本技术公开晶圆硅片定位设备技术领域，具体的说是一种晶圆硅片用定位装置，包括底座，所述底座顶端表面开设有可用于调节的滑孔，且滑孔有四组，所述滑孔内侧滑动安装有可用于调节的滑座，且底座内侧转动安装有可用于传动的盘体；当需要对晶圆硅片进行定位...

本技术公开了一种硅片烘干炉，包括烘干炉本体和方管，所述烘干炉本体的内炉壁处固定有方管，还包括侧导流机构，所述侧导流机构包括导入孔、风入管、安装环、主风导管、辅风导管、底通管、风机、背靠板、对斜板、导风弯片和L形支板，在方管之间的烘干炉本...