本发明公开了一种电芯结构及具有其的电池，电芯结构，包括：极片，极片包括沿长度方向相对设置的第一侧面和第二侧面；极耳，设置在极片上并与极片连接；其中，极耳包括第一极耳和第二极耳，第一极耳和第二极耳沿极片的长度方向间隔设置，第一极耳相对于第...

本技术公开了一种轴承防护罩及真空镀膜设备。轴承防护罩包括主体，所述主体包括沿第一方向依次设置的屏蔽部和连接部；其中，所述屏蔽部上设置有容置腔，所述容置腔至少用于容置安装有轴承的轴承座；所述连接部上设置有安装孔，所述安装孔与所述容置腔连通...

本技术公开了一种极片、电芯及电池，极片包括：集流体，集流体包括中心本体和端部本体；转接片，转接片包括第一片体和第二片体，第一片体贴合在端部本体的表面并与集流体连接，第一片体沿金属层的宽度方向延伸，第二片体包括相对设置的连接端和自由端，连...

本技术公开了一种成卷金属线材的相对辐射率测试装置，包括筒状底座，所述筒状底座中部沿径向设置有狭缝，所述狭缝用于并排放置金属线材，所述筒状底座上设置有用于将多个金属线材保持自然弯曲状态推向所述筒状底座内壁使得金属线材密布排布的推动机构，所...

本技术公开了一种泵液装置及溶铜设备。泵液装置包括容器、抽液泵以及管道组。所述容器包括用于容纳液体的容置腔；所述抽液泵设置于所述容器的外部，所述抽液泵包括入口端；所述管道组包括汇集管和至少两根支路管，所述汇集管的第一端与所述入口端连接，各...

本发明公开了一种导电膜、极片、储能装置、用电设备及导电膜制备方法，导电膜包括基材层、第一金属层以及第二金属层，沿第一方向，基材层包括第一表面和第二表面；第一金属层设置于第一表面；第二金属层设置于第二表面；其中，第一金属层和第二金属层两者...

本发明公开了一种导电膜、极片、电池、用电设备及导电膜制备方法。其中，导电膜包括基膜层、第一金属层、第二金属层以及隔离去除层。沿第一方向，所述基膜层包括第一表面和第二表面；所述第一金属层设置于所述第一表面；所述第二金属层设置于所述第二表面...

本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备。磁控溅射镀膜设备用于对基膜进行镀膜，磁控溅射镀膜设备包括主体、靶材组件、卷绕输送组件、阻隔件以及靶材原子流。主体上设置有真空腔；靶材组件设置于真空腔内；卷绕输送组件设置于真空腔内，卷绕输送组件包括镀膜辊...

本发明公开了一种检测装置及其检测方法。检测装置用于对待测薄膜表面的形变量进行检测，检测装置包括机架、驱动机构和检测机构。驱动机构设置于机架上；检测机构设置于驱动机构上，并在驱动机构的驱动下沿第一方向往复运动，检测机构包括安装座、转轴、检...

本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备。磁控溅射镀膜设备包括主体、靶材组件、卷绕输送组件、隔离组件以及气源。主体上设置有真空腔；靶材组件设置于真空腔内；卷绕输送组件设置于真空腔内；隔离组件包括安装支架、驱动机构以及阻隔件，阻隔件安装在安装支架...

本技术公开了一种镀膜装置及薄膜卷，包括第一放卷辊、第二放卷辊和收卷辊，所述第一放卷辊和所述第二放卷辊上分别放置有第一基膜卷和第二基膜卷，所述第一基膜卷和所述第二基膜卷上分别缠绕有第一薄膜和第二薄膜，所述第一薄膜镀膜后与所述第二薄膜收卷于...

本发明公开了一种导电膜加工方法、加工装置及导电膜，该导电膜加工方法包括：在真空环境下，将镀设有金属层的导电膜传送至电磁感应加热机构，并使导电膜沿自身厚度方向的至少一侧与电磁感应加热机构的感应器相对设置；通过向感应器提供电流来对金属层进行...

本技术公开了一种溶铜装置及导电金属薄膜生产设备。溶铜装置包括溶铜罐、过滤板、反射罩、扩散管以及泵液组件。所述溶铜罐设置有反应腔，所述反应腔的顶部设置有回流口；所述过滤板设置于所述反应腔并将所述反应腔分隔为上腔室和下腔室；所述反射罩包括凹...

本技术公开了一种导电辊辊面除铜装置，包括机架和除铜机构，机架内的底部设有两个呈左右相对设置的固定座，除铜机构包括设置在机架内的除铜组件，除铜组件包括双向气缸以及两个呈前后相对设置的除铜块，双向气缸位于两个固定座的上方并可在两个固定座之间...

本发明公开了一种导电膜、导电膜制备方法、极片、储能装置及用电设备，导电膜包括导电膜主体，沿第一方向，导电膜主体包括相互邻接的第一区域和第二区域，第一区域包括至少两个，第二区域包括至少一个，至少两个第一区域分别位于至少一个第二区域沿第一方...

本发明公开了一种导电膜、极片、储能装置、用电设备及导电膜制备方法，导电膜包括基材层、导电主体层以及隔离层，沿第一方向，基材层包括第一表面和第二表面；导电主体层包括第一金属层和第二金属层，第一金属层设置于第一表面，第二金属层设置于第二表面...

本发明公开了一种导电膜、极片、储能装置、用电设备及导电膜制备方法，导电膜包括基材层以及导电层，沿第一方向，基材层包括第一表面和第二表面；导电层包括第一金属层和第二金属层，第一金属层设置于第一表面，第二金属层设置于第二表面；其中，第一金属...

本发明提供一种具有全程夹膜功能的电镀装置，该电镀装置包括：依次设置的若干电镀槽，每个电镀槽中设置有电镀阳极；阴极导电单元，设置在若干电镀单元的两侧，用于在电镀过程将阴极电流传递至导电膜并夹持所述导电膜走带。本发明通过阴极导电单元全程夹膜...

本技术公开了一种溶铜罐控制装置及导电金属薄膜生产设备。溶铜罐控制装置包括溶铜罐、降温组件和/或泵液组件，溶铜罐设置有反应腔，反应腔的顶部设置有回流口；降温组件包括冷却水箱和冷却循环泵，冷却水箱设置于溶铜罐上，冷却循环泵与冷却水箱连接；泵...

本发明提供一种复合集流体的制备方法和复合集流体，该制备方法包括：获取导电膜；通过预镀膜机构对导电膜进行初步电镀；通过增厚镀膜机构对初步镀膜后的导电膜进行增厚镀膜，获得复合集流体；其中，预镀膜机构包括多个第一镀膜单元，每个第一镀膜单元均采...