装有一个校正组件。片篮放置到放置工位后,所述校正组件的活动端顶推片篮,以使片篮摆正。通...