本发明公开了一种导电夹铜刺消除系统及方法。导电夹铜刺消除系统用于对循环移动的导电夹上的铜刺进行消除。导电夹铜刺消除系统包括剥挂装置。剥挂装置包括储液机构、电解组件以及第一控制组件，其中，储液机构包括储液槽以用于储存剥挂液，储液槽侧壁上设...

本技术提供一种高附着力的复合集流体、极片和电池，该复合集流体包括：支撑层；改性层，设置在支撑层的至少一个表面并与支撑层为一体结构；打底层设置在改性层表面；导电层设置在打底层的表面。本实施例中，通过对支撑层的表面进行处理，在支撑层的表面形...

本技术公开了导电薄膜生产领域中的一种蒸发挡板装置及镀膜设备，蒸发挡板装置包括蒸发挡板、驱动机构、尺寸补偿机构，蒸发挡板设置在蒸发槽上方；驱动机构包括机架、两个滑动组件，机架安装在镀膜设备内，两个滑动组件对称设置在机架的两侧，每个滑动组件...

本技术公开了导电薄膜领域中的一种连杆式蒸发挡板及镀膜设备，连杆式蒸发挡板包括蒸发挡板本体、驱动机构、两个连杆机构，蒸发挡板本体的顶部设置有若干加固条；驱动机构包括机架、直线滑轨组件、驱动件、驱动杆，机架安装在镀膜设备内，蒸发挡板本体通过...

本技术公开了导电薄膜生产领域中的一种过辊调节机构，包括设置在真空仓板上的调节机构本体，调节机构本体包括横向调节组件、纵向调节组件；横向调节组件包括横向调节板、横向调节部件，横向调节板通过横向调节部件设置真空仓板上，以对过辊的水平位置进行...

本技术提供一种刀套机构、薄膜分切装置和薄膜生产设备，该刀套机构包括：相对设置的第一刀套和第二刀套，其中，第一刀套与第二刀套之间设置有空隙；第一刀套与空隙相邻的一侧的顶部的边缘为圆角。本技术实施例中，由于第一刀套的边缘为圆角，所以薄膜在空...

本技术提供了一种电镀装置，包括：设置在所述电镀装置的入口处的放卷端、设置在所述放卷端一侧的电镀槽、设置在所述电镀槽另一侧的溢流槽以及设置在所述电镀装置出口处的收卷端；所述电镀槽的上方设置有电镀阳极，所述电镀阳极包括上阳极和下阳极；所述上...

本技术公开了一种复卷机，其包括侧板、放卷辊、用于收卷薄膜的收卷辊和转动安装于侧板上用于压紧收卷辊的压辊，所述放卷辊与所述压辊之间设置有若干过辊，所述收卷辊两端设置有驱动机构，所述驱动机构用以驱动收卷辊朝靠近或远离压辊的方向运动。本申请具...

本技术公开了一种真空吸液辊及电镀设备，包括抽液管，所述抽液管的壁面上开设有抽液通道，所述抽液管的外侧套设有吸水层，所述抽液管通过出液管道与储液槽连通，所述储液槽上半部分一侧通过抽气管道与真空泵连通。本技术通过抽液管将吸水层中的镀液吸走，...

本技术公开了一种电镀设备，包括吸液机构，所述吸液机构包括第一吸液辊和第二吸液辊，所述第一吸液辊与薄膜表面接触，以吸收所述薄膜表面夹带的电镀液，所述第二吸液辊周围还设置有挤液机构，所述挤液机构驱动所述第二吸液辊压向所述第一吸液辊，以吸收所...

本发明公开了一种电芯结构及具有其的电池，电芯结构，包括：极片，极片包括沿长度方向相对设置的第一侧面和第二侧面；极耳，设置在极片上并与极片连接；其中，极耳包括第一极耳和第二极耳，第一极耳和第二极耳沿极片的长度方向间隔设置，第一极耳相对于第...

本技术公开了一种轴承防护罩及真空镀膜设备。轴承防护罩包括主体，所述主体包括沿第一方向依次设置的屏蔽部和连接部；其中，所述屏蔽部上设置有容置腔，所述容置腔至少用于容置安装有轴承的轴承座；所述连接部上设置有安装孔，所述安装孔与所述容置腔连通...

本技术公开了一种极片、电芯及电池，极片包括：集流体，集流体包括中心本体和端部本体；转接片，转接片包括第一片体和第二片体，第一片体贴合在端部本体的表面并与集流体连接，第一片体沿金属层的宽度方向延伸，第二片体包括相对设置的连接端和自由端，连...

本技术公开了一种成卷金属线材的相对辐射率测试装置，包括筒状底座，所述筒状底座中部沿径向设置有狭缝，所述狭缝用于并排放置金属线材，所述筒状底座上设置有用于将多个金属线材保持自然弯曲状态推向所述筒状底座内壁使得金属线材密布排布的推动机构，所...

本技术公开了一种泵液装置及溶铜设备。泵液装置包括容器、抽液泵以及管道组。所述容器包括用于容纳液体的容置腔；所述抽液泵设置于所述容器的外部，所述抽液泵包括入口端；所述管道组包括汇集管和至少两根支路管，所述汇集管的第一端与所述入口端连接，各...

本发明公开了一种导电膜、极片、储能装置、用电设备及导电膜制备方法，导电膜包括基材层、第一金属层以及第二金属层，沿第一方向，基材层包括第一表面和第二表面；第一金属层设置于第一表面；第二金属层设置于第二表面；其中，第一金属层和第二金属层两者...

本发明公开了一种导电膜、极片、电池、用电设备及导电膜制备方法。其中，导电膜包括基膜层、第一金属层、第二金属层以及隔离去除层。沿第一方向，所述基膜层包括第一表面和第二表面；所述第一金属层设置于所述第一表面；所述第二金属层设置于所述第二表面...

本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备。磁控溅射镀膜设备用于对基膜进行镀膜，磁控溅射镀膜设备包括主体、靶材组件、卷绕输送组件、阻隔件以及靶材原子流。主体上设置有真空腔；靶材组件设置于真空腔内；卷绕输送组件设置于真空腔内，卷绕输送组件包括镀膜辊...

本发明公开了一种检测装置及其检测方法。检测装置用于对待测薄膜表面的形变量进行检测，检测装置包括机架、驱动机构和检测机构。驱动机构设置于机架上；检测机构设置于驱动机构上，并在驱动机构的驱动下沿第一方向往复运动，检测机构包括安装座、转轴、检...

本发明公开了一种磁控溅射镀膜设备。磁控溅射镀膜设备包括主体、靶材组件、卷绕输送组件、隔离组件以及气源。主体上设置有真空腔；靶材组件设置于真空腔内；卷绕输送组件设置于真空腔内；隔离组件包括安装支架、驱动机构以及阻隔件，阻隔件安装在安装支架...