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川宝科技股份有限公司专利技术
川宝科技股份有限公司共有39项专利
决定基板的转向的方法与曝光机台技术
一种决定基板的转向的方法与曝光机台,该方法包含:将基板放置并定位于承载面上,使基板的第二表面面向承载面,基板的第一表面背向承载面且基板的第二表面上的第二标记对应于固定的第二图像捕获设备。通过承载面上方的第一图像捕获设备寻找第一表面上的第...
曝光机台制造技术
本申请提供一种曝光机台,包含一工作腔室、一第一底片框架与一第二底片框架。第一底片框架适于在工作腔室之外的一第一位置与在工作腔室之内的一第二位置之间移动。第二底片框架适于在工作腔室之外的一第三位置与在工作腔室之内的第四位置之间移动。当第一...
自动化的基板加工方法与加工设备技术
本发明提供一种自动化的基板加工方法,包括以下步骤。首先,将一第一基板移动至一加工位置。接着,从加工位置处移除第一基板。接着,将一第二基板移动至加工位置,并且翻转第一基板。接着,从加工位置处移除第二基板。接着,将翻转后的第一基板移动至加工...
双载台曝光机制造技术
本发明涉及曝光器械领域,具体提供一种双载台曝光机,包括输送装置、光源产生装置以及送料装置。所述输送装置具有机座、第一传送机构以及第二传送机构,机座具有第一带动单元及第二带动单元,第一传送机构具有第一座体、第一升降单元及第一承载单元,第二...
双载台曝光机制造技术
本实用新型涉及曝光器械领域,具体提供一种双载台曝光机,包括输送装置、光源产生装置以及送料装置。所述输送装置具有机座、第一传送机构以及第二传送机构,机座具有第一带动单元及第二带动单元,第一传送机构具有第一座体、第一升降单元及第一承载单元,...
发光均匀度校正设备及其校正方法技术
本发明公开一种发光均匀度校正设备,适用于对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正。透过感测模块于对应发光模块所分布的各个取样位置感测产生光强度讯号,处理模块根据这些光强度讯号来分析该发光模块的发光均匀度,并于该发光模块的发光均匀度不符合一均...
曝光机的扫描光源的控制方法及电脑程序产品技术
本发明揭露一种曝光机的扫描光源的控制方法及其计算机程序产品,运作于具有多个发光组件组成的灯条的曝光机中以对光阻进行曝光,包含:设定单次扫描所需的曝光能量值;提供增益先决模式或时间先决模式的设定;及依据所设定的模式驱动该灯条执行曝光扫描。...
标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机制造方法及图纸
本发明的标靶影像对位装置包含两个维移载单元及光学检测单元,二维移载单元包括第一滑轨、第一滑座、第二滑轨及第二滑座,第一滑轨用于设置于曝光机上且位于对位位置的邻侧,并以其滑动方向平行于第一方向的方式配置;第一滑座可移动地设置于第一滑轨上以...
标靶影像对位装置及具有该装置的曝光机制造方法及图纸
本实用新型的标靶影像对位装置包含两个维移载单元及光学检测单元,二维移载单元包括第一滑轨、第一滑座、第二滑轨及第二滑座,第一滑轨用于设置于曝光机上且位于对位位置的邻侧,并以其滑动方向平行于第一方向的方式配置;第一滑座可移动地设置于第一滑轨...
发光均匀度校正设备制造技术
本实用新型公开一种发光均匀度校正设备,适用于对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正。通过感测模块于对应发光模块所分布的各个取样位置感测产生光强度信号,处理模块根据这些光强度信号来分析该发光模块的发光均匀度,并于该发光模块的发光均匀度不符合...
曝光机的曝光平台制造技术
本发明公开一种曝光机的曝光平台,包含曝光框、载台、多个升降单元及透光板;其中,载台可相对曝光框接近或远离,载台的上表面具有容置区,容置区用于放置基板并使曝光光源的入射光投射至基板;升降单元设置于曝光框上;透光板与升降单元的夹具结合,透光...
张力控制装置制造方法及图纸
本实用新型提供一种张力控制装置,应用于控制制程中被卷动拉引的光学膜的张力,包含基座、导轨单元、第一滑块、张力轮单元、位置感测单元、支撑轨及第二滑块,导轨单元和支撑轨设置在基座的承架上,第一滑块可移动地设置在导轨单元上且第二滑块可移动地设...
曝光框对位装置制造方法及图纸
本实用新型的曝光框对位装置包括支撑架和多个调整单元,调整单元设置于该支撑架上并连接曝光框,每个调整单元包括基座、第一滑块、线性驱动器、第二滑块及万向接头,第一滑块可水平滑动地设置于基座上且具有第一斜面,第二滑块可垂直滑动地设置于基座上且...
曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法技术
一种曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法,其可改善曝光机曝光能量的均匀性,本发明主要利用处理单元及多个光能量感测单元,之后使曝光机的多个曝光装置分别对这些光能量感测单元投光,并使处理单元记录这些曝光装置的投光能量,并计算出这些投光...
曝光机曝光路径的检测方法及应用其的曝光方法技术
一种曝光机曝光路径的检测方法及应用其的曝光方法,其可提升曝光机曝光的准确度。本发明主要利用处理单元、直线移动距离测量单元、影像撷取单元及标准基板,标准基板设有具有多个标记的标记组,这些标记沿直线方向间隔排列,影像撷取单元与标准基板沿直线...
曝光机的曝光平台制造技术
本实用新型公开一种曝光机的曝光平台,包含曝光框、载台、多个升降单元及透光板;其中,载台可相对曝光框接近或远离,载台的上表面具有容置区,容置区用于放置基板并使曝光光源的入射光投射至基板;升降单元设置于曝光框上;透光板与升降单元的夹具结合,...
曝光机光罩结构的水平角度调整机构及方法技术
一种曝光机光罩结构的水平角度调整机构及方法,其可调整光罩结构的水平角度,本发明利用至少三个水平向驱动部、至少三个水平向驱动源、至少三个垂直向被动部及至少三个万向接头,其中,水平向驱动部水平活动设置于曝光机且具有第一斜面连接单元,垂直向被...
判断印刷电路板底片是否存在装配误差的系统及方法技术方案
一种判断印刷电路板底片是否存在装配误差的系统及方法,其可改善制造印刷电路板的合格率,本发明主要是在印刷电路板底片设置靶标,在透光板体设置参考靶,接着将印刷电路板底片附着于透光板体,之后再利用摄像单元拍摄参考靶及靶标,最后再利用处理单元计...
曝光机的双面感光电路板的对位装置制造方法及图纸
一种曝光机的双面感光电路板的对位装置,其可提高双面电路板上电路位置的精度,本实用新型利用对位处理单元、多个制作靶目标发光单元及多个靶标影像撷取单元,对位处理单元、制作靶目标发光单元及靶标影像撷取单元设置于曝光机,靶标影像撷取单元电连接对...
曝光机光罩结构的水平角度调整机构制造技术
一种曝光机光罩结构的水平角度调整机构,其可调整光罩结构的水平角度,本实用新型利用至少三个水平向驱动部、至少三个水平向驱动源、至少三个垂直向被动部及至少三万向接头,其中,水平向驱动部水平活动设置于曝光机且具有第一斜面连接单元,垂直向被动部...
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