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常州瑞丰特科技有限公司专利技术
常州瑞丰特科技有限公司共有55项专利
基于反射式光栅尺的高精度加速度传感器制造技术
本实用新型公开了一种基于反射式光栅尺的高精度加速度传感器,包括:外壳、导轨、信号生成模块、反射式光栅尺、限位机构、信号处理模块、蓝牙模块、电源模块、顶盖和导轨滑块,信号生成模块粘贴在外壳内部,导轨固定在外壳内部的凸台上,导轨上装配有导轨...
高容差光栅读数头制造技术
本实用新型公开了一种高容差光栅读数头,包括:指示光栅、反射式主光栅和成像面,入射光照射到反射式主光栅上,在每条线纹反光处发生衍射现象,衍射光与入射光在指示光栅后方的Talbot平面处发生干涉成像得到Talbot成像面,由半导体感光元件接...
匀光装置制造方法及图纸
本实用新型公开了一种匀光装置,该匀光装置包括:第一电极板、第二电极板、第三电极板、第四电极板、基底和液态透镜,基底上设置有第一电极板、第二电极板、第三电极板和第四电极板,第一电极板和第二电极板组成第一组平行板电容器,第三电极板和第四电极...
匀光装置及其制备方法制造方法及图纸
本发明公开了一种匀光装置及其制备方法,该匀光装置包括:第一电极板、第二电极板、第三电极板、第四电极板、基底和液态透镜,基底上设置有第一电极板、第二电极板、第三电极板和第四电极板,第一电极板和第二电极板组成第一组平行板电容器,第三电极板和...
利用电场操控空穴分布制造闪耀光栅的方法技术
本发明公开了一种利用电场操控空穴分布制造闪耀光栅的方法,包括以下步骤:(1)对硅片进行浸泡亲水处理,冲洗,吹干,烘干;去除硅片表面残留的有机物;经过匀胶、显影、溅射、剥离半导体工艺获得图形化的金属薄膜,配置刻蚀溶液,在水浴中制备闪耀光栅...
基于磁场可调控闪耀光栅的制造方法技术
本发明公开了一种基于磁场可调控闪耀光栅的制造方法,包括以下步骤:硅模具的制造:在清洗干净的硅片表面溅射一层金属薄膜A,然后涂胶、曝光、显影、腐蚀金属薄膜A、干法刻蚀硅制备硅模具A;按照同样的步骤,制备模具B;翻模制备柔性磁性聚合物栅线;...
电场诱导成型可调制液态光栅的制造方法技术
本发明公开了一种电场诱导成型可调制液态光栅的制造方法,包括以下步骤:诱导模板和基材的制备:在基底上形成带有周期性栅状凸起结构的诱导模板与带有周期性栅状凸起结构的基材;基材的处理:首先处理基材表面,然后制得一层聚合物薄膜层,接着制成过渡材...
二维电容式低频振动传感器及其制备方法技术
本发明公开了一种二维电容式低频振动传感器及其制备方法,该传感器包括:第一电极板、第二电极板、第三电极板、第四电极板、基底和液滴,基底上设置有第一电极板、第二电极板、第三电极板和第四电极板,第一电极板和第二电极板组成第一组平行板电容器,第...
高容差光栅读数头制造技术
本发明公开了一种高容差光栅读数头,包括:指示光栅、反射式主光栅和成像面,入射光照射到反射式主光栅上,在每条线纹反光处发生衍射现象,衍射光与入射光在指示光栅后方的Talbot平面处发生干涉成像得到Talbot成像面,由半导体感光元件接收到...
基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法技术
本发明公开了一种基于可调制LCD掩模的多码道光栅尺的制造方法,包括以下步骤:掩模板的预处理:在长方形LCD掩模板的正面靠近四个角的地方形成带有十字图样和光栅条纹图样的绝对对正标记;曝光前的准备:对整个光栅基材进行清洗、溅射、前烘和涂胶的...
基于光栅测量技术的一体式直线运动定位系统的制备方法技术方案
本发明公开了一种基于光栅测量技术的一体式直线运动定位系统的制备方法,包括以下步骤:直线运动部件上光栅线纹的制造:对直线运动部件表面进行研磨、抛光,然后在其表面上制作光栅线纹结构;光栅线纹保护膜涂覆:在光栅线纹表面涂覆一层SiO2保护膜;...
基于反射式光栅尺的高精度加速度传感器制造技术
本发明公开了一种基于反射式光栅尺的加速度传感器,包括:外壳、导轨、信号生成模块、反射式光栅尺、限位机构、信号处理模块、蓝牙模块、电源模块、顶盖和导轨滑块,信号生成模块粘贴在外壳内部,导轨固定在外壳内部的凸台上,导轨上装配有导轨滑块,导轨...
精密电铸微复型金属微结构的制作方法技术
本发明公开了一种精密电铸微复型金属微结构的制作方法,包括以下步骤:母模具前处理;PDMS模具制作;PU模具制作;导电层制备:在真空环境下在PU模具上沉积一层导电金属薄膜;电铸微复型:将有导电层的PU模具置于电铸槽的电铸液中进行金属微结构...
基于石墨烯大比表面积柔性散热器的制造方法技术
本发明公开了一种基于石墨烯大比表面积柔性散热器的制造方法,包括以下步骤:制备高深宽比微米孔阵列模具;制备高深宽比的柔性微米散热柱阵列;制备顶端带有磁性聚合物微磁头的柔性微米散热柱阵列;制备表面多孔的顶端带有磁性聚合物微磁头的柔性微米散热...
基于电化学沉积的金属材料表面超疏水薄膜制备方法技术
本发明公开了一种基于电化学沉积的金属材料表面超疏水薄膜制备方法,包括以下步骤:导电基底的制备:在清洗干净的硬质基底上粘附导电薄膜,清洗、吹干、烘干;电铸液的配制;电化学沉积:阴极为制备的导电基底,阳极为磷铜板,电源类型为直流电源,电铸液...
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