本技术公开了一种便于均匀加热磁力搅拌反应器，涉及磁力搅拌领域，包括有底座块、固定箱、搅拌罐体、缓冲座和磁力电机，底座块的顶部活动设置有固定箱，底座块的内部底端中心处开设有孔洞，固定箱的内部中心处设置有搅拌罐体，搅拌罐体的顶部中心处设置有...

本实用新型公开了一种反应釜搅拌装置，包括主转轴，主转轴靠近其顶端处的外侧对称固定有两个金属框架，金属框架上固定有浮沫拦截网，金属框架位于浮沫拦截网的底端固定有浮沫收集盒，浮沫收集盒上设有沥液孔，浮沫收集盒的内腔呈

本实用新型公开了一种釜式反应装置，包括釜体外壳，釜体外壳的内部靠近顶部处设有两个入料通道，两个入料通道顶部分别连接通向釜体外壳外侧的导料管，两个导料管分别安装有第一入料斗

本实用新型公开了一种高稳定性反应釜，包括反应釜主体，反应釜主体连通有排气口，排气口上套接有排气帽，排气帽连通有排气管，反应釜主体的侧壁固定有蓄水池，排气管通入到蓄水池内部，排气帽的端部固定有通入其内部的套体，套体的内部滑动连接有滑动套块...

本申请涉及压渗装置技术领域，尤其是涉及一种高温高压气体压渗装置的旋转机构，一种高温高压气体压渗装置的旋转机构，包括端盖

本实用新型公开了一种化学反应器的密封结构，包括预安装体、锁紧盖、弹性密封体、挤压弹簧和挤压板，预安装体的顶端设有温度传感器安装槽，预安装体的内部设有温度传感器探头插入孔，温度传感器探头插入孔和温度传感器安装槽连通，预安装体的顶端安装有锁...

本实用新型公开了一种方便下出料的反应釜，包括釜体，其特征在于：釜体的底端连通有下料口，下料口靠近其顶端处的两侧铰接连接有两个对称分布的密封板，下料口的内部位于密封板的下方对称安装有两个与下料口铰接连接的液压杆，液压杆的输出端与密封板铰接...

本申请涉及压力浸渗技术领域，涉及一种压渗装置的限位机构，其包括筒体、安装架、气动卡环和限位组件，安装架上开设有用于与筒体配合的通孔，筒体穿过限位孔并置于安装架上，限位组件包括第一限位件和第二限位件，第一限位件与筒体固定连接，第一限位件的...

本申请涉及金属基复合材料制备装置的领域，尤其是涉及一种压渗装置的炉盖驱动机构及压渗装置。压渗装置包括机架、炉体和炉盖，炉体固定在机架上，炉盖用于对炉体的顶部进行密封，炉盖的外侧固定有多个凸块。炉盖驱动机构安装在机架上，炉盖驱动机构用于控...

本发明公开了一种可降解高分子材料聚合反应实验装置，该装置包括：搅拌釜式反应单元、酯化反应单元、缩聚反应单元、以及用于分别控制搅拌釜式反应单元、酯化反应单元、控制单元；所述的酯化反应单元将分馏柱更换为二节，对上半节与下半节温度分开控制；所...

本申请涉及化工生产的领域，尤其涉及一种气液固三相稳态连续反应系统，包括：反应单元，包括用于盛纳气、液、固三相物质反应并获得既定产物的反应釜以及连接在所述反应釜上用于控制产物排放的控制阀；进气单元，与所述反应釜连接用于向所述反应釜供给气体...

本实用新型涉及一种软驱动磁耦搅拌高温高压反应釜。所述反应釜包括：反应釜本体；马达，其输出轴连接软轴的一端；软轴，其一端连接马达的输出轴，另一端连接磁力耦合器，包括软轴芯和软轴套管；磁力耦合器，与所述反应釜本体密封连接，其顶端连接软轴的另...

本实用新型公开了一种高温高压光化学反应器，包括：釜盖，其下部具有A状槽；釜体，其上部具有A状突出部分，所述A状突出部分容置在所述A状槽中，且所述釜盖和釜体固定在一起；压盖法兰，其位于所述釜盖上方且和所述釜盖相固定，在所述压盖法兰和所述釜...

本实用新型公开了一种微型磁力搅拌高压反应器，包括：釜体，其底部设置有磁力搅拌子；釜盖，其覆盖在所述釜体上且和所述釜体固定连接；底座，所述釜体设置在所述底座中，所述底座的侧壁为铸铝模块加热器，且所述铸铝模块加热器和所述釜体相接触，所述底座...