本实用新型是一种沉积薄膜制程中的晶圆承载装置，包括：一反应室；一加热座，设在所述的反应室内；一静电吸盘，固定在所述的加热座顶面，用来吸附固定一晶圆；一沉积环，固定在所述的静电吸盘的外圆周；一低位护罩，固定在所述的沉积环的外圆周，其具有一...

一种热处理用晶圆支持器，包括：一体相连的一固定部以及一延伸部；该延伸部开放端设一晶圆支托部，该晶圆支托部包括半球珠以及滚轮，半球珠系一体成型的设在晶圆支托部顶面；该延伸部设一扣夹枢设孔，供一扣夹的端部定位其中，该扣夹沿着该延伸部，其开放...