本发明公开了一种晶圆清洗机及晶圆清洗方法，包括晶圆上下料工位、晶圆清洗室，还包括位于所述上下料工位与所述晶圆清洗室之间的晶圆翻转装置，所述晶圆翻转装置两侧设置有晶圆暂存装置，所述晶圆清洗室包括正面清洗室及背面清洗室，所述正面清洗室及所述...

本技术属于晶圆清洗技术领域，具体涉及一种供液装置，包括：药液中间容器，从上部向内腔接通有至少一个气管和至少一个进液管，其内腔向下部设置有排液管；阀门组件，包括设置在气管处的气阀；气阀开启时，通过气管向内腔通入气体以使腔体内处于正压并通过...

本技术属于机械手设备技术领域，具体涉及一种防撞机械手，包括：触发线和感应组件；触发线的另一端与感应组件连接；感应组件包括触发板、感应器和拉伸弹簧；触发板设置在触发线的另一端上，触发板上设置有豁口，其中，初始状态下，所述触发线处于拉紧状态...

本技术提供了一种晶圆取料装置，包括竖直设置的安装板，安装于安装板侧部的动力传输机构，以及带动抓取机械臂沿水平方向移动的抓取机械臂；抓取机械臂包括定位延伸臂、锁定结构以及传输连接臂，定位延伸臂设有用于夹持晶圆边缘的第一夹取部，锁定结构包括...

本技术公开了一种计量泵，包括：壳体，设置在壳体内的定量泵和运动机构，在壳体一侧还连有连接头。本技术通过在第二腔室内设置定量囊，第一腔室内设置驱动机构，通过气管向第一腔室内注入或排出气体驱动运动机构反复运动，从而实现挤压定量囊，定量囊从收...

本技术属于晶圆输送技术领域，具体涉及一种下料装置，包括：底架，底架的顶部转动设置有托盘，托盘的上部设置有卡设组件，卡设组件适于卡设花篮；倾斜副，倾斜副包括驱动件和联动组件；驱动件设置在底架内，联动组件的一端与托盘的下部连接，联动组件的另...

本技术涉及半导体工艺技术领域，具体涉及一种清洗托架装置，本装置包括：清洗槽；和托架倾斜机构，其包括：固定架，其固定延伸杆与第一拉杆的一端铰接，所述第一拉杆的另一端伸入清洗槽内且与支架底板的一侧铰接；升降活动架，其活动延伸杆与第二拉杆的一...

本发明公开了晶圆清洗机，包括晶圆上下料装置及清洗装置,所述晶圆上下料装置包括晶圆传送装置，所述晶圆传送装置包括晶圆对齐装置。本发明通过晶圆上下料装置、晶圆传送装置、晶圆对齐装置及清洗装置的合理布局、配合工作，使得晶圆的清洁效率高，保证清...

本发明公开了一种自动暂存上下料装置及清洗设备。本发明提出的自动暂存上下料装置，包括取料机构、翻转机构和暂存机构，取料机构将一个花篮内的多片晶圆取出转移至翻转机构，通过翻转机构使多片晶圆从水平状态转换为竖直状态。翻转机构包括翻转组件和晶圆...

本技术属于驱动领域，具体涉及一种喷淋臂驱动装置，包括：支撑板，所述支撑板上设置有升降部与转动部；升降部包括升降杆和升降板；升降杆滑动设置在支撑板上，升降板固定设置在升降杆的底部；转动部包括转动设置在支撑板上的转动轴，以及，转动轴的底部插...

本发明公开了一种晶圆清洗装置。本发明通过设置第一混液仓和第三混液仓，第一混液仓与第三混液仓连通，且与第一混液仓和第三混液仓连接的进液管道分别设有第三阀门控制进入第一混液仓和第三混液仓内药液的流量，药液在第一混液仓内混合后，再次进入第三混...

本技术属于卡盘技术领域，具体涉及一种半导体卡盘及支撑PIN，包括：转盘和若干支撑PIN；所述支撑PIN设置在所述转盘的顶面上，并且所述支撑PIN偏心设置；所述支撑PIN适于支撑晶圆；实现了晶圆旋转时只与两个支撑PIN同时接触，这样晶圆的...

本发明公开了一种等离子发射装置、等离子体处理装置。其中等离子发射装置，包括射频电力分配电路和至少一个等离子天线，等离子天线包括至少两个天线部，所述天线部按序排布，使得所述等离子天线呈螺旋状；每个天线部串联一与该天线部一一对应设置的阻抗调...

本技术涉及自动化生产领域，具体涉及一种上下料机构。本技术实施例提供了一种上下料机构，包括：活动板，所述活动板上具有若干放置工位；以及一个放置工位一侧安装有一个校正组件。片篮放置到放置工位后，所述校正组件的活动端顶推片篮，以使片篮摆正。通...

本技术属于晶圆清洗设备技术领域，具体涉及一种自洁净的密闭式开合门，包括：箱体；箱体的顶部设置有进风部，箱体的底部设置有排风部，箱体的一个侧壁设置有开口；箱体的开口端设置有门板组件，门板组件内部中空，并且门板组件与进风部和所述排风部连通；...

本技术涉及一种半导体移载领域，具体涉及一种晶圆翻转装置，包括：翻转底座；转动设置在所述翻转底座上的旋转轴，所述旋转轴上套设有旋转法兰，所述旋转法兰的侧壁一体设置有法兰支板，所述法兰支板上设置有旋转支板，所述旋转支板的底部设置有固定块，所...

本技术属于喷淋臂技术领域，具体涉及一种喷淋臂驱动装置，包括：底座本体，转动设置在所述底座本体的喷淋臂，所述喷淋臂的端部贯穿并伸出所述底座本体；所述底座本体顶部设置有旋转电机，所述旋转电机的输出轴贯穿所述底座本体，以及所述旋转电机的输出轴...

本技术属于升降结构技术领域，具体涉及一种晶圆清洗机升降结构，包括：底座本体；滑动设置在所述底座本体上的若干组升降轴，所述升降轴贯穿所述底座本体，所述升降轴的顶部设置有卡设柱；设置在每组所述升降轴的顶部的环形的罩盖，所述罩盖的底部开设有卡...

本技术涉及半导体工艺设备技术领域，具体涉及一种清洗设备回收系统，包括：回收底座；所述回收底座上设有第一回收机构和第二回收机构；所述第一回收机构包括环状的第一通道和第二通道以及与所述第一通道和所述第二通道连通的第一收集器；所述第二回收机构...

本技术属于供液领域，具体涉及一种供液管，包括：供液管本体，所述供液管本体的一端设置有进水口；所述供液管本体的侧壁设置有若干组出液孔；其中，远离所述进水口的每组所述出液孔的直径依次增大，有益效果：出液孔用于将液体喷出达到精细供液的效果，出...